硅片移载机构制造技术

本申请涉及一种硅片移载机构，包括第一载台、第二载台以及第一驱动机构，第一载台的上表面设有多个第一出气孔，以通过第一出气孔吹出气体，从而能够将硅片悬浮在第一载台上方，第一载台设有贯穿上下表面的第一通孔槽；第二载台可活动地设置于第一载台下方，第二载台能够伸入第一通孔槽，第二载台的上表面设有多个第二出气孔，以通过第二出气孔吹出气体，从而能够将硅片悬浮在第二载台上方，第二载台还设有第二挡边部，第二挡边部用于挡住硅片的边缘部分；第一驱动机构连接第二载台，第一驱动机构能够控制第二载台移动，以将第一载台上的硅片移走或将硅片转移到第一载台上。本申请的硅片移载机构，通过气浮的方式移载硅片，避免了硅片表面被污染。硅片表面被污染。硅片表面被污染。

【技术实现步骤摘要】
硅片移载机构


[0001]本技术涉及太阳能电池生产设备
，特别是涉及一种硅片移载机构。

技术介绍

[0002]在生产制造太阳能电池时，通常需要将硅片(太阳能电池的基础元件)从一个位置移动到另一个位置。其中，硅片通常放置在花篮中进行制绒工序，制绒完成后硅片需要转移到载板中进行镀膜工序，因此，硅片需要从花篮转移到载板中。通常，硅片从花篮中取出后放置到皮带上，通过皮带进行输送，之后再通过其他移载机构将多个硅片移载到载板上。然而，通过皮带输送的方式移载硅片时，由于硅片直接放置在皮带上，因此硅片的下表面容易粘上皮带印痕或者皮带上的污渍，从而影响硅片的质量。

技术实现思路

[0003]有鉴于此，有必要提供一种硅片移载机构，通过气浮的方式移载硅片，避免硅片表面被污染。
[0004]本技术提供一种硅片移载机构，包括：第一载台、第二载台以及第一驱动机构，所述第一载台的上表面设有多个第一出气孔，以通过所述第一出气孔吹出气体，从而能够将硅片悬浮在所述第一载台上方，所述第一载台设有贯穿上下表面的第一通孔槽；所述第二载台可活动地设置于所述第一载台下方，所述第二载台能够伸入所述第一通孔槽，所述第二载台的上表面设有多个第二出气孔，以通过所述第二出气孔吹出气体，从而能够将硅片悬浮在所述第二载台上方，所述第二载台还设有第二挡边部，所述第二挡边部用于挡住硅片的边缘部分，以在所述第二载台移动时带着硅片移动；所述第一驱动机构连接所述第二载台，所述第一驱动机构能够控制所述第二载台移动，以将所述第一载台上的硅片移走或将硅片转移到第一载台上。
[0005]在其中一个实施例中，所述第一载台的数量为多个，多个所述第一载台排列成一排，所述第二载台的数量为多个，多个所述第二载台排列成一排，多个所述第二载台的排列方向与多个所述第一载台的排列方向相同，相邻的所述第二载台之间通过连接板连接，所述第一驱动机构能够控制所述第二载台沿所述第一载台的排列方向移动。
[0006]在其中一个实施例中，所述第一驱动机构包括第一驱动电机、第一滑轨以及第一滑块，所述第一滑轨沿多个所述第一载台的排列方向设置，且所述第一滑轨位于所述第一载台下方，所述第一滑块可滑动地设置于所述第一滑轨上，所述第二载台设置于所述第一滑块上，所述第一驱动电机设置于所述第一滑轨一端，所述第一驱动电机连接所述第一滑块且能够控制所述第一滑块沿所述第一滑轨移动。
[0007]在其中一个实施例中，还包括第一升降机构，所述第一升降机构设置于所述第一滑块与所述第二载台之间，所述第一升降机构用于控制所述第二载台升降。
[0008]在其中一个实施例中，所述第一升降机构为升降气缸。
[0009]在其中一个实施例中，还包括第三载台以及第二驱动机构，所述第二载台设有贯
穿上下表面的第二通孔槽，所述第三载台能够伸入所述第二通孔槽或所述第一通孔槽，所述第三载台的上表面设有多个第三出气孔，以通过所述第三出气孔吹出气体，从而能够将硅片悬浮在所述第三载台上方，所述第三载台设有第三挡边部，所述第三挡边部用于挡住硅片的边缘部分，以在所述第三载台移动时带着硅片移动；所述第二驱动机构连接所述第三载台，所述第二驱动机构能够控制所述第三载台移动，以将硅片转移到第一载台或第二载台上。
[0010]在其中一个实施例中，所述第二驱动机构包括第二驱动电机、第二滑轨以及第二滑块，所述第二滑轨的一端位于一个所述第一载台下方，所述第二滑块可滑动地设置于所述第二滑轨上，所述第三载台设置于所述第二滑块上，所述第二驱动电机设置于所述第二滑轨一端，所述第二驱动电机连接所述第二滑块且能够控制所述第二滑块沿所述第二滑轨移动。
[0011]在其中一个实施例中，还包括第二升降机构，所述第二升降机构设置于所述第二滑块与所述第三载台之间，所述第二升降机构用于控制所述第三载台升降。
[0012]在其中一个实施例中，所述第二升降机构为升降气缸。
[0013]在其中一个实施例中，所述第三载台的上表面还设有第三进气孔，以通过所述第三进气孔将外界的气体抽吸进所述第三载台内。
[0014]在其中一个实施例中，所述第一载台设有多个第一挡边部，多个所述第一挡边部围成第一容置槽，所述第一容置槽用于容置硅片，所述第一挡边部朝向第一容置槽的一侧设有倒角。
[0015]在其中一个实施例中，所述第一载台的上表面还设有多个第一进气孔，以通过所述第一进气孔将外界的气体抽吸进所述第一载台内。
[0016]在其中一个实施例中，所述第二载台的上表面还设有第二进气孔，以通过所述第二进气孔将外界的气体抽吸进所述第二载台内。
[0017]在其中一个实施例中，所述第二载台上设有限位机构，所述限位机构具有可活动的止挡件，所述止挡件能够活动至从所述硅片远离所述第二载台的一侧挡住所述硅片的边缘部分。
[0018]本技术提供的硅片移载机构，由于第二载台设有第二出气孔，硅片可以悬浮在第二载台上方，并且，由于第二载台设有第二挡边部，从而第二载台移动可以带着其上悬浮的硅片一起移动，从而实现对硅片的悬浮移载。由于第一载台设有第一出气孔，硅片可以悬浮在第一载台上方，因此，第二载台可将别处的硅片移载到第一载台上，还可以将任一第一载台上的硅片移载到其他第一载台上，如此，移载过程中，硅片保持悬浮状态，可避免被硅片移载机构污染，保持了硅片的洁净。并且，第二载台由第一驱动机构驱动，移动控制方便，移载效率高。
附图说明
[0019]图1为本技术一实施例的硅片移载机构的应用示意图；
[0020]图2为本技术一实施例的硅片移载机构的结构示意图；
[0021]图3为图2所示硅片移载机构的部分结构示意图；
[0022]图4为本技术一实施例的第一载台的结构示意图；
[0023]图5为图4所示第一载台沿A
‑
A方向的剖视图；
[0024]图6为本技术一实施例的第二载台的结构示意图；
[0025]图7为图6所示第二载台的剖视图；
[0026]图8为本技术一实施例的挡边部和限位机构的结构示意图；
[0027]图9为图8所示结构的分解图；
[0028]图10为本技术一实施例的第二载台的局部结构剖视图，止挡件处于限位状态；
[0029]图11为本技术一实施例的第二载台的局部结构剖视图，止挡件处于开放状态；
[0030]图12为本技术另一实施例的第二载台的局部结构剖视图，止挡件处于限位状态；
[0031]图13为本技术另一实施例的第二载台的局部结构剖视图，止挡件处于开放状态；
[0032]图14为本技术另一实施例的第二载台的结构示意图；
[0033]图15为本技术一实施例的第三载台及第二升降机构、第二移动机构的结构示意图；
[0034]图16为本技术一实施例的第三载台的剖视图；
[0035]图17为本技术硅片移载机构用于移载硅片的示意图。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种硅片移载机构，其特征在于，包括：第一载台(100)，所述第一载台(100)的上表面设有多个第一出气孔(110)，以通过所述第一出气孔(110)吹出气体，从而能够将硅片(900)悬浮在所述第一载台(100)上方，所述第一载台(100)设有贯穿上下表面的第一通孔槽(130)；第二载台(200)，所述第二载台(200)可活动地设置于所述第一载台(100)下方，所述第二载台(200)能够伸入所述第一通孔槽(130)，所述第二载台(200)的上表面设有多个第二出气孔(210)，以通过所述第二出气孔(210)吹出气体，从而能够将硅片(900)悬浮在所述第二载台(200)上方，所述第二载台(200)还设有第二挡边部(240)，所述第二挡边部(240)用于挡住硅片(900)的边缘部分，以在所述第二载台(200)移动时带着硅片(900)移动；以及第一驱动机构(400)，所述第一驱动机构(400)连接所述第二载台(200)，所述第一驱动机构(400)能够控制所述第二载台(200)移动，以将所述第一载台(100)上的硅片(900)移走或将硅片(900)转移到第一载台(100)上。2.根据权利要求1所述的硅片移载机构，其特征在于，所述第一载台(100)的数量为多个，多个所述第一载台(100)排列成一排，所述第二载台(200)的数量为多个，多个所述第二载台(200)排列成一排，多个所述第二载台(200)的排列方向与多个所述第一载台(100)的排列方向相同，相邻的所述第二载台(200)之间通过连接板(203)连接，所述第一驱动机构(400)能够控制所述第二载台(200)沿所述第一载台(100)的排列方向移动。3.根据权利要求2所述的硅片移载机构，其特征在于，所述第一驱动机构(400)包括第一驱动电机(410)、第一滑轨(420)以及第一滑块(430)，所述第一滑轨(420)沿多个所述第一载台(100)的排列方向设置，且所述第一滑轨(420)位于所述第一载台(100)下方，所述第一滑块(430)可滑动地设置于所述第一滑轨(420)上，所述第二载台(200)设置于所述第一滑块(430)上，所述第一驱动电机(410)设置于所述第一滑轨(420)一端，所述第一驱动电机(410)连接所述第一滑块(430)且能够控制所述第一滑块(430)沿所述第一滑轨(420)移动。4.根据权利要求3所述的硅片移载机构，其特征在于，还包括第一升降机构(450)，所述第一升降机构(450)设置于所述第一滑块(430)与所述第二载台(200)之间，所述第一升降机构(450)用于控制所述第二载台(200)升降。5.根据权利要求4所述的硅片移载机构，其特征在于，所述第一升降机构(450)为升降气缸。6.根据权利要求1所述的硅片移载机构，其特征在于，还包括第三载台(300)以及第二驱动机构(600)，所述第二载台(200)设有贯穿上下表面的第二通孔槽(230)，所述第三载台(300)能够伸入所...

【专利技术属性】
技术研发人员：许明现，蔡涔，谷士斌，成鹏荣，吴杰，
申请(专利权)人：东方日升常州新能源有限公司，
类型：新型
国别省市：