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本实用新型公开了一种半导体生产用晶圆清洗装置，包括储液箱，所述的储液箱的底端四角分别设有支撑腿，所述的储液箱的一侧底端设有排液管，所述的储液箱上在远离设有排液管的一侧设有出水管。本实用新型的优点在于：通过设置可循环使用的清洗液，使清洗液能够...
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