一种循环系统技术方案

本实用新型专利技术涉及一种循环系统，包括：循环存储槽，包括密封槽体、进口管和出口管，所述密封槽体分别与所述进口管、所述出口管连通，存储物通过所述进口管流入所述密封槽体内，所述存储物通过所述出口管流出所述密封槽体；高位溢流排放装置，设置在所述密封槽体的侧壁上，包括高位溢流管，所述密封槽体内超过阈值液位的所述存储物通过所述高位溢流管对外排放。本实用新型专利技术提出的循环系统，密封槽体内超过阈值液位的存储物通过高位溢流管对外排放，避免了密封槽体内液位或压力过高，更避免了由密封槽体内液位或压力过高可能导致的槽体炸裂等安全隐患，从而提高了湿法工艺制程的安全性。从而提高了湿法工艺制程的安全性。从而提高了湿法工艺制程的安全性。

【技术实现步骤摘要】
一种循环系统


[0001]本技术涉及循环槽
，尤其涉及一种循环系统。

技术介绍

[0002]随着半导体行业的发展，各项湿法工艺制程的不断优化，为了提高药液或纯水的利用率，往往对其进行循环流动使用，能提高湿法制程效果，并节省成本。液体在储存槽进行循环时，管路进出流速以及泵体的运行频率往往难以精准控制，就会造成槽体液位失衡；当流入速度大于流出速率时，槽体液位会不断升高并注满，并随着时间的推移，槽体内部压力会越来越大，有严重的爆炸安全隐患。

技术实现思路

[0003]鉴于上述现有技术的不足，本申请的目的在于提供一种循环系统，旨在解决槽体液位过高或者压力过大的问题，以提高湿法工艺制程的安全性。
[0004]一种循环系统，包括：
[0005]循环存储槽，包括密封槽体、进口管和出口管，所述密封槽体分别与所述进口管、所述出口管连通，存储物通过所述进口管流入所述密封槽体内，所述存储物通过所述出口管流出所述密封槽体；
[0006]高位溢流排放装置，设置在所述密封槽体的侧壁上，包括高位溢流管，所述密封槽体内超过阈值液位本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种循环系统，其特征在于，包括：循环存储槽，包括密封槽体、进口管和出口管，所述密封槽体分别与所述进口管、所述出口管连通，存储物通过所述进口管流入所述密封槽体内，所述存储物通过所述出口管流出所述密封槽体；高位溢流排放装置，设置在所述密封槽体的侧壁上，包括高位溢流管，所述密封槽体内超过阈值液位的所述存储物通过所述高位溢流管对外排放。2.如权利要求1所述的循环系统，其特征在于，所述高位溢流排放装置，还包括：高位溢流孔槽，设置在所述密封槽体的侧壁上，包括高位溢流槽体和高位溢流孔，所述高位溢流槽体通过所述高位溢流孔与所述高位溢流管连通，所述密封槽体内的存储物通过所述高位溢流槽体的第一平面流入所述高位溢流槽体内，所述高位溢流槽体内超过阈值液位的所述存储物通过所述高位溢流孔及所述高位溢流管对外排放，所述第一平面平行于所述密封槽体的底面。3.如权利要求2所述的循环系统，其特征在于，所述第一平面为远离所述密封槽体底面的一面。4.如权利要求3所述的循环系统，其特征在于，所述高位溢流排放装置，还包括：液位传感器，设置在所述高位溢流槽上，用于采集所述高位溢流槽的液位；液位调节阀，设置在所述高位溢流管上，用于调节所述高位溢流管内所述存储物的流量...

【专利技术属性】
技术研发人员：文成龙，兰升友，易熊军，贾东，王浪，
申请(专利权)人：重庆康佳光电技术研究院有限公司，
类型：新型
国别省市：