【技术实现步骤摘要】
一种适合大功率高比冲的霍尔推力器磁路结构及设计方法
[0001]本专利技术涉及霍尔推力器,具体涉及一种适合大功率高比冲的霍尔推力器磁路结构及设计方法。
技术介绍
[0002]霍尔推力器是一种先进的空间电推进装置,它具有结构简单、比冲高、效率高、寿命长、可靠性好等优势。其中磁场是霍尔推力器能够建立稳定电离加速场的必要条件,推力器的工作性能与磁场位形、强度、梯度的分布高度相关,因此自从霍尔推力器问世以来磁路设计一直是其设计过程中的关键技术,几代霍尔推力器技术的发展变革核心均源自于磁路的“进化”,可见磁路结构对霍尔推力器的重要性。传统霍尔推力器一般采用励磁线圈作为磁源(如图1所示),通过磁屏磁极等结构在放电通道附近空间形成一定的磁场分布。线圈励磁的方式主要劣势在于励磁效率低下,需要额外的励磁功耗以保证推力器的正常工作且励磁线圈体积大重量较重,不利于整机的轻量化设计。霍尔推力器的放电通道径向尺寸一般与功率水平相关,在中等功率水平下(kW等级)霍尔推力器的结构尺寸足以给内部的励磁线圈腾出空间,而在低功率(200W以下)水平下内部磁芯的饱和以及线圈所占据的空间受限使得线圈的励磁方式劣势尽显,且当功率达到大功率水平(5KW及以上)时由于放电通道的尺寸增加宽度变大导致内外磁极之间的间隙变远,在放电通道内产生一定强度的磁场需要的励磁代价更大,进而内部磁路空间更多地被励磁线圈占据造成了径向尺寸的浪费,放电通道难以实现大高径比(放电通道宽度与内半径的比值,线圈励磁SPT
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100型霍尔推力器高径比仅为0.3),不利于整机 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种适合大功率高比冲的霍尔推力器磁路结构,包含磁屏(3)、内磁极(6)、外磁极A(7)、内线圈(8)、外线圈(9)和导磁罩(10);内磁极(6)和外磁极A(7)分别固定在导磁罩(10)的内铁芯和外壳上,其特征在于:还包含内永磁铁(1)、外永磁铁(2)、外磁极B(4)和支架(5);所述磁屏(3)为U型结构,磁屏(3)内布置有放电通道,支架(5)布置在内磁极(6)和外磁极A(7)的上表面上,内永磁铁(1)和外永磁铁(2)分别布置在支架(5)上,外永磁铁(2)的上表面还布置有外磁极B(4),内永磁铁(1)和外永磁铁(2)轴向充磁,外磁极B(4)的上表面低于放电通道的出口端面,内永磁铁(1)的径向外径尺寸x1满足:(R1‑
w
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6)≤x1≤(R1‑
w
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2),外永磁铁(2)的径向内径尺寸x2满足:(R2+w+3)≤x2≤(R2+w+6),外永磁铁(2)的径向内径尺寸x1满足:(x1/3)<x3<x1,其中R1为放电通道的内径,R2为放电通道的外径,w为放电通道的最小壁厚,x1为内永磁铁(1)的外侧面至中心轴线的距离,x2为外永磁铁(2)内表面至中心轴线的距离。2.根据权利要求1所述一种适合大功率高比冲的霍尔推力器磁路结构,其特征在于:磁屏(3)、内磁极(6)、外磁极A(7)、外磁极B(4)和导磁罩(10)均为导磁件,材料为DT4C纯铁。3.根据权利要求1所述一种适合大功率高比冲的霍尔推力器磁路结构,其特征在于:所述支架(5)的材质为钛合金TC4。4.根据权利要求1所述一种适合大功率高比冲的霍尔推力器磁路结构,其特征在于:外磁极B(4)的厚度h5范围为1
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3mm。5.一种适合大功率高比冲的霍尔推力器磁路结构设计方法,所述设计方法结合的磁路结构包含软磁磁路结构和永磁磁路结构,所述软磁磁路结构包含磁屏(3)、内磁极(6)、外磁极A(7)、内线圈(8)、外线圈(9)和导磁罩(10);其特征在于:所述永磁磁路结构包含内永磁铁(1)、外永磁铁(2)、磁屏(3)和外磁极B(4),所述磁屏(3)为U形屏;所述方法为:首先,根据放电通道内径和外径进行永磁磁路结构设计,并确定结构尺寸,在永磁磁路结构上增加软磁磁路结构,并确定结构尺寸,将永磁磁路结构与软磁磁路结构在轴向叠加排布,且将软磁磁路结构置于永磁磁路结构底部,形成混合磁路结构,软磁磁路结构和永磁磁路结构之间用不导磁的支架(5)隔开,然后将永磁磁路与软磁磁路产生同向或者反向的磁通量,进而并联工作实现磁场调节。6.根据权利要求5所述一种适合大功率高比冲的霍尔推力器磁路结构设计方法,其特征在于:确定永磁磁路结构尺寸的步骤为:(1)根据设计参数确定放电通道中心所需的磁场强度范围B0
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B2,在该范围内选取中位数B1作为永磁磁路产生的基底磁场强度设计值,在磁场仿真软件中反复迭代确定永磁磁路结构中永磁铁的径向尺寸,设定放电通道的最小壁面厚度为w,在满足放电通道内达到霍尔推力器工作需要的磁场强度条件...
【专利技术属性】
技术研发人员:李鸿,刘星宇,钟超,丁永杰,魏立秋,于达仁,
申请(专利权)人:哈尔滨工业大学,
类型:发明
国别省市:
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