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本发明提供了一种基片处理装置，其特征在于，包括：真空锁定舱组，用于容纳基片；所述真空锁定舱组设有一个或若干个基片；工艺舱组，用于对所述基片加工处理；传输舱，位于所述真空锁定舱组和所述工艺舱之间；所述传输舱设有第一传输机构和第二传输机构；所述...
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