掩模、掩模制造方法及掩模组件技术

在此公开了一种掩模、掩模组件和制造掩模的方法。所述掩模包括：聚合物膜，在其中限定有至少一个单元区域和至少一个外围区域，所述至少一个外围区域围绕所述至少一个单元区域；导电层，设置在聚合物膜上并且包括金属；无机层，设置在聚合物膜和导电层之间并且包括硅基无机材料；以及多个孔，穿透聚合物膜、导电层和无机层并且在平面图中与所述至少一个单元区域叠置。叠置。叠置。

【技术实现步骤摘要】
掩模、掩模制造方法及掩模组件
[0001]本申请要求于2020年11月3日在韩国知识产权局提交的第10
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2020
‑
0145382号韩国专利申请的优先权和权益，该韩国专利申请的全部内容通过引用包含于此。


[0002]专利技术涉及一种具有改进的可靠性的掩模、一种制造该掩模的方法以及一种包括该掩模的掩模组件。

技术介绍

[0003]显示面板包括像素。像素中的每个包括诸如晶体管的驱动元件和诸如有机发光二极管的显示元件。显示元件可以通过在基底上设置电极和发光图案形成。
[0004]使用其中限定有孔的掩模在特定区域上形成发光图案。发光图案可以形成在由孔暴露的区域上。因为显示面板的批量生产需要重复使用生产设施，所以会需要研究以提供具有提高的可靠性的生产设施。
[0005]将理解的是，该
技术介绍
部分旨在部分地为理解技术提供有用的背景。然而，该
技术介绍
部分还可以包括想法、构思或认识，所述想法、构思或认识不是在此公开的主题的相应有效提交日期前相关领域技术人员已知或理解的内容部分。<br/>
技术实现思路
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩模，所述掩模包括：聚合物膜，在所述聚合物膜中限定有至少一个单元区域和至少一个外围区域，所述至少一个外围区域围绕所述至少一个单元区域；导电层，设置在所述聚合物膜上，所述导电层包括金属；无机层，设置在所述聚合物膜与所述导电层之间，所述无机层包括硅基无机材料；以及多个孔，穿透所述聚合物膜、所述导电层和所述无机层，并且在平面图中与所述至少一个单元区域叠置。2.根据权利要求1所述的掩模，其中，所述无机层包括氧化硅和氮化硅中的至少一种。3.根据权利要求1所述的掩模，其中，所述聚合物膜包括聚酰亚胺、聚碳酸酯、聚萘二甲酸乙二醇酯和聚对苯二甲酸乙二醇酯中的至少一种。4.根据权利要求1所述的掩模，其中，所述导电层包括镍、金、钛、钼、氮化钛、氧化铟锡和氧化铟锌中的至少一种。5.根据权利要求1所述的掩模，其中，所述聚合物膜的厚度在3μm至50μm的范围内。6.根据权利要求1所述的掩模，其中，所述无机层的厚度小于所述聚合物膜的厚度。7.根据权利要求1所述的掩模，其中，所述至少一个单元区域包括多个单元区域，所述多个单元区域彼此间隔开，以及所述至少一个外围区域设置在所述多个单元区域中的相邻单元区域之间。8.一种掩模组件，所述掩模组件包括：掩模框架，在所述掩模框架中限定有至少一个开口；以及至少一个掩模，对应于所述掩模框架的所述至少一个开口设置在所述掩模框架上，其中，所述至少一个掩模包括：聚合物膜，在所述聚合物膜中限定有至少一个单元区域和至少一个外围区域，所述至少一个外围区域围绕所述至少一个单元区域；导电层，设置在所述聚合物膜上，所述导电层包括金属；无机层，设置在所述聚合物膜和所述导电层之间，所述无机层包括硅基无机材料；以及多个孔，穿透所述聚合物膜、所述导电层和所述无机层，并且在平面图中与所述至少一个单元区域叠置。9.根据权利要求8所述的掩模组件，其中，所述无机层包括氧化硅和氮化硅中的至少一种。10.根据权利要求8所述的掩模组件，其中，所述至少一个单元区域包括多个单元区域，所述多个单元区域彼此间隔开，所述至少一个外围区域设置在所述多个单元区域中的相邻单元区域之间，并且在平面图中，所述多个单元区域与所述至少一个开口叠置。11.根据权利要求8所述的掩模组件，其中，所述至少一个开口包括多个开口，所述至少一个掩...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙智熙，文敏浩，文英慜，宋昇勇，李璱，任星淳，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：