带有防潮阻反膜的氯化钾窗口和透镜材料及其制备方法技术

本发明专利技术提供了一种氯化钾防潮阻反膜，其特征在于，第一层为氟化钠，厚度为１. ７～２. ２５μｍ，第二层为磁控溅射类金刚石膜，厚度为５００～１０００＊，本发明专利技术的优点在于在１０. ６μｍ反射率小，吸收率低，抗连续ＣＯ↓［２］激光损伤阈值高，而且具有抗潮解的能力，因此适合于用作千瓦级以上乃至万瓦工业和军事高功率ＣＯ↓［２］激光ＫＣｌ窗口和透镜的防潮阻反膜系，也适合于一般中、小功率红外光学器件及其它光学材料。（*该技术在2013年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于在强激光窗口和透镜材料氯化钾(KCl)晶体上镀制防潮反膜的技术。本专利技术所制备的膜系为以磁控溅射类金刚石碳膜(DLC)为Top Coating的KCl//NaF//DLC双层阻反膜系。目前在激光加工技术中广泛应用的千瓦级以上CO2激光(波长10.6μm)装置，大都采用ZnSe和GaAs作为窗口和透镜材料。但ZnSe和GaAs价格十分昂贵，在生长过程中会产生有毒物质，污染环境，而且在高功率激光幅照下会产生光学热畸变效应。KCl晶体透过范围宽(0.2～25μm)，吸收系数低(在10.6μm为2×10-4cm-1)，几乎无热光学畸变，易生长大尺寸单晶，且价格十分便宜，是千瓦级以上高功率工业和军事CO2激光理想的窗口和透镜材料。但是KCl在大气中极易潮解失透;在10.6μm反射率约为7%，应用于高功率时还必须镀阻反膜。因此，在KCl基体上镀制能起到防潮作用而且对激光吸收小的阻反膜是KCl在激光加工技术中应用的关键。现有的KCl阻反膜有NaF单层阻反膜和AS2S3，P6F2，AS2S3三层阻反膜系(见美国专利US 4，533，593，1985)。但NaF本身也较易潮解，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种氯化钾（ＫＣｌ）晶体的双层阻反膜系，其特征在于在氯化钾基体上镀双层膜，第一层为氟化钠（ＮａＦ），第二层为磁控溅射类金刚石碳膜（ＤＬＣ），至少在氯化钾基体的一面镀膜，。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吕反修，程德刚，叶锐曾，孙庆标，于文秀，杨让，
申请(专利权)人：北京科技大学，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]