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本发明提供了一种光激活抗菌敷料及其制备方法，所述制备方法包括：S1、将MAX陶瓷蚀刻为MXene纳米片；S2、制备MXene/Ag3PO4异质结；S3、用聚多巴胺修饰MXene/Ag3PO4异质结；以及S4、将聚己内酯颗粒和聚多巴胺修饰MX...
该专利属于四川大学所有，仅供学习研究参考，未经过四川大学授权不得商用。

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