可调谐分布反馈量子级联激光器的波导与光栅的结构及所述光栅的制备方法技术

技术编号:3313144 阅读:126 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及一种旨在获得低阈值电流密度、高边模抑制比的可调谐分布反馈量子级联激光器的波导和光栅结构,并发明专利技术了实现设计结构要求的激光器一级光栅的制备方法。所述的激光器波导与光栅结构是一种利用一个深的一级光栅和一个在光栅下方的薄的重掺杂半导体层构成波导中的限制结构。所述的光栅腐蚀技术是利用InGaAs/InP结构作为光栅的腐蚀牺牲层,选择不同的腐蚀液配比,获得深度大范围可调,精度可控的光栅结构。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及分布反馈量子级联激光器的波导和光栅的结构以及光栅的制备方法,属于半导体光电子领域。
技术介绍
分布反馈量子级联激光器可提供中远红外波段的可调谐单模激光,可以作为半导体吸收光谱的光源高灵敏度地检测各种痕量气体,如CO2、CH4、HCl、NO2、N2O等,因此在空气质量检测、医疗诊断、工业控制等领域有重要的应用前景。为了应用的方便性和提高气体检测的灵敏度,分布反馈量子级联激光器被要求工作在室温连续的模式下。然而迄今为止,只有极个别波长的分布反馈量子级联激光器(DFB QCL)实现了室温连续工作,然而所述的这些DFBQCL均利用了掩埋光栅和二次外延技术,这些复杂技术的利用使得激光器的研制过程变得非常复杂,也不利于提高器件的可靠性和量化生产。而对于那些将光栅做在激光器外延材料顶部而无需二次外延的DFB QCL,目前还无法实现室温连续工作。只能实现室温下的脉冲工作,而且阈值电流密度较高(约5KA/cm2)。然而,将光栅做在激光器外延材料顶部(顶光栅结构)的器件工艺相对简单,有利于提高生产的可靠性和可重复性,以及量化生产。因此,现实需求和现状迫切要求提供一种制备低阈值电流密度D本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种可调谐分布反馈量子级联激光器的波导与光栅的结构,其特征在于所述的分布反馈量子级联激光器的波导与光栅结构为:在n型InP衬底上依次为InGaAs下波导层、InGaAs/AlInAs有源区、InGaAs上波导层中等掺杂InP限制层、重掺杂n型重掺杂InP限制层和InGaAs帽层;n型重掺杂InP限制层和InGaAs帽层为光栅的腐蚀层,控制重掺杂InP层的厚度以及光栅腐蚀的深度,使得一级光栅的深度≥0.5μm,光栅沟槽下方未被腐蚀的InP重掺杂层为0.1μm,掺杂浓度以及各层厚度应视激光器具体波长,结合波导理论的数值计算而定。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:徐刚毅李耀耀李爱珍
申请(专利权)人:中国科学院上海微系统与信息技术研究所
类型:发明
国别省市:31[中国|上海]

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