【技术实现步骤摘要】
专利技术涉及一种金属纳米缝阵列成像装置，特别涉及一种包含纳米缝的金属膜透镜。
技术介绍
近年来，纳米技术得到了突飞猛进的发展，其在生物医学检测等方面的应用也对相应的近场光学成像提出了新的要求，各种成像器件正在逐步朝着小型化和集成化的方向发展。在一系列的新型成像器件中，超透镜(Superlens)越来越受到人们的关注，超透镜最大的优点是可以突破传统衍射极限，从而达到一个很高的成像分辨率；然而其缺点也很明显，由于超透镜成像利用了倏逝波放大原理，所以成像位置仅限于离银层非常近的一段距离，一般为几十纳米，虽然可以通过加入其它结构将超透镜成像引至远场，但其结构非常复杂并且对准精度要求很高，不利于系统集成化。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是克服现有技术的不足，利用表面等离子体原理引出了一种结构简单，方便用于光路系统集成的包含纳米级缝隙的金属膜透镜。 本专利技术解决其技术所采用的技术方案一种包含纳米缝隙的金属膜透镜，其特征在于步骤如下 (1)选择入射光的工作波长λ，根据其波长选择可以透光的基底材料； (2)在基底表面蒸镀厚度为d的金属膜，入射...
【技术保护点】
一种包含纳米缝的金属膜透镜，其特征在于包括下列步骤：（１）选择入射光的工作波长λ，根据其波长选择可以透光的基底材料；（２）在基底表面蒸镀厚度为ｄ的金属膜，入射光垂直于金属膜上表面入射；（３）根据式（１）计算入射波在所 取的金属膜中的趋肤深度：＊＊＊（１）其中ｄ↓［Ｆ］表示趋腹深度，ε↓［１］表示金属的介电常数的实部，ε↓［２］表示金属周围介质的介电常数；（４）取垂直穿过金属膜中心的轴为中轴，假设中轴与金属膜上表面相交位置为坐标 原点，在金属膜上表面取过原点的某方向为ｘ轴方向，...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：罗先刚，徐挺，杜春雷，王长涛，
申请(专利权)人：中国科学院光电技术研究所，
类型：发明
国别省市：51[中国|四川]
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