一种Ni/Ti非周期多层膜及其制备方法和应用、Ni/Ti非周期多层膜中子超反射镜技术

本发明专利技术涉及中子超反射镜技术领域，尤其涉及一种Ni/Ti非周期多层膜及其制备方法和应用、Ni/Ti非周期多层膜中子超反射镜。本发明专利技术提供了一种Ni/Ti非周期多层膜的制备方法，包括以下步骤：在N2、O2和Ar的混合气氛中，在基底表面溅射Ni层，得到NiN

【技术实现步骤摘要】
一种Ni/Ti非周期多层膜及其制备方法和应用、Ni/Ti非周期多层膜中子超反射镜


[0001]本专利技术涉及中子超反射镜
，尤其涉及一种Ni/Ti非周期多层膜及其制备方法和应用、Ni/Ti非周期多层膜中子超反射镜。

技术介绍

[0002]随着中子检测技术的快速发展和广泛应用，现在对于入射到样品表面中子强度的要求越来越高，中子多层膜光学元件是提高中子反射率和利用率的有效手段之一。中子超反射镜是由中子光学常数相差较大的两种材料构成的非周期多层膜。这种非周期多层膜在膜系的不同位置具有不同的周期厚度，可以使具有不同波数的入射中子在多层膜反射镜的不同位置得到反射，从而拓展中子超反射镜的反射临界角。在中子超反射镜研究方面，人们将超反射镜的反射临界角与Ni单层膜的全反射临界角之间的比值定义为超反射镜的m值，m值越大，超反射镜的性能越高，所需多层膜的层数越多，制作难度也越大。折射率差异大的两种材料组成的多层膜，有利于中子在界面处的反射，可以用比较少的膜对数达到接近100％的峰值反射率。由这样的材料对构成的超反射镜，达到相同的m值所需要的膜对数会比较少。N本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种Ni/Ti非周期多层膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：在N2、O2和Ar的混合气氛中，在基底表面溅射Ni层，得到NiN
x
O
y
层；所述x的取值范围为0≤x<1，所述y的取值范围为0≤y<1；在Ar气氛中，在所述NiN
x
O
y
层的表面溅射Ti层，得到Ti层；重复上述溅射Ni层和溅射Ti层的过程，得到所述Ni/Ti非周期多层膜；所述重复的次数≥1。2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述N2、O2和Ar的混合气氛中N2和O2的总体积百分含量为10～50％。3.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述溅射Ni层和溅射Ti层的方式为直流磁控溅射。4.如权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述溅射Ni层的条件参数为：N2的流量为10～40sccm，O2的流量为2.5～7.5sccm，Ar的流量为100sccm；本底真空度为(2～7)
×
10
‑4Pa；工作气压为0.1～0.8Pa。5.如权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱京涛，孙航，林旺，陈溢祺，屠洛涔，郭汉明，
申请(专利权)人：苏州闻道电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：