【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种芯片,尤其涉及该芯片中开关控制电路。
技术介绍
由图1可见现有技术中CMOS开关由两部分组成,NMOS管Nl和 PMOS管Pl, NMOS的开关是由栅极2的电压高低决定。工作中NMOS 管Nl栅极2拉到高电平VDD,NMOS管Nl打开,栅极2拉到低电平GND, NMOS关断,PMOS管Pl的栅极5拉到低电平GND, PMOS管Pl打开, 栅极5拉到高电平VDD, PMOS管关断。由于采用P —衬底的CMOS工艺,所以NMOS管的衬底为P — 4始终 接地GND而PMOS管的衬底6是N阱,它的电压是浮动的.目前普遍的设 计是接VDD或接它的源3端;如果接了它的源端,PMOS管的开启电压 VTP会降低,相应的PMOS管的导道电阻会变小,这对开关导通是有利的; 可是这样连接也带来一个问题.开关在关断时(5接VDD)由于1.3端电压 的不确定,就有可能造成1端比3端电压高,这样的结果是1端到N阱6 端的二极管就会导通形成通路,开关就无法关断;如果将6端接到1端, 也会有同样的情况发生。另外一种线路结构就是将N阱6接VDD (图2), 这样在关断时就不会出 ...
【技术保护点】
一种芯片中模拟开关控制电路,包括:第一NMOS管、第一PMOS管;还包括:第二PMOS管、第三PMOS管、第四PMOS管;其特征在于:所述的第二PMOS管和第三PMOS管的栅极与第一PMOS管的栅极相接,所述的第二PMOS管和第三PMOS管的源极和衬底相连,并与第一PMOS管的衬底和第四PMOS管的漏极相接;第二PMOS管和第三PMOS管的漏极分别和第一PMOS管的源极和漏极相连;第四PMOS管的源极与VDD相接。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:戴忠伟,
申请(专利权)人:广芯电子技术上海有限公司,
类型:实用新型
国别省市:31[中国|上海]
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