对准装置制造方法及图纸

对准装置具备控制部(4)，其在掩模(11)与基板(12)的铅垂方向上的距离比相机(3)的景深前端距离长的情况下，一边使基板(12)进行高速接近移动一边基于基板标记(121)与掩模标记(112)的距离来调整掩模(11)与基板(12)的水平方向上的位置，在掩模(11)与基板(12)的铅垂方向上的距离为相机(3)的景深前端距离以下的情况下，一边使基板(12)比高速接近移动慢地进行接近移动一边基于基板标记(121)与掩模标记(112)的距离来调整掩模(11)与基板(12)的水平方向上的位置。方向上的位置。方向上的位置。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】对准装置


[0001]本专利技术涉及对准装置。

技术介绍

[0002]已知有如下的对准装置，其设置于将成膜材料经由掩模的掩模开口部堆积在基板上来在基板上形成薄膜的成膜装置，用于进行掩模与基板的位置的调整。
[0003]在专利文献1中记载有如下的内容：具备低倍率相机和高倍率相机，利用低倍率相机拍摄掩模的粗略标记来取得粗略标记的位置信息，基于该位置信息以使掩模的精细标记位于高倍率相机的拍摄范围的方式移动高倍率相机，利用低倍率相机同时拍摄基板的粗略标记和掩模的粗略标记，使基板与掩模相对移动来进行粗略定位，利用高倍率相机同时拍摄基板的精细标记和掩模的精细标记，使基板与掩模相对移动来进行精细定位。
[0004]在先技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2015
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67845号公报

技术实现思路

[0007]本专利技术要解决的问题
[0008]在专利文献1所记载的对准装置中，在进行粗略定位和精细定位之后，使掩模与基板紧贴，因此从开始对准到掩模与基板紧贴为止花本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种对准装置，其具备：拍摄部，其对形成于基板的基板标记和形成于掩模的掩模标记同时进行拍摄；以及控制部，其根据所述拍摄部拍摄到的图像，算出所述基板标记与所述掩模标记的距离，所述控制部在所述基板与所述掩模的距离比所述拍摄部的景深前端距离长的情况下，一边使所述基板与所述掩模以规定的速度接近，一边进行基于所述基板标记与所述掩模标记的距离使所述基板和所述掩模中的至少一方移动来使所述基板与所述掩模的位置靠近的第一对准处理，在所述基板与所述掩模的距离为所述拍摄部的景深前端距离以下的情况下，一边使所述基板与所述掩模以比所述规定的速度慢的速度接近，一边进行基于所述基板标记与所述掩模标记的距离使所述基板和所述掩模中的至少一方移动来使所述基板与所述掩模的位置一致的第二对准处理。2.根据权利要求1所述的对准装置，其中，所述控制部在所述基板与所述掩模的距离比所述拍摄部的景深前端距离长的情况下，反复执行在使所述基板与所述掩模接近了规定的距离之后进行所述第一对准处理的操作，在所述基板与所述掩模的距离为所述拍摄部的景深前端距离以下的情况下，反复执行在使所述基板与所述掩模接近了比所述规定的距离短的距离之后进行所述第二对准处理的操作。3.一种对准装置，其具备：拍摄部，其对形成于基板的基板标记和形成于掩模的掩模标记同时进行拍摄；以及控制部，其根据所述拍摄部拍摄到的图像，算出所述基板标...

【专利技术属性】
技术研发人员：若林雅，泷本政美，野本将史，
申请(专利权)人：株式会社V技术，
类型：发明
国别省市：