一种密封结构和磁流变抛光液的回收装置制造方法及图纸

为解决现有技术中存在的由于采用弱磁密封导致抛光轮磨损甚至磁流变抛光液回收失效的技术问题，本实用新型专利技术实施例提供一种密封结构和磁流变抛光液的回收装置，包括：内磁体，用于设于抛光轮内侧；以及外磁体，用于与内磁体相对且同轴设于抛光轮外侧的导流块；内磁体、外磁体和内磁体与外磁体之间的磁流变抛光液形成磁密封结构。本实用新型专利技术实施例通过密封结构的内磁体和外磁体使磁流变抛光液中的抛光粉颗粒远离抛光轮，从而，抑制了抛光粉与抛光轮的接触，从而解决抛光过程中抛光轮容易磨损的问题，从而，避免了抛光轮容易磨损导致磁流变抛光液回收失效的问题。变抛光液回收失效的问题。变抛光液回收失效的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种密封结构和磁流变抛光液的回收装置


[0001]本技术涉及一种密封结构和磁流变抛光液的回收装置。

技术介绍

[0002]磁流变抛光技术能实现光学元件微纳米量级的确定性抛光，应用于强激光、天文光学等领域光学元件光整修形及纳米级粗糙度表面质量控制的超精密加工。磁流变抛光装置作为实现磁流变抛光技术的载体，直接影响磁流变抛光质量和效率。回收器作为磁流变抛光装置的关键器件之一，其作用是将磁流变抛光液从抛光轮回收至储液罐，是实现磁流变抛光液循环更新的前提。当前的磁流变抛光液回收器，采用弱磁密封、负压作为回收动力，完成磁流变抛光液的回收功能，存在以下问题：
[0003]1)抛光轮磨损问题：弱磁密封部位容易形成磁流变抛光液堆积，回收部位的抛光粉对抛光轮进行反向抛光，使抛光轮磨损、甚至出现沟槽，引起缎带形态不稳定进而影响抛光精度，严重时引起磁流变抛光液回收失效进而导致系统不可靠；
[0004]2)密封问题：回收器与抛光轮的贴合面为曲面，由于安装误差、磁流变抛光液堆积等原因，导致回收器与抛光轮贴合间隙均匀性差，使密封效果不好，磁流变抛光液不能完全从抛光轮回收至储液罐，影响磁流变抛光液的循环更新及磁流变抛光液的稳定性。

技术实现思路

[0005]为解决现有技术中存在的由于采用弱磁密封导致抛光轮磨损甚至磁流变抛光液回收失效的技术问题，本技术实施例提供一种密封结构和磁流变抛光液的回收装置。
[0006]本技术实施例通过下述技术方案实现：
[0007]第一方面，本技术实施例提供一种密封结构，包括：<br/>[0008]内磁体，用于设于抛光轮内侧；以及
[0009]外磁体，用于与内磁体相对且同轴设于抛光轮外侧的导流块；
[0010]内磁体、外磁体和内磁体与外磁体之间的磁流变抛光液形成磁密封结构。
[0011]进一步的，所述外磁体包括：
[0012]外屏蔽弧形槽；以及
[0013]外永磁体，用于设于外屏蔽弧形槽内，外磁体与抛光轮接触；
[0014]所述内磁体包括：
[0015]内屏蔽弧形槽；以及
[0016]内永磁体，用于设于内屏蔽弧形槽内。
[0017]进一步的，所述外磁体靠近抛光轮外侧的一侧与抛光轮外侧的距离为 0.5
‑
1.5mm。
[0018]第二方面，本技术实施例提供一种磁流变抛光液的回收装置，包括：
[0019]磁流变抛光液输送装置，用于将磁流变抛光液输送至抛光轮表面；以及
[0020]磁流变抛光液回收装置，用于将抛光轮表面的磁流变抛光液回收至磁流变抛光液
输送装置；
[0021]所述抛光轮与磁流变抛光液回收装置之间设有所述密封结构。
[0022]进一步的，所述磁流变抛光液回收装置包括：
[0023]导流块，包括：
[0024]弧槽，设于导流块的一侧，用于设置外磁体；
[0025]储液腔，设于导流块的一侧，用于存储抛光轮旋转方向过来的磁流变抛光液；以及
[0026]通孔，设于储液腔，用于连通储液腔和磁流变抛光液输送装置。
[0027]进一步的，所述储液腔为扇形腔，所述扇形腔的开口朝向与抛光轮旋转方向相反的方向。
[0028]进一步的，所述磁流变抛光液回收装置还包括：
[0029]回收导管，用于连接通孔；
[0030]定位块，设于回收导管外侧；
[0031]回收支架，用于供回收导管穿过，设有用于容纳定位块的空腔；
[0032]空腔，用于通过弹簧与定位块连接；以及
[0033]储液罐，与回收导管连通；
[0034]所述回收导管连有真空泵。
[0035]进一步的，所述回收导管设有流量计。
[0036]进一步的，还包括用于为外永磁体与抛光轮接触的部位补充弱碱性基液的补液装置。
[0037]进一步的，所述补液装置包括：
[0038]补液罐，用于存储弱碱性基液；以及
[0039]补液喷嘴，通过微量泵与补液罐连接，用于向外永磁体与抛光轮接触的部位补充弱碱性基液。
[0040]本技术实施例与现有技术相比，具有如下的优点和有益效果：
[0041]本技术实施例的一种密封结构和磁流变抛光液的回收装置，通过密封结构的内磁体和外磁体使磁流变抛光液中的抛光粉颗粒远离抛光轮，从而，抑制了抛光粉与抛光轮的接触，从而解决抛光过程中抛光轮容易磨损的问题，从而，避免了抛光轮容易磨损导致磁流变抛光液回收失效的问题。
附图说明
[0042]为了更清楚地说明本技术示例性实施方式的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本技术的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
[0043]图1为密封结构示意图。
[0044]图2为抛光装置整体结构示意图。
[0045]图3为图2中A的局部结构放大图。
[0046]图4为图2中B的局部结构放大图。
[0047]图5为导流块的结构示意图。
[0048]附图中标记及对应的零部件名称：
[0049]1‑
工件；2
‑
磁体；3
‑
抛光轮；4
‑
羰基铁粉；5
‑
抛光粉；6
‑
弧槽，7
‑
通孔，8
‑ꢀ
储液腔，9
‑
补液喷嘴；10
‑
喷嘴定位块；11
‑
喷嘴支架；12
‑
喷嘴；13
‑
储液罐；14
‑ꢀ
流量计；15
‑
弹簧；16
‑
定位块；17
‑
回收支架；18
‑
回收导管；19
‑
补液罐；20
‑ꢀ
导流块；21
‑
外屏蔽弧形槽；22
‑
外永磁体；23
‑
内屏蔽弧形槽；24
‑
内永磁体。
具体实施方式
[0050]为使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下面结合实施例和附图，对本技术作进一步的详细说明，本技术的示意性实施方式及其说明仅用于解释本技术，并不作为对本技术的限定。
[0051]在以下描述中，为了提供对本技术的透彻理解阐述了大量特定细节。然而，对于本领域普通技术人员显而易见的是：不必采用这些特定细节来实行本技术。在其他实施例中，为了避免混淆本技术，未具体描述公知的结构、电路、材料或方法。
[0052]在整个说明书中，对“一个实施例”、“实施例”、“一个示例”或“示例”的提及意味着：结合该实施例或示例描述的特定特征、结本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种密封结构，其特征在于，包括：内磁体，用于设于抛光轮内侧；以及外磁体，用于与内磁体相对且同轴设于抛光轮外侧的导流块；内磁体、外磁体和内磁体与外磁体之间的磁流变抛光液形成磁密封结构。2.如权利要求1所述密封结构，其特征在于，所述外磁体包括：外屏蔽弧形槽；以及外永磁体，用于设于外屏蔽弧形槽内，外磁体与抛光轮接触；所述内磁体包括：内屏蔽弧形槽；以及内永磁体，用于设于内屏蔽弧形槽内。3.如权利要求1所述密封结构，其特征在于，所述外磁体靠近抛光轮外侧的一侧与抛光轮外侧的距离为0.5
‑
1.5mm。4.一种磁流变抛光液的回收装置，其特征在于，包括：磁流变抛光液输送装置，用于将磁流变抛光液输送至抛光轮表面；以及磁流变抛光液回收装置，用于将抛光轮表面的磁流变抛光液回收至磁流变抛光液输送装置；所述抛光轮与磁流变抛光液回收装置之间设有权利要求1
‑
3任意一项所述密封结构。5.如权利要求4所述磁流变抛光液的回收装置，其特征在于，所述磁流变抛光液回收装置包括：导流块，包括：弧槽，设于导流块的一侧，用于设置外...

【专利技术属性】
技术研发人员：王道文，
申请(专利权)人：华圭精密科技东莞有限公司，
类型：新型
国别省市：