本实用新型专利技术公开了一种半导体生产用晶圆清洗装置，包括储液箱，所述的储液箱的底端四角分别设有支撑腿，所述的储液箱的一侧底端设有排液管，所述的储液箱上在远离设有排液管的一侧设有出水管。本实用新型专利技术的优点在于：通过设置可循环使用的清洗液，使清洗液能够充分利用，减少资源浪费，符合节能环保的要求，降低清洗成本，在储液箱中设置沥水板及过滤海绵，能够对使用过的清洗液进行过滤，保证后期的清洗效果，设置可调节的夹持机构，使其能够适应多种晶圆尺寸的夹持限位，适用范围广，性价比高，设置不同高度的清洗喷头，使其能够对晶圆进行多角度的清洗，提高清洗质量，清洗效率高，结构紧凑，使用方便，实用性强。实用性强。实用性强。
A wafer cleaning device for semiconductor production
【技术实现步骤摘要】
一种半导体生产用晶圆清洗装置
[0001]本技术涉及半导体
，具体为一种半导体生产用晶圆清洗装置。
技术介绍
[0002]晶圆于在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构，是常用见的半导体结构，在半导体的生产过程中，需使用清洗装置对晶圆进行处理，清洗装置的应用广泛，现有的半导体晶圆生产用清洗装置，在使用过程中还存在许多问题，现有的半导体晶圆生产用清洗装置，在使用过程中，不能方便的对产品进行限位，使对其清洗时较为不便，采用一次性水冲洗，对水量的需求较大，在使用过程中，冲水位置固定，清洗效率较低。
技术实现思路
[0003]本技术要解决的技术问题是以上所述的技术问题，提供一种设计合理、结构紧凑的半导体生产用晶圆清洗装置。
[0004]为解决上述技术问题，本技术提供的技术方案为：一种半导体生产用晶圆清洗装置，包括储液箱，所述的储液箱的底端四角分别设有支撑腿，所述的储液箱的一侧底端设有排液管，所述的储液箱上在远离设有排液管的一侧设有出水管，所述的储液箱上铰接有清洁门，所述的储液箱的顶板中设有丝杆，所述的储液箱的顶板中在丝杆的两侧分别设有导杆，所述的储液箱的侧壁上设有电机，所述的电机的传动轴贯穿储液箱的侧壁与丝杆连接，所述的丝杆和导杆上贯穿设有滑块，所述的滑块贯穿储液箱的顶端设置，所述的滑块上设有夹持机构，所述的储液箱的顶端靠两侧分别设有安装板，所述的储液箱的顶端在安装板之间设有挡水板，所述的安装板上相对设有若干清洁喷头，所述的储液箱的顶板上设有若干通孔使储液箱外部与内部联通，所述的储液箱上设有水泵，所述的水泵通过管路分别与出水管及清洁喷头连接。
[0005]作为改进，所述的支撑腿中螺纹连接有调节杆，所述的调节杆的底端设有支撑板。
[0006]作为改进，所述的储液箱中设有沥水板，所述的沥水板上设有过滤海绵。
[0007]作为改进，所述的储液箱上在清洁门的一侧设有液面观察管，所述的液面观察管上设有最高液面警戒线。
[0008]作为改进，所述的夹持机构包括设置在滑块顶端的固定板，所述的固定板中设有螺杆，所述的螺杆的螺纹沿中间向两侧为反向设置，所述的螺杆的一侧贯穿固定板的侧面设有转动块，所述的螺杆上贯穿设有相对设置的卡接板，所述的固定板上设有滑槽，所述的卡接板设置在滑槽中。
[0009]作为改进，所述的卡接板上设有卡接槽，所述的卡接槽的表面设有橡胶垫。
[0010]作为改进，所述的清洁喷头自安装板靠近设有排液管的一侧向设有出水管的一侧倾斜向下设置。
[0011]本技术与现有技术相比的优点在于：通过设置可循环使用的清洗液，使清洗液能够充分利用，减少资源浪费，符合节能环保的要求，降低清洗成本，在储液箱中设置沥
水板及过滤海绵，能够对使用过的清洗液进行过滤，保证后期的清洗效果，设置可调节的夹持机构，使其能够适应多种晶圆尺寸的夹持限位，适用范围广，性价比高，设置不同高度的清洗喷头，使其能够对晶圆进行多角度的清洗，提高清洗质量，清洗效率高，结构紧凑，使用方便，实用性强。
附图说明
[0012]图1是本技术一种半导体生产用晶圆清洗装置的结构示意图。
[0013]图2是本技术一种半导体生产用晶圆清洗装置的右视图。
[0014]图3是本技术一种半导体生产用晶圆清洗装置卡接板的结构示意图。
[0015]如图所示：1、储液箱；2、支撑腿；3、调节杆；4、支撑板；5、排液管；6、出水管；7、水泵；8、沥水板；9、过滤海绵；10、清洁门；11、液面观察管；12、最高液面警戒线；13、丝杆；14、导杆；15、电机；16、滑块；17、固定板；18、螺杆；19、转动块；20、卡接板；21、清洁喷头；22、挡水板；23、卡接槽；24、安装板。
具体实施方式
[0016]下面结合附图对本技术做进一步的详细说明。
[0017]结合附图1～3，一种半导体生产用晶圆清洗装置，包括储液箱1，其特征在于：所述的储液箱1的底端四角分别设有支撑腿2，所述的储液箱1的一侧底端设有排液管5，所述的储液箱1上在远离设有排液管5的一侧设有出水管6，所述的储液箱1上铰接有清洁门10，所述的储液箱1的顶板中设有丝杆13，所述的储液箱1的顶板中在丝杆13的两侧分别设有导杆14，所述的储液箱1的侧壁上设有电机15，所述的电机15的传动轴贯穿储液箱1的侧壁与丝杆13连接，所述的丝杆13和导杆14上贯穿设有滑块16，所述的滑块16贯穿储液箱1的顶端设置，所述的滑块16上设有夹持机构，所述的储液箱1的顶端靠两侧分别设有安装板24，所述的储液箱1的顶端在安装板24之间设有挡水板22，所述的安装板24上相对设有若干清洁喷头21，所述的储液箱1的顶板上设有若干通孔使储液箱1外部与内部联通，所述的储液箱1上设有水泵7，所述的水泵7通过管路分别与出水管6及清洁喷头21连接。
[0018]所述的支撑腿2中螺纹连接有调节杆3，所述的调节杆3的底端设有支撑板4。
[0019]所述的储液箱1中设有沥水板8，所述的沥水板8上设有过滤海绵9。
[0020]所述的储液箱1上在清洁门10的一侧设有液面观察管11，所述的液面观察管11上设有最高液面警戒线12。
[0021]所述的夹持机构包括设置在滑块16顶端的固定板17，所述的固定板17中设有螺杆18，所述的螺杆18的螺纹沿中间向两侧为反向设置，所述的螺杆18的一侧贯穿固定板17的侧面设有转动块19，所述的螺杆18上贯穿设有相对设置的卡接板20，所述的固定板17上设有滑槽，所述的卡接板20设置在滑槽中。
[0022]所述的卡接板20上设有卡接槽23，所述的卡接槽23的表面设有橡胶垫。
[0023]所述的清洁喷头21自安装板24靠近设有排液管的一侧向设有出水管6的一侧倾斜向下设置。
[0024]本技术的工作原理：当使用时，根据生产的晶圆的尺寸，转动转动块，使晶圆放置在卡接板的卡接槽中，并进行夹紧，使其限位，启动水泵及电机，使清洗喷头对晶圆进
行冲洗，电机带动丝杆转动，使滑块移动，从而带动晶圆进行移动，在移动过程中，不同高度的清洗喷头形成不同的冲洗角度，使晶圆冲洗更加充分，当滑块移动至另一侧端部，可拧动转动块，取下晶圆即可，清洗液在清洗之后经储液箱顶端的通孔进入储液箱，经过滤海绵过滤后穿过沥水板，再经水泵作用抽至清洗喷头进行冲洗，在储液箱中加注清洗液时，通过液面观察管观察液面高度，不超过最高液面警戒线即可，在使用一段时间后，可通过排液管将清洗液排出，通过清洁门将过滤海绵取出进行清理即可，清理完成后放回待下次利用。
[0025]以上对本技术及其实施方式进行了描述，这种描述没有限制性，附图中所示的也只是本技术的实施方式之一，实际的结构并不局限于此。总而言之如果本领域的普通技术人员受其启示，在不脱离本技术创造宗旨的情况下，不经创造性的设计出与该技术方案相似的结构方式及实施例，均应属于本技术的保护范围。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种半导体生产用晶圆清洗装置，包括储液箱(1)，其特征在于：所述的储液箱(1)的底端四角分别设有支撑腿(2)，所述的储液箱(1)的一侧底端设有排液管(5)，所述的储液箱(1)上在远离设有排液管(5)的一侧设有出水管(6)，所述的储液箱(1)上铰接有清洁门(10)，所述的储液箱(1)的顶板中设有丝杆(13)，所述的储液箱(1)的顶板中在丝杆(13)的两侧分别设有导杆(14)，所述的储液箱(1)的侧壁上设有电机(15)，所述的电机(15)的传动轴贯穿储液箱(1)的侧壁与丝杆(13)连接，所述的丝杆(13)和导杆(14)上贯穿设有滑块(16)，所述的滑块(16)贯穿储液箱(1)的顶端设置，所述的滑块(16)上设有夹持机构，所述的储液箱(1)的顶端靠两侧分别设有安装板(24)，所述的储液箱(1)的顶端在安装板(24)之间设有挡水板(22)，所述的安装板(24)上相对设有若干清洁喷头(21)，所述的储液箱(1)的顶板上设有若干通孔使储液箱(1)外部与内部联通，所述的储液箱(1)上设有水泵(7)，所述的水泵(7)通过管路分别与出水管(6)及清洁喷头(21)连接。2.根据权利要求1所述的一种半导体生产用晶圆清洗装置，其特征在于：所述的支撑腿(2)中螺纹连接有调节杆(3)，所述的调...
【专利技术属性】
技术研发人员：赵叶，毛宇辰，
申请(专利权)人：西安寰微电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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