一种用于石英晶片的超声波清洗机制造技术

本实用新型专利技术涉及石英晶片超声波清洗技术领域，具体为一种用于石英晶片的超声波清洗机，包括清洗机本体，所述清洗机本体的内部固定连接有隔板，网笼通过中位轴于清洗机本体内进行圆周运动，通过该种交替式清洗设置，一方面可使网笼内的石英晶片跟随圆周运动进行一定的晃动、抖动，从而提高其与清洗液接触时的清洗效果，另一方面可通过将网笼旋至上侧脱离清洗液，利用网笼内残留的清洗液随重力流淌将石英晶片表面清除的污渍带出，避免残留在表面，通过转动中位轴带动网笼进行圆周运动，并以此将网笼内残留的大部分清洗液甩出，以此加速石英晶片的干燥效率，且跟随中位轴旋转的叶片可扰动气流吹拂轴网笼上，进一步加速石英晶片的干燥。片的干燥。片的干燥。

An ultrasonic cleaning machine for quartz wafer

【技术实现步骤摘要】
一种用于石英晶片的超声波清洗机


[0001]本技术涉及石英晶片超声波清洗
，具体为一种用于石英晶片的超声波清洗机。

技术介绍

[0002]在石英晶体元器件生产过程中，石英晶片清洗的是否干净、彻底是十分关键的一环，如果清洗的不干净、彻底，那么石英晶体的DLD、阻抗等性能不同程度上出现不良，同时容易导致电极附着不良。
[0003]现有专利(公开号：CN208583727U)公开了一种用于石英晶片的超声波清洗装置；还包括转把、转动板、转轴、两组传动轴、传送带、多组传送块、多组弹簧组和多组顶块，清洗箱内部设置有工作放置腔，且清洗箱顶部连通设置有工作取放口。专利技术人在实现本技术的过程中发现现有技术存在如下问题：1、通过传送带输送石英晶片进行清洗，石英晶片常态固设传送带上，容易产生污渍残留；2、针对较少的残留清洗液，单纯风干措施可行，针对较多清洗液风干效率较差。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种用于石英晶片的超声波清洗机，以解决上述
技术介绍
中提出通过传送带输送石英晶片进行清洗，石英晶片常态固设传送带上，容易产生污渍残留，针对较少的残留清洗液，单纯风干措施可行，针对较多清洗液风干效率较差的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种用于石英晶片的超声波清洗机，包括清洗机本体，所述清洗机本体的内部固定连接有隔板，且隔板将清洗机本体的内部分隔为清洗区和干燥区。
[0005]所述清洗机本体内壁的左右两侧转动连接有中位轴，所述中位轴的表面活动套接有滑套，且中位轴的表面开设有同轴槽，所述滑套的内壁固定连接有与同轴槽滑动嵌合的卡块，且滑套的表面固定连接有网笼。
[0006]所述中位轴的右端且在干燥区内固定套接有与网笼相配合的叶片，所述清洗机本体的侧表面且于干燥区内开设有与网笼对应的导口。
[0007]优选的，所述中位轴的两端均固定套接有轴承，且轴承的外圈固定嵌设在清洗机本体的壁板上。
[0008]优选的，所述网笼的数量为两个，且两个网笼沿滑套呈对称设置。
[0009]优选的，所述中位轴的一端贯穿清洗机本体并固定套接有摇把。
[0010]优选的，所述网笼由笼体和旋盖组成，且旋盖螺纹连接在笼体的开口部。
[0011]优选的，所述卡块的表面固定连接有与同轴槽内壁抵触的阻尼条。
[0012]与现有技术相比，本技术的有益效果：
[0013]本技术中，网笼通过中位轴于清洗机本体内进行圆周运动，当网笼转动至下侧时可与清洗液接触并进行超声波清洗，通过该种交替式清洗设置，一方面可使网笼内的
石英晶片跟随圆周运动进行一定的晃动、抖动，从而提高其与清洗液接触时的清洗效果，另一方面可通过将网笼旋至上侧脱离清洗液，利用网笼内残留的清洗液随重力流淌将石英晶片表面清除的污渍带出，避免残留在表面。
[0014]本技术中，通过推动滑套平移至干燥区内，转动中位轴带动网笼进行圆周运动，并以此将网笼内残留的大部分清洗液甩出，以此加速石英晶片的干燥效率，且跟随中位轴旋转的叶片可扰动气流吹拂轴网笼上，进一步加速石英晶片的干燥。
附图说明
[0015]图1为本技术的正剖视图；
[0016]图2为本技术图1中中位轴的正剖视图；
[0017]图3为本技术的俯视图。
[0018]图中：1、清洗机本体；2、隔板；3、清洗区；4、干燥区；5、中位轴；6、滑套；7、同轴槽；8、卡块；9、网笼；10、叶片；11、导口。
具体实施方式
[0019]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术工作人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0020]请参阅图1至图3，本技术提供一种技术方案：一种用于石英晶片的超声波清洗机，包括清洗机本体1，清洗机本体1的内部固定连接有隔板2，且隔板2将清洗机本体1的内部分隔为清洗区3和干燥区4；
[0021]清洗机本体1内壁的左右两侧转动连接有中位轴5，中位轴5的表面活动套接有滑套6，且中位轴5的表面开设有同轴槽7，滑套6的内壁固定连接有与同轴槽7滑动嵌合的卡块8，且滑套6的表面固定连接有网笼9；
[0022]中位轴5的右端且在干燥区4内固定套接有与网笼9相配合的叶片10，清洗机本体1的侧表面且于干燥区4内开设有与网笼9对应的导口11。
[0023]本实施例中，如图1、图2和图3所示，中位轴5的两端均固定套接有轴承，且轴承的外圈固定嵌设在清洗机本体1的壁板上，轴承可以有效降低中位轴5运动过程中的摩擦系数，能够在限位的同时，并保证其转动精度。
[0024]本实施例中，如图1、图2和图3所示，网笼9的数量为两个，且两个网笼9沿滑套6呈对称设置，一方面可沿中位轴5实现质量平衡，保证旋转稳定性，另一方面保证单次清洗量。
[0025]本实施例中，如图1、图2和图3所示，中位轴5的一端贯穿清洗机本体1并固定套接有摇把，便于使用者快速转动中位轴5对网笼9进行位置调整。
[0026]本实施例中，如图1、图2和图3所示，网笼9由笼体和旋盖组成，且旋盖螺纹连接在笼体的开口部，通过转动旋盖可开启或封闭笼体，便于使用者快速装卸石英晶片。
[0027]本实施例中，如图1、图2和图3所示，卡块8的表面固定连接有与同轴槽7内壁抵触的阻尼条，用于对滑套6沿中位轴5滑动进程施加一定的阻尼，可避免中位轴5旋转过程中，滑套6发生自偏移。
[0028]本技术的使用方法和优点：该种用于石英晶片的超声波清洗机在使用时，工作过程如下：
[0029]如图1、图2和图3所示，首先将石英晶片装填于网笼9内，然后开启清洗机本体1，此时使用者可通过摇把转动中位轴5及对应的网笼9，网笼9通过中位轴5于清洗机本体1内进行圆周运动，当网笼9转动至下侧时可与清洗液接触并进行超声波清洗，通过该种交替式清洗设置，一方面可使网笼9内的石英晶片跟随圆周运动进行一定的晃动、抖动，从而提高其与清洗液接触时的清洗效果，另一方面可通过将网笼9旋至上侧脱离清洗液，利用网笼9内残留的清洗液随重力流淌将石英晶片表面清除的污渍带出，避免残留在表面，清洗完成后，将两侧的网笼9转动至平置，然后推动滑套6平移至干燥区4内，此时可再次转动中位轴5带动网笼9进行圆周运动，并以此将网笼9内残留的清洗液甩出，以此加速石英晶片的干燥效率，且跟随中位轴5旋转的叶片10可扰动气流吹拂轴网笼9上，进一步加速石英晶片的干燥，最后倾斜网笼9，通过导口11将石英晶片排出即可。
[0030]以上显示和描述了本技术的基本原理、主要特征和本技术的优点。本行业的技术工作人员应该了解，本技术不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的仅为本技术的优选例，并不用来限制本技术，在不脱离本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于石英晶片的超声波清洗机，包括清洗机本体(1)，其特征在于：所述清洗机本体(1)的内部固定连接有隔板(2)，且隔板(2)将清洗机本体(1)的内部分隔为清洗区(3)和干燥区(4)；所述清洗机本体(1)内壁的左右两侧转动连接有中位轴(5)，所述中位轴(5)的表面活动套接有滑套(6)，且中位轴(5)的表面开设有同轴槽(7)，所述滑套(6)的内壁固定连接有与同轴槽(7)滑动嵌合的卡块(8)，且滑套(6)的表面固定连接有网笼(9)；所述中位轴(5)的右端且在干燥区(4)内固定套接有与网笼(9)相配合的叶片(10)，所述清洗机本体(1)的侧表面且于干燥区(4)内开设有与网笼(9)对应的导口(11)。2.根据权利要求1所述的一种用于石英晶片的超...

【专利技术属性】
技术研发人员：王长征，尹佐水，王磊，
申请(专利权)人：山东宇峰维创电子有限公司，
类型：新型
国别省市：