【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种电子器件和集成电路。技术背景近来,增加了对集成电路具有更大计算功率、更大集成密度以及附 加低功耗性能的需求。为了实现这些要求,深亚微米和纳米技术变得越 来越重要以降低晶体管几何尺寸,因此电子器件足够长的使用寿命要求低电源电压。然而,典型地CMOS集成电路需要驱动或者控制其他外部器 件,可能需要具有较大电压幅值的输入信号。例如,外部器件接口在3. 3V 下工作,而现有CM0S技术只能提供2.5V。因此,新的器件必须能够提 供3.3V的兼容输出信号。另一方面,器件可能输出3.3V的信号,需要 连接至CMOS集成电路,因此CMOS集成也必须能够接受3. 3V的输入信号。 换言之,新的2. 5V CMOS工艺集成电路或器件必须能够提供3. 3V的电源。 此外,3. 3V电源应连接至1. 8V CMOS工艺或者2. 5V电源电压应连接至 1.8VCM0S工艺。因此,需要集成电路在使用低电压CMOS工艺时在较高 电源电压下工作。然而,如果高电源直接作用于低电压MOS晶体管,可能导致晶体管 终端之间的过应力,诸如Vds、 Vgs和Vgd。这是有缺陷的,因 ...
【技术保护点】
一种电子器件,包括: CMOS电路(CC); 第一驱动电路(10),带有连在第一电压(vdde)和地之间的第一和第二PMOS晶体管(P1、P2)以及第一和第二NMOS晶体管(N1,N2),其中第一驱动电路(10)连至CMOS电路(CC);第二驱动电路(20),带有连在第一电压(vdde)和地之间的第三和第四PMOS晶体管(P3、P4)以及第三和第四NMOS晶体管(N3,N4); 所述第二驱动电路(20)是第一驱动电路(10)的互补电路,并且沿与第一驱动电路(10)的相反方向切换; 其中第二和第四PMOS晶体管(P2、P4)的栅极连在第一偏置电压(REFp),第二和第四NMO ...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:苏尼尔钱德拉,
申请(专利权)人:NXP股份有限公司,
类型:发明
国别省市:NL[荷兰]
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