【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种高效率产生真空紫外领域波长光的真空紫外光源。尤其涉及一种高效率作为真空紫外光源(以下也称为VUV光源)的电介质阻挡放电准分子光源,该光源可用于微电子领域中利用紫外光进行材料清洗或者利用紫外光进行材料表面再质(surfacereformation表面再质)。
技术介绍
作为能产生VUV波带波长光的自发辐射光源(spontaneousradiation lamp),其中利用惰性气体的B-X跃迁而产生VUV波带辐射的气体光源已众所周知。准分子在向基态的能级准位跃迁时能产生的强烈发光,利用了电介质阻挡放电的VUV自发辐射光源,是这种气体光源的代表性光源。电介质阻挡放电为,利用在电极之间设置玻璃或陶瓷等电介质构成的放电装置而实现的放电。通过在电极之间设置电介质,能够防止电极之间发生电弧放电,从而实现准分子的稳定发光。这种利用电介质阻挡放电光源的工作原理为,通过气体中流动的电介质阻挡放电产生等离子体化学反应,在放电气体等离子体中生成所谓的准分子,由该准分子自发辐射(spontaneous radiation)产生发光。准分子的特点为,只在激发态具有稳定的 ...
【技术保护点】
一种电介质阻挡放电准分子光源,其特征在于:具有由电介质及被该电介质覆盖的中空的直长筒体构成的阳极;阴极为包容该阳极的长形阴极,阴极具有直半筒体和位于该半筒体内的数根相互平行固定的电线构成的线组;上述阳极与上述阴极在纵方向上相互平行设置;在面向上述阳极侧的上述阴极表面形成能够反射真空紫外光谱领域的辐射的反射面。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:米克黑尔I洛梅夫,安德雷A利森戈,维特S斯卡冈,德米特里V施特茨,维特F塔拉森戈,松本好家,
申请(专利权)人:千工程股份有限公司,高电流电子协会,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
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