【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及压印光刻术，压印光刻术借助把模压表面压入可塑表面，使模具图压印在有可塑表面的工件表面上。更具体说，本专利技术涉及一种用于监测和控制压印光刻术的方法和设备，这种压印光刻术对压印有微尺寸或纳米尺寸的线条特别有用。
技术介绍
在衬底上形成微小线条的方法，对制作许多电子的、磁的、机械的、和光学的装置，以及生物分析和化学分析的装置，是十分重要的。该种方法，例如可用于定义微电路的线条和结构，以及平面光波导和有关光学装置的结构及工作线条。光学光刻术是形成这种线条的常规方法。在衬底表面涂上一层光致抗蚀剂薄层，并使光刻胶中选择的部分在光的图中曝光。然后，对光刻胶显影，露出已曝光的衬底上需要的图，供进一步处理，例如蚀刻处理。光学光刻术处理过程的难点在于，分辨率受光波长、光刻胶及衬底中的散射、和光刻胶厚度及性质的限制。因此，随着需要的线条大小变得更小，使光学光刻术变得更加困难。还有，光刻胶的涂布、显影、和去除，是相对缓慢的步骤，限制了生产的速度。而压印光刻术，根据的是基本上不同的原理，能提供高的分辨率、高的生产能力、低的成本、和可能覆盖的大的面积。在压印光刻术中，有细...
【技术保护点】
一种在有可塑表面的工件的表面进行压印的方法中，实施监测或测量该方法的至少一个参数的方法，本方法包括的步骤有：提供有模压表面的模具，用于压印一组线条，其中包括供测量用的测试图；对可塑表面进行压印，包括把模压表面压入可塑表面的步 骤；至少在一部分压印步骤期间，用辐射照射测试图；监测或测量从测试图散射、反射、或透射的辐射的至少一个分量，以监测或测量压印的至少一个参数。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：斯蒂芬Y舒，余兆宁，
申请(专利权)人：普林斯顿大学知识产权和技术许可办公室，
类型：发明
国别省市：US[美国]
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