一种半导体生产用晶圆清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种半导体生产用晶圆清洗装置，包括储液箱，所述的储液箱的底端四角分别设有支撑腿，所述的储液箱的一侧底端设有排液管，所述的储液箱上在远离设有排液管的一侧设有出水管。本实用新型专利技术的优点在于：通过设置可循环使用的清洗液，使清洗液能够充分利用，减少资源浪费，符合节能环保的要求，降低清洗成本，在储液箱中设置沥水板及过滤海绵，能够对使用过的清洗液进行过滤，保证后期的清洗效果，设置可调节的夹持机构，使其能够适应多种晶圆尺寸的夹持限位，适用范围广，性价比高，设置不同高度的清洗喷头，使其能够对晶圆进行多角度的清洗，提高清洗质量，清洗效率高，结构紧凑，使用方便，实用性强。实用性强。实用性强。

A wafer cleaning device for semiconductor production

【技术实现步骤摘要】
一种半导体生产用晶圆清洗装置


[0001]本技术涉及半导体
，具体为一种半导体生产用晶圆清洗装置。

技术介绍

[0002]晶圆于在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构，是常用见的半导体结构，在半导体的生产过程中，需使用清洗装置对晶圆进行处理，清洗装置的应用广泛，现有的半导体晶圆生产用清洗装置，在使用过程中还存在许多问题，现有的半导体晶圆生产用清洗装置，在使用过程中，不能方便的对产品进行限位，使对其清洗时较为不便，采用一次性水冲洗，对水量的需求较大，在使用过程中，冲水位置固定，清洗效率较低。

技术实现思路

[0003]本技术要解决的技术问题是以上所述的技术问题，提供一种设计合理、结构紧凑的半导体生产用晶圆清洗装置。
[0004]为解决上述技术问题，本技术提供的技术方案为：一种半导体生产用晶圆清洗装置，包括储液箱，所述的储液箱的底端四角分别设有支撑腿，所述的储液箱的一侧底端设有排液管，所述的储液箱上在远离设有排液管的一侧设有出水管，所述的储液箱上铰接有清洁门，所述的储液箱的顶板中设有丝杆，所述的储液箱的顶板中在丝杆的两侧分本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体生产用晶圆清洗装置，包括储液箱(1)，其特征在于：所述的储液箱(1)的底端四角分别设有支撑腿(2)，所述的储液箱(1)的一侧底端设有排液管(5)，所述的储液箱(1)上在远离设有排液管(5)的一侧设有出水管(6)，所述的储液箱(1)上铰接有清洁门(10)，所述的储液箱(1)的顶板中设有丝杆(13)，所述的储液箱(1)的顶板中在丝杆(13)的两侧分别设有导杆(14)，所述的储液箱(1)的侧壁上设有电机(15)，所述的电机(15)的传动轴贯穿储液箱(1)的侧壁与丝杆(13)连接，所述的丝杆(13)和导杆(14)上贯穿设有滑块(16)，所述的滑块(16)贯穿储液箱(1)的顶端设置，所述的滑块(16)上设有夹持机构，所述的储液箱(1)的顶端靠两侧分别设有安装板(24)，所述的储液箱(1)的顶端在安装板(24)之间设有挡水板(22)，所述的安装板(24)上相对设有若干清洁喷头(21)，所述的储液箱(1)的顶板上设有若干通孔使储液箱(1)外部与内部联通，所述的储液箱(1)上设有水泵(7)，所述的水泵(7)通过管路分别与出水管(6)及清洁喷头(21)连接。2.根据权利要求1所述的一种半导体生产用晶圆清洗装置，其特征在于：所述的支撑腿(2)中螺纹连接有调节杆(3)，所述的调...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵叶，毛宇辰，
申请(专利权)人：西安寰微电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：