【技术实现步骤摘要】
预测性维护方法和预测性维护设备
[0001]描述了与预测性维护方法和预测性维护设备相关的示例。
技术介绍
[0002]例如,在半导体制造装置中,各种模块用于控制或监测过程。这种模块的示例包括质量流量控制器(MFC)、自动压力控制器(APC)、RF发生器、光电检测器和温度测量装置。RF发生器可以产生具有预定波形的高频功率,还可以测量等离子体发射强度或等离子体发射时间。
[0003]由于一些长期使用,模块会随时间而劣化。如果模块出现故障,生产活动将停止,因此有必要在模块出现故障之前检测模块的劣化情况。然而,简单地修理或更换模块以防止模块劣化的对策将导致多次重复相同的劣化过程。
技术实现思路
[0004]本文描述的一些示例可以解决上述问题。本文描述的一些示例可以提供预测性维护方法和预测性维护设备,其可以改进系统和改进配方。
[0005]在一些示例中,一种预测性维护方法包括:确定在已经使用配方的衬底处理中测量的模拟数据是否超过对应于配方并且已经预先确定的可允许阈值;以及在在确定中模拟数据超过可允许阈值 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种预测性维护方法,包括:确定在已经使用配方的衬底处理中测量的模拟数据是否超过对应于配方并且已经预先确定的可允许阈值;以及在所述确定中确定了模拟数据超过可允许阈值的情况下,通知用户已经预先与模拟数据相关的有关模块已经劣化。2.根据权利要求1所述的预测性维护方法,其中,所述模拟数据是质量流量控制器的流量输出信号,并且所述有关模块是质量流量控制器。3.根据权利要求1所述的预测性维护方法,其中,所述模拟数据是自动压力控制器的压力信号,并且所述有关模块是自动压力控制器。4.根据权利要求1所述的预测性维护方法,其中,所述模拟数据是由RF发生器测量的信号、由光电检测器检测的信号或由温度测量装置测量的信号。5.根据权利要求1所述的预测性维护方法,包括:根据所述配方获得在处理多个虚拟晶片时测量的多个模拟数据的平均值;以及基于平均值确定所述可允许阈值。6.根据权利要求1所述的预测性维护方法,包括:使用具有不同内容的多个配方对每个衬底处理进行确定;以及通过计算每个安全度来指定高负载配方,其是提供比预定标准的安全度更低的安全度的配方,安全度指示在使用多个配方的衬底处理中获得的多个模拟数据与为多个配方预先确定的多个可允许阈值有多大差距。7.根据权利要求6所述的预测性维护方法,包括改变高负载配方。8.根据权利要求6所述的预测性维护方法,包括抑制高负载配方的使用频率。9.根据权利要求6所述的预测性维护方法,包括将所述高负载配方...
【专利技术属性】
技术研发人员:大森拓,
申请(专利权)人:ASMIP私人控股有限公司,
类型:发明
国别省市:
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