一种砷化镓晶片表面清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种砷化镓晶片表面清洗装置，涉及晶片清洗技术领域，不能翻转，使得只能清洗一面，使得整体清洗效果较差，且常用的清洗装置清洗效率较低，包括清洗箱，所述清洗箱的一侧固定安装有旋转组件和摆动组件，清洗箱的顶部插接有软管，可将晶片放置在定夹块和动夹块之间，弹簧一可对晶片进行固定，设置有限位块，可对晶片进行限位，横架插接在转轴上，第一电机可带动横架转动，插柱可在横筒内伸缩，弹簧二可抵住插柱对横架进行限位，方便拆卸安装横架，启动第二电机带动转杆运动，可带动连杆往复运动，限位套可对连杆进行限位，固定杆可对硬管进行限位，硬管的顶部与清洗箱的顶部转动连接，喷头可实现一定弧度的摆动，提高喷洒效率。提高喷洒效率。提高喷洒效率。

【技术实现步骤摘要】
一种砷化镓晶片表面清洗装置


[0001]本技术涉及晶片清洗
，具体是一种砷化镓晶片表面清洗装置。

技术介绍

[0002]用砷化镓制成的半导体器件具有高频、高温、低温性能好、噪声小、抗辐射能力强等优点砷化镓是半导体材料中，兼具多方面优点的材料。
[0003]砷化镓晶片在切割后清洗时，往往不能全面的清洗上面附着的颗粒，不能翻转，使得只能清洗一面，使得整体清洗效果较差，且常用的清洗装置清洗效率较低。针对这种情况，本领域技术人员提供了一种砷化镓晶片表面清洗装置。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种砷化镓晶片表面清洗装置，以解决上述
技术介绍
中提出的不能翻转、清洗效率较低的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：
[0006]一种砷化镓晶片表面清洗装置，包括清洗箱，所述清洗箱的一侧固定安装有旋转组件和摆动组件，清洗箱的顶部插接有软管。
[0007]所述旋转组件包括第一电机，第一电机固定安装在清洗箱的一侧，第一电机的输出端固定安装有转轴，转轴的一端贯穿清洗箱的一侧并套设有横本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种砷化镓晶片表面清洗装置，包括清洗箱(1)，其特征在于，所述清洗箱(1)的一侧固定安装有旋转组件(2)和摆动组件(3)，清洗箱(1)的顶部插接有软管(4)；所述旋转组件(2)包括第一电机(21)，第一电机(21)固定安装在清洗箱(1)的一侧，第一电机(21)的输出端固定安装有转轴(22)，转轴(22)的一端贯穿清洗箱(1)的一侧并套设有横架(23)，且横架(23)的侧面设置有多个安装块(24)，安装块(24)的一侧设置有定夹块(25)，安装块(24)内插接有动夹块(26)，动夹块(26)的一侧设置有弹簧一(27)，且弹簧一(27)设置在安装块(24)内，横架(23)的一端插接有插柱(210)，且插柱(210)上套设有横筒(29)，横筒(29)的一侧内壁与插柱(210)的一端之间设置有弹簧二(211)，且横筒(29)与清洗箱(1)的另一侧内壁固定安装。2.根据权利要求1所述的一种砷化镓晶片表面清洗装置，其特征在于，所述横架(23)上设置有多个限位块(28)，且限位块(28)设置在定夹块(25)和动夹块(26)之间。3.根据权利要求1所述的一种砷化镓晶片表面清洗装置，其特征在于，所述转轴(22...

【专利技术属性】
技术研发人员：邹长广，蔡志宏，
申请(专利权)人：武汉万赢半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：