用于对混浊介质内部进行成像的方法和设备技术

本发明专利技术涉及一种用于对混浊介质（５５）内部进行的方法和设备（１）。用来自光源（５）的光从多个源位置（２５ａ）照射在测量体积（１５）内的混浊介质（５５），从多个检测位置（２５ｂ）检测从测量体积（１５）发出的光。根据检测到的光，重构混浊介质（５５）内部的图像。在该方法和设备（１）中，可以借助于多增益放大单元为每一个源位置－检测位置对放大检测器信号，多增益放大单元包括放大器电路（６０）。在现有技术中，基于检测到的信号强度从多个可能的放大系数中选出放大系数。然而，根据本发明专利技术，使该方法和设备适于基于对于预期电信号强度的估计来选择用于至少一个源位置－检测位置对的放大系数。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】本专利技术涉及一种对混浊介质内部进行成像的方法，包括以下步骤：a)将混浊介质容纳在测量体积中；b)用来自光源的光，从相对于混浊介质的多个源位置照射混浊介质；c)借助于从多个检测位置检测作为对混浊介质的所述照射的结果而从测量体积发出的光，来获取检测器信号；d)使用多增益放大单元为每一个源位置-检测位置对放大检测器信号，并且每个单元都被设定为所选放大系数。本专利技术还涉及一种设备，用于对混浊介质内部进行成像，包括：a)测量体积，用于容纳混浊介质；b)光源，用于从相对于混浊介质的多个源位置照射混浊介质；c)光电检测器单元，用于借助于从多个检测位置检测作为对混浊介质的所述照射的结果而从测量体积发出的光，来获取检测器信号；d)多增益放大单元，用于为每一个源位置-检测位置对放大检测器信号，并且每个多增益放大单元都包括用于设定所选放大系数的装置。本专利技术还涉及一种医学图像采集设备，包括：a)测量体积，用于容纳混浊介质；b)光源，用于从相对于混浊介质的多个源位置照射混浊介质本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于对混浊介质（５５）内部进行成像的方法，包括以下步骤：ａ）将所述混浊介质（５５）容纳在测量体积（１５）中；ｂ）用来自光源（５）的光，从相对于所述混浊介质（５５）的多个源位置（２５ａ）照射所述混浊介质（５５）；ｃ）借助于从多个检测位置（２５ｂ）检测作为对所述混浊介质（５５）的所述照射的结果而从所述测量体积（１５）发出的光，来获取检测器信号；ｄ）用多增益放大单元为每一个源位置（２５ａ）－检测位置（２５ｂ）对放大所述检测器信号，并且每个单元都被设定为所选放大系数；其特征在于基于对于预期电信号强度的估计，来选择用于至少一个源位置（２５ａ）－检测位置（２５ｂ）对的所述放大系数。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】EP 2005-11-23 05111161.51、一种用于对混浊介质(55)内部进行成像的方法，包括以下步骤：
a)将所述混浊介质(55)容纳在测量体积(15)中；
b)用来自光源(5)的光，从相对于所述混浊介质(55)的多个源位置(25a)
照射所述混浊介质(55)；
c)借助于从多个检测位置(25b)检测作为对所述混浊介质(55)的所述照
射的结果而从所述测量体积(15)发出的光，来获取检测器信号；
d)用多增益放大单元为每一个源位置(25a)-检测位置(25b)对放大所述
检测器信号，并且每个单元都被设定为所选放大系数；
其特征在于
基于对于预期电信号强度的估计，来选择用于至少一个源位置(25a)-
检测位置(25b)对的所述放大系数。
2、如权利要求1所述的方法，其中，所述对于预期电信号强度的估计
是基于用于在单个光源情况下无限介质中的漫射光强度的分析表达式。
3、如权利要求1所述的方法，其中，所述对于预期电信号强度的估计
是基于对于单个源位置(25a)和全部检测位置(25b)的信号强度测量。
4、如权利要求1所述的方法，其中，所述对于预期电信号强度的估计
是基于：对于至少两个相邻源位置(25a)和全部检测位置(25b)的信号强度的
测量，以及推断在与所述多个相邻源位置(25a)相对应的所选放大系数之间
的差值。
5、如权利要求1所述的方法，其中，所述对于预期电信号强度的估计
是基于与至少一个多增益放大单元的放大系数的选择有关的历史数据。
6、如权利要求1所述的方法，其中，在所述测量体积(15)内，匹配介
质围绕在所述混浊介质(55)周围，并且其中，所述对于预期电信号强度的估
计是基于所述匹配介质的照射传输模型以及对所述混浊介质(55)的估计。
7、如权利要求1所述的方法，其中，在所述测量体积(15)内，匹配介
质围绕在所述混浊介质(55)周...

【专利技术属性】
技术研发人员：LP巴克，GT霍夫特，MB范德马克，MC范贝克，
申请(专利权)人：皇家飞利浦电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]