光激活抗菌敷料及其制备方法技术

本发明专利技术提供了一种光激活抗菌敷料及其制备方法，所述制备方法包括：S1、将MAX陶瓷蚀刻为MXene纳米片；S2、制备MXene/Ag3PO4异质结；S3、用聚多巴胺修饰MXene/Ag3PO4异质结；以及S4、将聚己内酯颗粒和聚多巴胺修饰MXene/Ag3PO4异质结溶解、混匀、成膜，得到纳米纤维膜。本发明专利技术的用于感染伤口治疗的伤口敷料，可以短期快速杀菌，长期抑菌并促进伤口愈合的效果。果。果。

【技术实现步骤摘要】
光激活抗菌敷料及其制备方法


[0001]本专利技术医用材料
，更具体地，涉及一种光激活抗菌敷料及其制备方法。

技术介绍

[0002]皮肤作为人体最大的器官和第一道防线，在保护机体内环境免受外界损害中起至关重要的作用。一旦皮肤受损，失去了原有的防御功能，皮下组织便会受到微生物侵袭，导致感染，给病人带来躯体和精神上的痛苦，更有甚者，还会引起截肢或死亡。此外，如果患者本身伴有基础疾病，如糖尿病，易导致慢性创口的产生，反复的治疗也易引起耐药菌的出现。
[0003]目前对于感染伤口的治疗，多采用清创敷料包扎的方法。但是传统的伤口敷料只有吸收伤口渗液/形成物理屏障的作用，这导致局部伤口残留的细菌依然可以不断增殖产生顽固伤口。为了获得抗菌性能，有些敷料内添加了抗生素，纳米银等抗菌剂。然而这些抗菌剂的过度使用多伴有一定的生物毒性，且抗生素的滥用已经导致了耐药菌的流行。

技术实现思路

[0004]针对现有技术中存在的诸多不足之处，本专利技术的目的之一在于解决现有技术中存在的一个或多个问题。例如，本专利技术的目的之一在于提供一种可以解本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光激活抗菌敷料的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：S1、将MAX陶瓷蚀刻为MXene纳米片；S2、制备MXene/Ag3PO4异质结；S3、用聚多巴胺修饰MXene/Ag3PO4异质结；以及S4、将聚己内酯颗粒和聚多巴胺修饰MXene/Ag3PO4异质结溶解、混匀、成膜，得到纳米纤维膜。2.一种光激活抗菌敷料的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：S1、将MAX陶瓷蚀刻为MXene纳米片；S2、制备MXene/AgS异质结；S3、用聚多巴胺修饰MXene/AgS异质结；以及S4、将聚己内酯颗粒和聚多巴胺修饰MXene/AgS异质结溶解、混匀、混匀、成膜，得到纳米纤维膜。3.根据权利要求1或2所述的光激活抗菌敷料的制备方法，其特征在于，所述步骤S1包括：S11、将MAX陶瓷原料浸泡在蚀刻溶液中，并在37～45℃恒温下，持续搅拌12～24小时。4.根据权利要求1或2所述的光激活抗菌敷料的制备方法，其特征在于，所述蚀刻溶液是氟化锂和盐酸溶液的混合物。5.根据权利要求1或2所述的光激活抗菌敷料的制备方法，其特征在于，所述步骤S1还包括：S12、用去离子水冲洗沉淀，3500～4500r/min离心；将产物在真空干燥机中冻干，得到蚀刻的MXene。6.根据权利要求1所述的光激活抗菌敷料的制备方法，其特征在于，所述步骤S2包括：S21、将所述步骤S1得到的MXene分散在蒸馏水中，加入Ag
+
溶液，使Ag
+
静电吸附在MXene表面，所得产物透析，直到透析液中没有Ag
+
残留；S22、强烈搅拌透析液，并...

【专利技术属性】
技术研发人员：梁坤能，杨英明，陶思颖，邓怡，李继遥，
申请(专利权)人：四川大学，
类型：发明
国别省市：