【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜机的沉降机构
[0001]本技术涉及真空镀膜机
,特别是一种真空镀膜机的沉降机构。
技术介绍
[0002]真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发、磁控溅射、MBE分子束外延、PLD激光溅射沉积等很多种,主要思路是分成蒸发和溅射两种,需要镀膜的被称为基片,镀的材料被称为靶材,基片与靶材同在真空腔中,蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点
‑
岛状结构
‑
迷走结构
‑
层状生长)形成薄膜,对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且最终沉积在基片表面,经历成膜过程,最终形成薄膜,目前在真空镀膜机镀膜时镀膜室中在蒸镀,镀膜室中残留部分未蒸镀到薄膜上的蒸气,该蒸气遇冷形成粉尘,粉尘在负压的作用下被真空泵抽走,该粉尘不但影响真空泵正常作业,严重时甚至会损坏真空泵,而且不易清理,所以需要一种真空镀膜机的沉 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜机的沉降机构,其特征在于:包括沉降箱(1),所述沉降箱(1)的顶部开设有第一固定孔(101),所述沉降箱(1)的上方设置有管道(2),所述管道(2)的外表面插接于第一固定孔(101)的内部,所述沉降箱(1)的顶部开设有第二固定孔(102),所述沉降箱(1)的上方设置有水泵(3),所述水泵(3)的底部与沉降箱(1)的顶部固定连接,所述水泵(3)的一侧固定连接有进水管(4),所述进水管(4)的外表面插接于第二固定孔(102)的内部,所述沉降箱(1)的内壁两侧均固定连接有一个U形固定块(103),两个所述U形固定块(103)呈对称设置,所述沉降箱(1)的内部设置有喷水管(5),所述沉降箱(1)的内部设置有导流板(6),所述沉降箱(1)的内壁两侧均固定连接有一个固定块(104),所述沉降箱(1)的内部设置有两个固定柱(7),所述沉降箱(1)的内部设置有沉降装置(8),所述沉降箱(1)的一侧开设有出水口(105),所述沉降箱(1)的一侧设置有第二出水管(9),所述第二出水管(9)的外表面插接于出水口(105)的内部。2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机的沉降机构,其特征在于:所述喷水管(5)的形状与大小与U形固定块(103)的形状与大小相适配,所述喷水管(5)的两侧外表面分别插接于对应的U形固定块(103)的内部,所述喷水管(5)的内部插接于进水管(4)的一侧外表面,所述喷水管(5)的一侧开设有若干个喷水孔,若干个所述喷水孔的内部均插接有一个喷头(501)。3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机的沉降机构,其特征在于:所述导流板(6)的两侧与沉降箱(1)的内壁的两侧固定连接,...
【专利技术属性】
技术研发人员:戴海军,
申请(专利权)人:揭阳市京品科技实业有限公司,
类型:新型
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。