分配器和分配方法，等离子处理系统和方法，以及LCD的制造方法技术方案

一种分配器（３０），包括连接到微波振荡器（２０）的方形波导管（３１）和具有多个在窄壁（４１Ｂ）中形成的开口（４３）的方形波导管（４１）。方形波导管（３１）是中空的。相对介电常数为ε↓［ｒ］的波延迟部件（５３）被配置在方形波导管（４１）中。两个方形波导管（３１、４１）的窄壁（３１Ａ、４１Ａ）互相接触，并且两个波导管（３１、４１）通过其相互连通的连通孔（３２）形成于窄壁（３１Ａ、４１Ａ）中。即使连通孔（３２）的宽度减小，两个波导管（３１、４１）的宽度也不在其连接部分处变窄。由此，可抑制能够通过连接部分的频带变窄。因此，能够减小在输入到分配器（３０）的电磁波的频率改变时出现的反射损失。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种分配器和等离子处理系统，更具体地，涉及使用两个方形波导管的电磁波分配器，和使用该分配器的等离子处理系统。
技术介绍
在诸如LCD(液晶显示器)的平板显示器和半导体装置的制造业中，广泛使用等离子处理系统来执行诸如蚀刻、灰化和CVD(化学气相沉积)。在等离子处理系统中，可使用微波等离子处理系统，其向处理容器中提供微波以电离、激发或离解处理容器中的气体，由此生成等离子体。图11是显示传统等离子处理系统的整体配置的纵截面图。该等离子处理系统包括有底的圆柱形的从顶部看去为方形的处理容器1。处理容器1由诸如Al的金属制成。载物台2被放置在处理容器1的底表面的中央部分。LCD的基板3等被配置在载物台2的上表面上作为目标对象。载物台2通过匹配箱4被连接到高频电源5。用于真空排气的排气口6形成于处理容器1的底表面的外围部分。通过其导入空气的导入口7形成在处理容器1的侧壁上。当等离子处理系统被用作蚀刻系统时，诸如Ar的等离子气体和诸如CF4的反应气体被引入。处理容器1的上部开口由石英玻璃等制成的电介质板8封闭，因此在通过上部开口导入微波时能保持处理容器1中的减压。O形环被置于处理容器1的侧壁的上表面和电介质板8之间，以保证处理容器1的气密性。将微波供应到处理容器1中的微波供应装置110被配置于电介质板8上方。图12是显示传统微波供应装置110的配置的横截面图。微波供应装置110包括微波振荡器120、微波分配器130和天线装置150。天线装置150具有多个辐射波导管151A、151B、151C、151D、151E，和151F。辐射波导管151A至151F中的每个都由方形波导管形成。方形波导管是这样的波导管垂直于它的轴的截面是长方形，并且能够用传输模式TE10传输微波。在传输模式TE10下，磁场的形成平行于管壁，即，与包括截面的长边的宽壁平行，而电场的形成平行于管壁，即，与包括截面的短边的窄壁平行。多个辐射槽152形成于辐射波导管151A至151F中的每个的宽壁中。输入到辐射波导管151A至151F中的每个的微波，经过辐射槽152被辐射到处理容器1中，并被用于生成等离子体。由电介质(相对介电常数为εr(＞1))制成的波延迟部件153被配置于辐射波导管151A至151F中的每个内。这使管内波长λg变成1/(εr)1/2，从而，基于管内波长λg设置的辐射槽152之间的距离被缩短，以使得等离子体的密度的分布均一化。微波分配器130具有方形微波波导管131和方形馈电波导管141，并将从微波振荡器120输入的微波分配到天线装置150的辐射波导管151A至151F。微波波导管131的输入端连接到微波振荡器120，而其输出端连接到馈电波导管141的一个窄壁141A的中央部分。两个微波波导管131和141通过其相互连通的连通孔132形成于窄壁141A的中央部分(例如，参照Masamitsu Nakajima，“微波工程(MicrowaveEngineering)”，Morikita Shuppan，p.132)。馈电波导管141与辐射波导管151A至151F通过其连通的多个开口143形成于馈电波导管141的另一个窄壁141B中。如果一些开口143与允许与微波波导管131连通的连通孔132相对，即使部分相对，通过开口143输出到辐射波导管的微波增加，并且辐射波导管151A至151F之间的微波的分布变得不均一。可变光阑147A和147B形成于微波波导管131和馈电波导管141的连接部分处，以使连通孔132缩窄到比微波波导管131的管宽小，从而使得允许与微波波导管131连通的连通孔132不与允许与辐射波导管151A至151F连通的开口143相对。微波波导管131的内部中空，并且波延迟部件153被配置于馈电波导管141中。如上所述，在传统等离子处理系统中，由于可变光阑147A和147B形成于微波波导管131和馈电波导管141的连接部分处，所以管宽在该连接部分处是狭窄的，并且能够通过该连接部分的频带变窄。具体而言，在中空微波波导管131被连接到其中配置有波延迟部件153的馈电波导管141的情况下，管中的相对介电常数差异越大，频带变窄的趋势就越典型。由此，当微波振荡器120的振荡频率仅发生微小改变时，不能通过两个波导管131和141的连接部分而被反射的能量增加。因而，在包括波导管131和141的微波分配器130中的反射损失增加。
技术实现思路
本专利技术是为了解决以上问题，并且本专利技术的目的是降低在输入分配器的诸如微波的电磁波的频率改变时出现的反射损失。为了达到以上目的，根据本专利技术，提供了一种分配器，其特征在于包括输出电磁波的振荡器、被连接到振荡器的第一方形波导管，和具有多个开口的第二方形波导管，其中，第一方形波导管和第二方形波导管通过在第一方形波导管和第二方形波导管中的每个的一个窄壁中形成的连通孔互相连通。根据本专利技术，还提供了一种等离子处理系统，其特征在于包括在其上放置目标对象的载物台、容纳载物台的处理容器、具有多个带有槽的辐射波导管的天线装置，和将电磁波分配到辐射波导管的信号分离器，信号分离器包括输出电磁波的振荡器、连接到振荡器的第一方形波导管，和通过多个形成于其中的开口连接到辐射波导管中的每个的一端的第二方形波导管，其中，第一方形波导管和第二方形波导管通过在第一方形波导管和第二方形波导管中的每个的一个窄壁中形成的连通孔互相连通。根据本专利技术，还提供了一种分配方法，其特征在于包括以下步骤将在第一方形波导管中传播的电磁波通过在第一方形波导管和第二方形波导管中的每个的一个窄壁中形成的连通孔导入第二方形波导管；和将导入第二方形波导管中的电磁波通过在第二方形波导管中形成的多个开口分配到多个波导管。根据本专利技术，还提供了一种等离子处理方法，其特征在于包括以下步骤将在第一方形波导管中传播的电磁波通过在第一方形波导管和第二方形波导管中的每个的一个窄壁中形成的连通孔导入第二方形波导管；将导入第二方形波导管的电磁波通过在第二方形波导管中形成的多个开口分配到多个辐射波导管；将导入辐射波导管的电磁波通过在辐射波导管中的每个中形成的槽供应到处理容器；和使用由供应到处理容器的电磁波产生的等离子体处理放置于处理容器中的目标对象。根据本专利技术，还提供了一种LCD的制造方法，其特征在于包括以下步骤将在第一方形波导管中传播的电磁波通过在第一方形波导管和第二方形波导管中的每个的一个窄壁中形成的连通孔导入第二方形波导管；将导入第二方形波导管中的电磁波经过在第二方形波导管中形成的多个开口分配到多个辐射波导管；将导入辐射波导管的电磁波通过在辐射波导管中的每个中形成的槽供应到处理容器；和使用由供应到处理容器的电磁波产生的等离子体对处理容器中配置的LCD基板的表面进行诸如蚀刻、灰化、氧化、氮化或CVD的处理。附图说明图1是显示根据第一实施例的等离子处理系统的整体配置的纵截面图；图2是显示微波供应装置的配置的横截面图；图3是显示微波供应装置的配置的横截面图；图4是显示用于连接结构的数值分析的各个部分的尺寸的视图；图5是关于连接结构的反射损失的曲线图；图6是显示根据第二实施例的微波供应装置的配置的横截面图；图7是显示根据第三实施例的微波供应装置的配置的横截面图；图8是显示根据第四实本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种分配器，其特征在于包括：输出电磁波的振荡器；被连接到所述振荡器的第一方形波导管；具有多个开口的第二方形波导管；其中，所述第一方形波导管和所述第二方形波导管通过在所述第一方形波导管和所述第二方形波导管中的每 个的一个窄壁中形成的连通孔互相连通。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：大见忠弘，后藤尚久，久我宣裕，广江昭彦，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，大见忠弘，后藤尚久，
类型：发明
国别省市：JP[日本]