连续真空镀膜系统及其功能单元和运行方法技术方案

技术编号:33954147 阅读:15 留言:0更新日期:2022-06-29 23:06
本发明专利技术公开了一种连续真空镀膜系统及其功能单元和运行方法。所述连续真空镀膜系统包括:上料室和下料室;以及多个功能单元,每个功能单元包括依次相连的第一过渡室、功能室和第二过渡室,所述上料室、多个所述功能单元和所述下料室依次相连,其中所述上料室和相邻的所述功能单元的所述第一过渡室相连,所述下料室和相邻的所述功能单元的所述第二过渡室相连,相邻两个所述功能单元中的一者的所述第二过渡室和相邻两个所述功能单元中的另一者的所述第一过渡室相连。根据本发明专利技术实施例的连续真空镀膜系统具有处理效率和处理量高、处理效果好、制造成本和制造难度低、运行成本低等优点。运行成本低等优点。运行成本低等优点。

【技术实现步骤摘要】
连续真空镀膜系统及其功能单元和运行方法


[0001]本专利技术涉及镀覆
,具体地,涉及连续真空镀膜系统及其功能单元和运行方法。

技术介绍

[0002]为了提高工件(例如燃料电池的金属双极板)的耐腐蚀性能,可以利用真空镀膜的方式在工件的表面镀覆薄膜或涂层。真空镀膜是一种生成薄膜材料的技术,在真空室内镀膜材料的原子或分子从表面离析出来打到被镀物体的表面上。真空镀膜一般是指用物理的方法沉积薄膜,主要有蒸发镀膜、离子镀和溅射镀膜。

技术实现思路

[0003]本专利技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此,本专利技术的实施例提出一种连续真空镀膜系统及其功能单元和运行方法。
[0004]根据本专利技术实施例的连续真空镀膜系统包括:上料室和下料室;以及多个功能单元,每个功能单元包括依次相连的第一过渡室、功能室和第二过渡室,所述上料室、多个所述功能单元和所述下料室依次相连,其中所述上料室和相邻的所述功能单元的所述第一过渡室相连,所述下料室和相邻的所述功能单元的所述第二过渡室相连,相邻两个所述功能单元中的一者的所述第二过渡室和相邻两个所述功能单元中的另一者的所述第一过渡室相连。
[0005]根据本专利技术实施例的连续真空镀膜系统具有处理效率和处理量高、处理效果好、制造成本和制造难度低、运行成本低的优点。
[0006]可选地,多个所述功能单元包括:清洗单元,所述清洗单元包括依次相连的第一过渡室、清洗室和第二过渡室,所述清洗单元的所述第一过渡室和所述上料室相连;第一镀膜单元,所述第一镀膜单元包括依次相连的第一过渡室、第一镀膜室和第二过渡室,所述第一镀膜单元的所述第一过渡室和所述清洗单元的所述第二过渡室相连;和第二镀膜单元,所述第二镀膜单元包括依次相连的第一过渡室、第二镀膜室和第二过渡室,所述第二镀膜单元的所述第一过渡室和所述第一镀膜单元的所述第二过渡室相连,所述第二镀膜单元的所述第二过渡室和所述下料室相连。
[0007]可选地,所述第一镀膜室内设有第一靶材,所述第二镀膜室内设有第二靶材,所述第一靶材和所述第二靶材中的每一者的数量小于等于第一预设值,可选地,所述第一镀膜室内设有两个所述第一靶材,两个所述第一靶材在所述第一镀膜室的宽度方向上相对设置,所述第二镀膜室内设有两个所述第二靶材,两个所述第二靶材在所述第二镀膜室的宽度方向上相对设置。
[0008]可选地,所述第一镀膜室为磁控溅射镀膜室,所述第二镀膜室为磁控溅射镀膜室或电弧离子镀膜室。
[0009]可选地,所述连续真空镀膜系统进一步包括冷却室,所述冷却室设在所述第二镀
膜单元的所述第二过渡室与所述下料室之间,所述冷却室与所述第二镀膜单元的所述第二过渡室和所述下料室中的每一者相连。
[0010]可选地,所述上料室和相邻的所述功能单元的所述第一过渡室可拆卸地相连;和/或所述下料室和相邻的所述功能单元的所述第二过渡室可拆卸地相连;和/或相邻两个所述功能单元中的一者的所述第二过渡室和相邻两个所述功能单元中的另一者的所述第一过渡室可拆卸地相连。
[0011]可选地,所述功能室与所述第一过渡室和所述第二过渡室中的每一者可拆卸地相连。
[0012]可选地,所述上料室、所述下料室和所述功能单元中的每一者沿预设方向可移动地设置。
[0013]可选地,所述第一过渡室的宽度小于所述上料室、所述下料室和所述功能室中的至少一者的宽度;和/或所述第二过渡室的宽度小于所述上料室、所述下料室和所述功能室中的至少一者的宽度。
[0014]根据本专利技术实施例的用于连续真空镀膜系统的功能单元包括依次相连的第一过渡室、功能室和第二过渡室,所述功能室为清洗室或镀膜室。
[0015]通过利用根据本专利技术实施例的功能单元,可以提高连续真空镀膜系统的处理效率、处理量和处理效果,降低连续真空镀膜系统的制造成本、制造难度低和运行成本低。
[0016]可选地,所述镀膜室为磁控溅射镀膜室或电弧离子镀膜室,所述镀膜室内设有靶材,所述靶材的数量小于等于第一预设值,可选地,所述镀膜室内设有两个所述靶材,两个所述靶材在所述镀膜室的宽度方向上相对设置。
[0017]可选地,所述功能室与所述第一过渡室和所述第二过渡室中的每一者可拆卸地相连,所述功能室、所述第一过渡室和所述第二过渡室中的每一者沿预设方向可移动地设置。
[0018]可选地,所述第一过渡室的宽度小于所述功能室的宽度,和/或所述第二过渡室的宽度小于所述功能室的宽度。
[0019]根据本专利技术实施例的连续真空镀膜系统的运行方法,包括以下步骤:
[0020]工件通过进料室进入到功能单元内;
[0021]在所述功能单元内对工件进行处理,在至少一个所述功能单元内对所述工件进行多次处理,其中对所述工件进行一次处理后,先使所述工件进入到相应的第一过渡室或第二过渡室内,然后使所述工件再次进入到相应的功能室内以便进行再次处理;和
[0022]处理完毕后的工件通过出料室输出。
[0023]通过利用根据本专利技术实施例的连续真空镀膜系统的运行方法,可以提高连续真空镀膜系统的处理效率、处理量和处理效果,降低连续真空镀膜系统的运行成本低。
附图说明
[0024]图1是根据本专利技术实施例的连续真空镀膜系统的结构示意图。
[0025]图2是根据本专利技术实施例的连续真空镀膜系统的功能单元的结构示意图。
具体实施方式
[0026]下面详细描述本专利技术的实施例,所述实施例的示例在附图中示出。下面通过参考
附图描述的实施例是示例性的,旨在用于解释本专利技术,而不能理解为对本专利技术的限制。
[0027]如图1和图2所示,根据本专利技术实施例的连续真空镀膜系统100包括上料室2、下料室3和多个功能单元1。每个功能单元1包括依次相连的第一过渡室11、功能室12和第二过渡室13,即功能室12位于第一过渡室11与第二过渡室13之间。上料室2、多个功能单元1和下料室3依次相连,即上料室2、功能单元1、......、功能单元1和下料室3依次排列。
[0028]上料室2和相邻的功能单元1的第一过渡室11相连,下料室3和相邻的功能单元1的第二过渡室13相连。换言之,上料室2和多个功能单元1中的与其相邻的一者的第一过渡室11相连,下料室3和多个功能单元1中的与其相邻的一者的第二过渡室13相连。相邻两个功能单元1中的一者的第二过渡室13和相邻两个功能单元1中的另一者的第一过渡室11相连,即相邻两个功能单元1的功能室12之间存在至少两个过渡室。
[0029]来自上料室2或前一个(上游)功能单元1的工件进入到本功能单元1的第一过渡室11内,进而进入到功能室12内以便进行相应的处理。如果只需对工件进行一次处理,则处理后的工件可以进入到本功能单元1的第二过渡室13内,进而进入到后一个(下游)功能单元1或下料室3内。
[0030]如果需要对工件进行多次处理,则经过一次处理后的工件可以先进入到第二过渡室13内,再回到功能室12内以便对工件进行再次处理。如此反本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种连续真空镀膜系统,其特征在于,包括:上料室和下料室;以及多个功能单元,每个功能单元包括依次相连的第一过渡室、功能室和第二过渡室,所述上料室、多个所述功能单元和所述下料室依次相连,其中所述上料室和相邻的所述功能单元的所述第一过渡室相连,所述下料室和相邻的所述功能单元的所述第二过渡室相连,相邻两个所述功能单元中的一者的所述第二过渡室和相邻两个所述功能单元中的另一者的所述第一过渡室相连。2.根据权利要求1所述的连续真空镀膜系统,其特征在于,多个所述功能单元包括:清洗单元,所述清洗单元包括依次相连的第一过渡室、清洗室和第二过渡室,所述清洗单元的所述第一过渡室和所述上料室相连;第一镀膜单元,所述第一镀膜单元包括依次相连的第一过渡室、第一镀膜室和第二过渡室,所述第一镀膜单元的所述第一过渡室和所述清洗单元的所述第二过渡室相连;和第二镀膜单元,所述第二镀膜单元包括依次相连的第一过渡室、第二镀膜室和第二过渡室,所述第二镀膜单元的所述第一过渡室和所述第一镀膜单元的所述第二过渡室相连,所述第二镀膜单元的所述第二过渡室和所述下料室相连。3.根据权利要求2所述的连续真空镀膜系统,其特征在于,所述第一镀膜室内设有第一靶材,所述第二镀膜室内设有第二靶材,所述第一靶材和所述第二靶材中的每一者的数量小于等于第一预设值,可选地,所述第一镀膜室内设有两个所述第一靶材,两个所述第一靶材在所述第一镀膜室的宽度方向上相对设置,所述第二镀膜室内设有两个所述第二靶材,两个所述第二靶材在所述第二镀膜室的宽度方向上相对设置。4.根据权利要求2所述的连续真空镀膜系统,其特征在于,所述第一镀膜室为磁控溅射镀膜室,所述第二镀膜室为磁控溅射镀膜室或电弧离子镀膜室。5.根据权利要求2所述的连续真空镀膜系统,其特征在于,进一步包括冷却室,所述冷却室设在所述第二镀膜单元的所述第二过渡室与所述下料室之间,所述冷却室与所述第二镀膜单元的所述第二过渡室和所述下料室中的每一者相连。6.根据权利要求1所述的连续真空镀膜系统,其特征在于,所述上料室和相邻的所述功能单元的所述第一过渡室可拆卸地相连;和/或所述下料室和相邻的所述功能单元的所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘浩杨培勇陆维李鹏飞卢华兴柴茂荣
申请(专利权)人:国家电投集团氢能科技发展有限公司
类型:发明
国别省市:

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