还原炉底盘清洗装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种还原炉底盘清洗装置，涉及多晶硅生产技术领域，主要目的是安全高效的清理还原炉底盘的垢层。本发明专利技术的主要技术方案为：还原炉底盘清洗装置，包括：密封罩体盖合于还原炉底盘，密封罩体的上端连接于吸尘管，密封罩体的上端设有中心孔；转轴腔体通过轴承安装于中心孔内；橡胶软管的一端连接于压缩空气设备，多个喷吹管圆周均布于转轴腔体的下端轴侧，多个喷吹管分别贯穿转轴腔体的侧壁，并分别连接于橡胶软管的另一端，每一个喷吹管轴向排列有多个喷嘴，用于向还原炉底盘吹出气流；气缸体固定设置于转轴腔体内，气缸体的活塞杆分别连接于多个清扫杆体，每一个清扫杆体的轴侧均布有多个扫刷，用于清扫还原炉底盘。用于清扫还原炉底盘。用于清扫还原炉底盘。

【技术实现步骤摘要】
还原炉底盘清洗装置


[0001]本专利技术涉及多晶硅生产
，尤其涉及一种还原炉底盘清洗装置。

技术介绍

[0002]在生产多晶硅的生产技术中，改良西门子法为主要的生产方法。多晶硅还原炉是多晶硅生产中产出最终产品的核心设备，也是决定系统产能、能耗的关键环节。
[0003]还原炉是生产多晶硅的核心关键生产设备。多晶硅还原炉在生成多晶硅硅棒的过程中，也会在电极和炉盘上不断形成垢层。它们的存在会导致绝缘等级的降低甚至破坏、反射面反射效率降低等问题，必须及时清理。目前主要靠人工清理，主要采取机械清理，铲刀刮、榔头敲、砂纸磨，费时费力、效果也不好。由于作业时炉盘会有各种有毒气体溢出或残留，给清理人员带来健康和安全风险。同时垢层很难找到快速、有效的方法清理，清理时间一般在二到三小时以上，而且清理并不彻底。清理后的粉尘又会污染十万级洁净车间。
[0004]现有技术中，目前主要靠人工清理，由于作业时炉盘会有各种有毒气体溢出或残留，给清理人员带来健康和安全风险；同时，很难找到快速、有效的方法清理垢层，传统方法的清理时间一般在一小时以上，而且清理并不彻底。清理后的粉尘又会污染十万级洁净车间，传统的机械清理方法对还原炉底盘的损伤也比较大。在现在质量要求越来越高的情况下，还原炉底盘的清洗迫切需要一种革新性的清洗手段。

技术实现思路

[0005]有鉴于此，本专利技术提供一种还原炉底盘清洗装置，主要目的是安全高效的清理还原炉底盘的垢层。
[0006]为达到上述目的，本专利技术主要提供如下技术方案：r/>[0007]本专利技术提供了一种还原炉底盘清洗装置，该装置包括：密封罩体、转轴腔体、喷吹部和清扫部；
[0008]所述密封罩体盖合于还原炉底盘，所述密封罩体的上端连接于吸尘管，所述密封罩体的上端设有中心孔；
[0009]所述转轴腔体通过轴承安装于所述中心孔内；
[0010]所述喷吹部包括橡胶软管和多个喷吹管，橡胶软管的一端连接于压缩空气设备，多个所述喷吹管圆周均布于所述转轴腔体的下端轴侧，多个所述喷吹管分别贯穿所述转轴腔体的侧壁，并分别连接于所述橡胶软管的另一端，每一个所述喷吹管轴向排列有多个喷嘴，用于向还原炉底盘吹出气流；
[0011]所述清扫部包括气缸体和多个清扫杆体，所述气缸体固定设置于所述转轴腔体内，所述气缸体的活塞杆分别连接于多个所述清扫杆体，用于带动多个所述清扫杆体上下移动，每一个所述清扫杆体的轴侧均布有多个扫刷，用于清扫还原炉底盘。
[0012]本专利技术的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。
[0013]可选的，多个所述清扫杆体和多个所述喷吹管交替排列于所述转轴腔体的轴侧。
[0014]可选的，所述转轴腔体圆周均布有多个竖向滑槽，每一个所述清扫杆体对应于其中一个所述竖向滑槽。
[0015]可选的，还包括驱动电机、主动齿轮和从动齿轮盘，所述驱动电机固定安装于所述密封罩体的上端，所述主动齿轮平键连接于所述驱动电机的输出轴，所述从动齿轮盘固定连接于所述转轴腔体的上端，所述主动齿轮啮合于所述从动齿轮盘。
[0016]可选的，每一个所述清扫杆体包括支撑杆和套管，所述支撑杆连接于所述气缸体的活塞杆，所述套管套接于所述支撑杆，多个所述扫刷均布于所述套管的轴侧。
[0017]可选的，所述喷嘴的气流喷出方向倾斜向下。
[0018]可选的，所述密封罩体的上端面设有玻璃视镜。
[0019]可选的，所述密封罩体的上端面圆周均布有多个吊环。
[0020]可选的，所述密封罩体的下端边缘固定连接于法兰盘，所述法兰盘对应于还原炉底盘法兰。
[0021]可选的，还包括控制面板，所述控制面板固定安装于所述密封罩体的上端，所述控制面板电连接于所述气缸体，用于控制所述气缸体的活塞杆的上下运动。
[0022]借由上述技术方案，本专利技术至少具有下列优点：
[0023]当需要清理还原炉底盘时，操作人员将密封罩体盖合至还原炉底盘，将吸尘管连接至吸尘设备，橡胶软管的一端连接至压缩空气设备。启动气缸体，以使气缸体的活塞杆带动多个清扫杆体向下移动，并使清扫杆体上的多个扫刷接触还原炉底盘。
[0024]在完成上述准备工作后，往复转动转轴腔体，同时启动压缩空气设备和吸尘设备。一方面，转动的转轴腔体带动清扫杆体往复转动，多个扫刷和还原炉底盘往复摩擦，从而剥离还原炉底盘上的垢层；另一方面，压缩空气设备产生的压缩空气流自多个喷嘴喷出至还原炉底盘，带动还原炉底盘上剥离的垢层料腾起，并随气流流入吸尘管，从而达到将垢层料抽离密封罩体的目的。
[0025]在上述作业过程中，转轴腔体往复转动的单方向角度等于180度，橡胶软管发生轴向扭转的角度也就等于180度，而且橡胶软管具有弹性，可以在转轴腔体内发生适应性的形变，从而避免橡胶软管的管壁因为扭力而破损，从而实现多个喷吹管随转轴腔体转动的同时，多个喷嘴还能同步喷出气流的目的；多个清扫杆体圆周均布于转动腔体的轴侧，每一个清扫杆体随转轴腔体往复转动(其中，先顺时针转动180度，再逆时针转动180度，清扫杆体交替向相反方向转动)，还原炉底盘表面的垢层全部能够受到扫刷的剥离作用。
[0026]而且，密封罩体和还原炉底盘形成密闭空间，垢层料不会遗漏出来，从而避免还原炉所在车间受到粉尘的二次污染，避免车间工人受到粉尘的伤害。相对于传统清洗方式，一个人即可操作本装置，节省了人力和时间。
附图说明
[0027]图1为本专利技术实施例提供的一种还原炉底盘清洗装置的结构示意图；
[0028]图2为本专利技术实施例提供的转轴腔体、喷吹部、清扫部的组装结构示意图；
[0029]图3为本专利技术实施例提供的喷吹部和转轴腔体的组装结构示意图；
[0030]图4为本专利技术实施例提供的清扫部和转轴腔体的组装结构示意图；
[0031]图5为密封罩体的仰视图；
[0032]图6为密封罩体的侧视剖面图；
[0033]图7为图1中A部分的放大图；
[0034]图8为喷吹管的轴向视图。
[0035]说明书附图中的附图标记包括：密封罩体1、转轴腔体2、还原炉底盘3、吸尘管4、橡胶软管5、喷吹管6、喷嘴7、气缸体8、清扫杆体9、扫刷10、连接块11、弹簧12、伸缩杆13、外管1301、内杆1302、竖向滑槽14、驱动电机15、主动齿轮16、从动齿轮盘17、支撑杆901、套管902、螺帽903、玻璃视镜18、吊环19、法兰盘20、控制面板21、中心孔22、电极23。
具体实施方式
[0036]为更进一步阐述本专利技术为达成预定专利技术目的所采取的技术手段及功效,以下结合附图及较佳实施例，对依据本专利技术申请的具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。在下述说明中，不同的“一实施例”或“实施例”指的不一定是同一实施例。此外，一或多个实施例中的特定特征、结构、或特点可由任何合适形式组合。
[0037]下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步的详细说明。
[003本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种还原炉底盘清洗装置，其特征在于，包括：密封罩体，所述密封罩体盖合于还原炉底盘，所述密封罩体的上端连接于吸尘管，所述密封罩体的上端设有中心孔；转轴腔体，所述转轴腔体通过轴承安装于所述中心孔内；喷吹部，所述喷吹部包括橡胶软管和多个喷吹管，橡胶软管的一端连接于压缩空气设备，多个所述喷吹管圆周均布于所述转轴腔体的下端轴侧，多个所述喷吹管分别贯穿所述转轴腔体的侧壁，并分别连接于所述橡胶软管的另一端，每一个所述喷吹管轴向排列有多个喷嘴，用于向还原炉底盘吹出气流；清扫部，所述清扫部包括气缸体和多个清扫杆体，所述气缸体固定设置于所述转轴腔体内，所述气缸体的活塞杆分别连接于多个所述清扫杆体，用于带动多个所述清扫杆体上下移动，每一个所述清扫杆体的轴侧均布有多个扫刷，用于清扫还原炉底盘。2.根据权利要求1所述的还原炉底盘清洗装置，其特征在于，多个所述清扫杆体和多个所述喷吹管交替排列于所述转轴腔体的轴侧。3.根据权利要求1所述的还原炉底盘清洗装置，其特征在于，所述转轴腔体圆周均布有多个竖向滑槽，每一个所述清扫杆体对应于其中一个所述竖向滑槽。4.根据权利要求1至3任一项所述的还原炉底盘清洗装置，其特征在于，还包括驱动电机、主动齿轮...

【专利技术属性】
技术研发人员：丁建，谭忠芳，杨涛，莫可璋，
申请(专利权)人：内蒙古大全新能源有限公司，
类型：发明
国别省市：