一种基片处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种基片处理装置，其特征在于，包括：真空锁定舱组，用于容纳基片；所述真空锁定舱组设有一个或若干个基片；工艺舱组，用于对所述基片加工处理；传输舱，位于所述真空锁定舱组和所述工艺舱之间；所述传输舱设有第一传输机构和第二传输机构；所述第一传输机构和所述第二传输机构均用于装载所述真空锁定舱组中的所述基片，并移动所述基片。该基片处理装置用于在其中一个传输机构损坏或定期维护时也能继续传输基片，避免生产中断，有助于提升产能。于提升产能。于提升产能。

【技术实现步骤摘要】
一种基片处理装置


[0001]本专利技术涉及半导体设备领域，尤其涉及一种基片处理装置。

技术介绍

[0002]目前，在半导体设备中，用于传输基片的装置在长期运转后需要定期维护保养，而在大批量生产时，基片的传输机构损坏或定期维护会延误大量时间，导致生产中断，不利于提升产能。因此，亟需一种基片处理装置以改善上述问题。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的在于提供一种基片处理装置，用于在其中一个传输机构损坏或定期维护时也能继续传输基片，避免生产中断，有助于提升产能。
[0004]本专利技术提供一种基片处理装置，包括：真空锁定舱组，用于容纳基片；所述真空锁定舱组设有一个或若干个基片；工艺舱组，用于对所述基片加工处理；传输舱，位于所述真空锁定舱组和所述工艺舱之间；所述传输舱设有第一传输机构和第二传输机构；所述第一传输机构和所述第二传输机构均用于装载所述真空锁定舱组中的所述基片，并移动所述基片。
[0005]本专利技术的基片处理装置的益效果在于：通过第一传输机构和所述第二传输机装载所述真空锁定舱组中的所述基片，并将所述本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基片处理装置，其特征在于，包括：真空锁定舱组，用于容纳基片；所述真空锁定舱组设有一个或若干个基片；工艺舱组，用于对所述基片加工处理；传输舱，位于所述真空锁定舱组和所述工艺舱之间；所述传输舱设有第一传输机构和第二传输机构；所述第一传输机构和所述第二传输机构均用于装载所述真空锁定舱组中的所述基片，并移动所述基片。2.根据权利要求1所述的基片处理装置，其特征在于，所述传输舱设有控制器，用于控制所述第一传输机构和第二传输机构运动。3.根据权利要求2所述的基片处理装置，其特征在于，所述控制器还用于控制所述第一传输机构和所述第二传输机构同时传输所述基片。4.根据权利要求1所述的基片处理装置，其特征在于，所述传输舱设有检测机构，用于检测所述第一传输机构和第二传输机构是否正常工作。5.根据权利要求1所述的基片处理装置，其特征在于，所述工艺舱组包括第一工艺舱和第二工艺舱；所述第一工艺舱位于所述第二工艺舱的一侧，所述第一工艺舱和第二工艺舱用于分别独立处理基片。6.根据权利要求1或3所述的基片处理装置，其特征在于，所述第一传输机构和所述第二传输机构能够互相传递其装载的所述基片。7.根据权利要求1或2所述的基片处理装置，其特征在于，所述传输...

【专利技术属性】
技术研发人员：李慧，叶五毛，
申请(专利权)人：拓荆科技股份有限公司，
类型：发明
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