激光薄膜多晶硅退火系统技术方案

公开了一种气体放电激光结晶化设备和方法，用来完成工件的膜中的晶体结构或取向的转换，其可以包括以主振荡器功率放大器ＭＯＰＡ或功率振荡器功率放大器配置的ＸｅＦ激光系统，所述激光系统以高重复率和高功率产生具有脉冲对脉冲剂量控制的激光输出光脉冲光束；从所述激光输出光脉冲光束产生长而薄的脉冲工作光束的光学系统。所述设备还可以包括被配置为ＰＯＰＡ激光系统的激光系统，并且进一步包括：用来将来自第一激光ＰＯ单元的第一输出激光光脉冲光束引导进入第二激光ＰＡ单元的传递光学装置；以及，定时和控制模块，用来将第一和第二激光单元中的气体放电的产生定时在正或负３ｎｓ内，以生成作为第一激光输出光脉冲光束的放大的第二激光输出光脉冲光束。所述系统可以包括在振荡器激光单元中的发散控制器。发散控制器可以包括非稳定谐振器结构。所述系统还可以包括介于所述激光器和所述工件之间的光束指向控制机构，以及介于所述激光器和所述工件之间的光束定位控制机构。光束参数计量可以为所述光束指向控制机构提供主动反馈控制，并且可以为所述光束定位控制机构提供主动反馈控制。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及脉冲激光系统，所述脉冲激光系统用于涉及用激光对表面和/或衬底进行处理的加工工艺，所述处理是在大的面积和高重复率、高功率和脉冲对脉冲剂量稳定性的情况下进行的，并且更具体地，涉及细线光脉冲传输系统。相关申请本申请要求2004年7月1日递交的、名称为“LASER THIN FILMPOLY-SILICON ANNEALING OPTICAL SYSTEM(激光薄膜多晶硅退火光学系统)”、序列号为10/884,547的美国申请的优先权，该美国申请是2004年2月18日递交的、名称为“VERY HIGH ENERGY，HIGH STABILITY GAS DISCHARGE LASER SURFACETREATMENT SYSTEM(非常高能量、高稳定性气体放电激光器表面处理系统)”、序列号为10/781,251(律师案卷号为2003-0105-02)的美国申请的部分继续申请，该美国申请是2003年11月26日递交的、名称为“VERY HIGH ENERGY，HIGH STABILITY GASDISCHARGE LASER SURFACE TREATMENT SYSTEM本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种气体放电激光结晶化设备，用来完成工件上的膜中的晶体结构或取向的转换，所述设备包括：　　　　ＭＯＰＡ或ＰＯＰＡ配置的ＸｅＦ激光系统，所述激光系统以高重复率和高功率产生具有脉冲对脉冲剂量控制的激光输出光脉冲光束；　　　　光学系统，所述光学系统从所述激光输出光脉冲光束产生长而薄的脉冲工作光束。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：威廉N帕特罗，帕拉什P达斯，拉塞尔赫迪玛，迈克尔托马斯，
申请(专利权)人：TCZ股份有限公司，
类型：发明
国别省市：CH[瑞士]