电磁屏蔽材料、溅射镀膜装置及电磁屏蔽材料的制作方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种电磁屏蔽材料、溅射镀膜装置及电磁屏蔽材料的制作方法，其中，所述电磁屏蔽材料包括：基材，所述基材具有面向外部的镀膜面；金属镀膜层，所述金属镀膜层覆盖于所述镀膜面；氧化保护体，所述氧化保护体数量为多个，多个所述氧化保护体分散的排布于所述金属镀膜层远离所述镀膜面的表面以形成氧化保护网，且所述氧化保护网的金属性强于所述金属镀膜层的金属性，以防止所述金属镀膜层被氧化。本发明专利技术技术方案使得氧化保护网给金属镀膜层提供了保护，避免了金属镀膜层被氧化，保证了金属镀膜层的稳定性，从整体上提高了电磁屏蔽材料的屏蔽效果。蔽材料的屏蔽效果。蔽材料的屏蔽效果。

【技术实现步骤摘要】
电磁屏蔽材料、溅射镀膜装置及电磁屏蔽材料的制作方法


[0001]本专利技术涉及电磁屏蔽
，特别涉及一种电磁屏蔽材料、溅射镀膜装置和电磁屏蔽材料的制作方法。

技术介绍

[0002]随着电子行业的不断发展，市面上出现了越来越多的电磁屏蔽材料，电磁屏蔽材料通常包括基材和覆盖于基材上的金属镀膜层；现有技术中，通常使用卷绕真空镀膜机在基材上制备金属镀膜层，金属镀膜层制备完毕后再通过卷绕的方式将基材收卷起来，然而，现有技术中的电磁屏蔽材料的结构过于简单，使得电磁屏蔽材料在存储过程中，金属镀膜层容易被空气中的氧气氧化，影响电磁屏蔽材料的屏蔽效果。

技术实现思路

[0003]本专利技术的主要目的是提供一种电磁屏蔽材料，旨在避免电磁屏蔽材料的金属镀膜层被氧化，保证金属镀膜层的稳定性，从而提高电磁屏蔽材料的屏蔽效果。
[0004]为实现上述目的，本专利技术提出的电磁屏蔽材料，包括：基材，所述基材具有面向外部的镀膜面；金属镀膜层，所述金属镀膜层覆盖于所述镀膜面； 氧化保护体，所述氧化保护体数量为多个，多个所述氧化保护体分散的排布于所述金属镀膜层远离所述镀膜面的表面以形成氧化保护网，且所述氧化保护网的金属性强于所述金属镀膜层的金属性，以防止所述金属镀膜层被氧化。
[0005]可选地，多个所述氧化保护体沿所述镀膜面的长度方向排布形成氧化保护列，所述氧化保护列的数量为多个，多个所述氧化保护列沿所述镀膜面的宽度方向排布，位于同一列的相邻的两个所述氧化保护体相互抵接或者相互之间具有间隙；和/或，多个所述氧化保护体沿所述镀膜面的宽度方向排布形成氧化保护行，所述氧化保护行的数量为多个，多个所述氧化保护行沿所述镀膜面的长度方向排布，位于同一行的相邻的两个所述氧化保护体相互抵接或者相互之间具有间隙；多个所述氧化保护行与多个所述氧化保护列交错连接。
[0006]可选地，多个所述氧化保护体沿第一方向排布形成第一倾斜保护列，所述第一倾斜保护列的延伸方向与与所述镀膜面的长度方向的夹角为锐角，所述第一倾斜保护列的数量为多个，多个所述第一倾斜保护列沿所述镀膜面的长度方向排布，且位于同一列的相邻的两个所述氧化保护体相互抵接或者相互之间具有间隙；和/或，多个所述氧化保护体沿第二方向排布形成第二倾斜保护列，所述第二倾斜保护列的延伸方向与与所述镀膜面的宽度方向的夹角为钝角，所述第二倾斜保护列的数量为多个，多个所述第二倾斜保护列沿所述镀膜面的宽度方向排布，且位于同一列的相邻的两个所述氧化保护体相互抵接或者相互之间具有间隙；多个所述第一倾斜保护列与多个所述第二倾斜保护列交错连接。
[0007]可选地，所述第一倾斜保护列的延伸方向与与所述镀膜面的长度方向的夹角α为
30
‑
60度，所述第二倾斜保护列的延伸方向与与所述镀膜面的宽度方向的夹角β为120
‑
150度。
[0008]可选地，所述金属镀膜层与所述氧化保护网的厚度比为3：1
‑
6：1。
[0009]可选地，所述氧化保护网包括镍层、钴层、锌层、铟层、锡层、铝层、钛层、铁层、镁层、铅层中的任意一种或多种。
[0010]本专利技术还提出一种溅射镀膜装置，包括：壳体，所述壳体围合形成有真空腔；放置辊和接收辊，所述放置辊和接收辊设置于所述真空腔内，所述放置辊用于放出未镀膜的基材，所述接收辊用于收绕已镀膜的基材；主动辊，所述主动辊设置于所述真空腔内，所述主动辊用以供待镀膜的基材缠绕，以使所述基材随主动辊的转动而移动；第一靶材和第二靶材，所述第一靶材和第二靶材设于所述真空腔内，并位于所述主动辊周向方向的一侧，且所述第二靶材与第一靶材沿所述主动辊的转动方向依次排布，所述第二靶材的金属性强于所述第一靶材的金属性。
[0011]可选地，所述第一靶材和第二靶材分别与溅射镀膜装置的主控电路连接，主控电路包括电压调节电路，用于分别调节加载在第一靶材和第二靶材上的电压；和/或，所述第一靶材与所述第二靶材的数量比为3：1
‑
6：1。
[0012]可选地，所述第一靶材和第二靶材靠近所述壳体的侧壁设置，所述第一靶材和第二靶材之间的壳壁具有喷射孔；所述溅射镀膜装置还包括冷却装置，所述冷却装置包括冷却体，所述冷却装置可通过所述喷射孔将所述冷却体喷入所述真空腔内，以降低第一靶材和第二靶材之间的金属镀膜层的温度。
[0013]本专利技术还提出一种电磁屏蔽材料的制作方法，包括：提供溅射镀膜装置，所述溅射镀膜装置为权利要求7至9中任一项所述的溅射镀膜装置，所述溅射镀膜装置的真空度为0.01～0.5Pa，连续卷绕式镀速为0.01～300m/min，电流为1～50A；提供所述基材，将所述基材放置于所述放置辊；提供第一靶材，对第一靶材加载400
‑
700V的电压，使得所述基材随所述主动辊的转动而移动到第一靶材上方时，从第一靶材逸出的金属原子喷射到所述基材的表面，从而在所述基材的镀膜面形成所述金属镀膜层；提供第二靶材，对第二靶材加载200
‑
400V的电压，使得所述基材继续随所述主动辊的转动而移动到第二靶材上方时，从第二靶材逸出的金属原子喷射到所述金属镀膜层的的表面，从而在所述金属镀膜层远离所述镀膜面的表面形成所述氧化保护网。
[0014]本专利技术的技术方案，通过在金属镀膜层远离镀膜面的表面形成有氧化保护网，且氧化保护网的金属性强于金属镀膜层的金属性，使得氧化保护网比金属镀膜层更容易被氧气氧化，如此，当电磁屏蔽材料与空气接触时，位于金属镀膜层的表面的氧化保护网可以优先与空气中的氧气接触发生氧化反应，以消耗掉金属镀膜层表面的氧气，如此，氧化保护网给金属镀膜层提供了保护，避免了金属镀膜层被氧化，保证了金属镀膜层的稳定性，从而使得金属镀膜层能稳定的发挥屏蔽作用，从整体上提高了电磁屏蔽材料的屏蔽效果。
附图说明
[0015]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本
专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
[0016]图1为本专利技术电磁屏蔽材料一实施例的剖视结构示意图；图2为本专利技术电磁屏蔽材料的氧化保护网的一实施例的结构示意图；图3为本专利技术电磁屏蔽材料的氧化保护网的另一实施例的结构示意图；图4为本专利技术电磁屏蔽材料的氧化保护网的又一实施例的结构示意图；图5为本专利技术电磁屏蔽材料的氧化保护网的再一实施例的结构示意图；图6为图5中A处的局部放大图；图7为本专利技术溅射镀膜装置的一实施例的内部结构示意图图8为图7中真空腔内部元器件的排布示意图。
[0017]附图标号说明：标号名称标号名称10基材20金属镀膜层30氧化保护体31第一倾斜保护列32第二倾斜保护列33氧化保护列34氧化保护行100主动辊210放置辊220接收辊310导向辊320张紧辊330压紧辊510第一靶材520第二靶材600壳体610真空腔
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种电磁屏蔽材料，其特征在于，包括：基材，所述基材具有面向外部的镀膜面；金属镀膜层，所述金属镀膜层覆盖于所述镀膜面； 氧化保护体，所述氧化保护体数量为多个，多个所述氧化保护体分散的排布于所述金属镀膜层远离所述镀膜面的表面以形成氧化保护网，且所述氧化保护网的金属性强于所述金属镀膜层的金属性，以防止所述金属镀膜层被氧化。2.如权利要求1所述的电磁屏蔽材料，其特征在于，多个所述氧化保护体沿所述镀膜面的长度方向排布形成氧化保护列，所述氧化保护列的数量为多个，多个所述氧化保护列沿所述镀膜面的宽度方向排布，位于同一列的相邻的两个所述氧化保护体相互抵接或者相互之间具有间隙；和/或，多个所述氧化保护体沿所述镀膜面的宽度方向排布形成氧化保护行，所述氧化保护行的数量为多个，多个所述氧化保护行沿所述镀膜面的长度方向排布，位于同一行的相邻的两个所述氧化保护体相互抵接或者相互之间具有间隙；多个所述氧化保护行与多个所述氧化保护列交错连接。3.如权利要求1所述的电磁屏蔽材料，其特征在于，多个所述氧化保护体沿第一方向排布形成第一倾斜保护列，所述第一倾斜保护列的延伸方向与与所述镀膜面的长度方向的夹角为锐角，所述第一倾斜保护列的数量为多个，多个所述第一倾斜保护列沿所述镀膜面的长度方向排布，且位于同一列的相邻的两个所述氧化保护体相互抵接或者相互之间具有间隙；和/或，多个所述氧化保护体沿第二方向排布形成第二倾斜保护列，所述第二倾斜保护列的延伸方向与与所述镀膜面的宽度方向的夹角为钝角，所述第二倾斜保护列的数量为多个，多个所述第二倾斜保护列沿所述镀膜面的宽度方向排布，且位于同一列的相邻的两个所述氧化保护体相互抵接或者相互之间具有间隙；多个所述第一倾斜保护列与多个所述第二倾斜保护列交错连接。4.如权利要求3所述的电磁屏蔽材料，其特征在于，所述第一倾斜保护列的延伸方向与与所述镀膜面的长度方向的夹角α为30
‑
60度，所述第二倾斜保护列的延伸方向与与所述镀膜面的宽度方向的夹角β为120
‑
150度。5.如权利要求1所述的电磁屏蔽材料，其特征在于，所述金属镀膜层与所述氧化保护网的厚度比为3：1
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6：1。6.如权利要求1所述的电磁屏蔽材料，其特征在于， 所述氧化保护网包括镍层、钴层、锌层、铟层、锡层、铝层、钛层、铁层、镁层、铅层中的任意一...

【专利技术属性】
技术研发人员：夏祥国，
申请(专利权)人：深圳市乐工新技术有限公司，
类型：发明
国别省市：