温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
一种在压印光刻术处理过程中测量或监测至少一个参数的处理过程,包括如下步骤:提供具有用于压印测试图的表面的模具(方框A);把测试图压印在可塑表面上(方框B);照射测试图(方框C);测量散射、反射、或透射的辐射中的分量,以监测压印的参数(方框D...该专利属于普林斯顿大学知识产权和技术许可办公室所有,仅供学习研究参考,未经过普林斯顿大学知识产权和技术许可办公室授权不得商用。
温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
一种在压印光刻术处理过程中测量或监测至少一个参数的处理过程,包括如下步骤:提供具有用于压印测试图的表面的模具(方框A);把测试图压印在可塑表面上(方框B);照射测试图(方框C);测量散射、反射、或透射的辐射中的分量,以监测压印的参数(方框D...