硅片搬运系统技术方案

本申请提供一种硅片搬运系统，涉及电池生产领域。硅片搬运系统包括前工序载板、后工序载板、搬运装置及升降台；前工序载板具有多个载板槽，用于承载硅片，后工序载板具有具有贯穿其厚度方向的多个载板孔，载板孔用于承载硅片；搬运装置包括移载机构和安装于移载机构的第一吸持件，第一吸持件用于吸持或释放硅片，移载机构能够驱动第一吸持件在载板槽的上方和载板孔的上方往返运动；升降台上安装有能够穿过载板孔的第二吸持件，升降台能够带动第二吸持件升降，第二吸持件被配置成用于吸持在载板孔的上方的硅片并将硅片置于载板孔。本申请的硅片搬运系统，能够减小硅片划伤或被污染的几率。几率。几率。

【技术实现步骤摘要】
硅片搬运系统


[0001]本申请涉及电池片生产设备领域，具体而言，涉及一种硅片搬运系统。

技术介绍

[0002]镀膜在电池片制作过程中是比较关键的环节，特别是在电池片上镀两种不同的膜层时，在电池片上镀上一层膜后需要将电池片快速洁净地传输至下一镀膜设备进行镀膜，从而保证两种镀膜在最短时间完成。
[0003]现有技术中，硅片通常是通过花篮来实现前工序载板和后工序载板的转移，采用花篮时，不能采用输送带直接将前工序载板中的硅片输送进花篮，而是需要移载装置将前工序载板中的硅片取出放置在中转平台，再由搬运装置一片片地将中转平台上的硅片传输至花篮中，再由花篮作为承载介质对镀膜的硅片进行传输，然后再通过另一搬运装置从花篮中将镀膜后的硅片一片片取出放置在另一中转平台上，接着再由另一移载装置将硅片放置到对应的后工序载板，后续再进行下一镀膜工序。该种方式需要经过较多的操作，才能实现硅片在两种镀膜工序设备之间的转移，不仅会使得产能节拍降低，容易造成硅片划伤，或者硅片已镀膜的表面被污染而影响下工序镀膜质量。

技术实现思路

[0004]本申请提供一种硅本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种硅片搬运系统，其特征在于，包括：前工序载板，具有多个载板槽，用于承载硅片；后工序载板，具有贯穿其厚度方向的多个载板孔，所述载板孔用于承载所述硅片；搬运装置，所述搬运装置包括移载机构和安装于所述移载机构的第一吸持件，所述第一吸持件用于吸持或释放所述硅片，所述移载机构用于驱动所述第一吸持件在所述载板槽的上方和所述载板孔的上方往返运动；以及升降台，所述升降台上安装有能够穿过所述载板孔的第二吸持件，所述升降台能够带动所述第二吸持件升降，所述第二吸持件被配置成用于吸持在所述载板孔的上方的硅片并将硅片置于载板孔。2.根据权利要求1所述的硅片搬运系统，其特征在于，所述第二吸持件被配置成在所述第一吸持件移动至所述载板孔的上方时上升以吸持所述硅片，并能够在所述第一吸持件释放所述硅片后下降以将所述硅片置于所述载板孔。3.根据权利要求1所述的硅片搬运系统，其特征在于，所述移载机构包括横移搬运模组和安装于所述横移搬运模组的升降模组，所述第一吸持件安装于所述升降模组，所述横移搬运模组能够带动所述升降模组做直线往复运动。4.根据权利要求3所述的硅片搬运系统，其特征在于，所述升降模组包括有多个升降件，每个所述升降件均安装有所述第一吸持件，所述前工序载板具有多排用于承载所述硅片的载板槽，多个所述第一吸持件能够吸持至少一排所述载板槽中的硅片。5.根据权利要求4所述的硅片搬运系统，其特征在于，所述横移搬运模组上安装有驱动机构，所述升降件与所述横移搬运模组可滑动地连接，所述驱动机构用于驱动多个所述升降件沿所述横移搬运模组的长度方向运动以调节相邻两个所述升降件的距离。6.根据权利要求1～5任一项所述的硅片搬运系统，其特征在于，所述硅片搬运系统还包括硅片定位识别系统和控制器；所述硅片定位识别系统设于所述升降台的上方，用于获取所述第二吸持件吸持的所述硅片的横向位置，并将所述横向位置信息传递给所述控制器；所述控制器根据所述横向位置信息能够控制所述升降台沿横向运动以...

【专利技术属性】
技术研发人员：许明现，马胜涛，段威，李奎源，吴天祥，
申请(专利权)人：东方日升常州新能源有限公司，
类型：新型
国别省市：