低辐射镀膜玻璃制造技术

本发明专利技术涉及玻璃镀膜技术领域，特别是涉及一种低辐射镀膜玻璃。所述低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板、低辐射膜层和易洁涂层，所述低辐射膜层设置在所述玻璃基板表面，所述易洁涂层设置在所述低辐射膜层表面，所述易洁涂层和所述低辐射膜层的厚度比小于等于1:10；其中，所述低辐射膜层的膜面辐射率为0.01～0.25，所述易洁涂层通过包含有含氟硅烷偶联剂的涂料形成。成。成。

【技术实现步骤摘要】
低辐射镀膜玻璃


[0001]本专利技术涉及玻璃镀膜
，特别是涉及一种低辐射镀膜玻璃。

技术介绍

[0002]低辐射镀膜玻璃(也叫“Low
‑
E”玻璃)是在普通玻璃表面镀上拥有极低表面辐射率的金属或其他化合物组成的一层或多层膜层的特种玻璃。低辐射镀膜玻璃对波长4.5μm～25μm的红外线有较高反射比，能将80％以上的远红外热辐射反射回去，而普通透明浮法玻璃、吸热玻璃的远红外反射率仅在12％左右，因此其具有良好的阻隔热辐射透过的作用。
[0003]近年来，为了节能减排并能同时满足人们对交通工具驾乘舒适度的要求，低辐射镀膜玻璃被越来越多的应用在汽车玻璃上，可以起到冬暖夏凉，降低空调使用能耗的效果。但现有的低辐射镀膜层，容易粘附灰尘污渍以及指纹等，且低辐射镀膜层脆弱，擦除不仅困难，而且易产生划痕、擦伤等，影响外观及行车视线。

技术实现思路

[0004]基于此，有必要提供能够防污易清洁的低辐射镀膜玻璃。
[0005]本专利技术的一个方面，提供了一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板、低辐射膜层和易洁涂层，所述低辐射膜层设置在所述玻璃基板的内表面，所述易洁涂层设置在所述低辐射膜层的表面，所述易洁涂层和所述低辐射膜层的厚度比小于等于1:10；
[0006]其中，所述低辐射镀膜玻璃的辐射率为0.01～0.25，所述易洁涂层通过包含有含氟硅烷偶联剂的涂料形成。
[0007]在其中一个实施例中，所述含氟硅烷偶联剂的化学结构通式为R
‑
(R
fr/>)
m
‑
(Si(OR
g
)3)3‑
m
，其中，m为1或2，R
f
为烃基或氟代烃基，R
g
为烷基基团，R为氟醚基团。
[0008]在其中一个实施例中，R选自C
a
H
b
F
(2a+1
‑
b)
O
‑
、(CF3(CF2)2O)
‑
(CF(CF3)CF2O)
‑
(CFCF3)
‑
或(CF3(CF2)2O)
‑
(CFCF3)
‑
，其中a、b分别独立选自1～20的整数。
[0009]在其中一个实施例中，R
f
独立选自碳原子数为1～10的烷基或氟代烷基或碳原子数为2～9的烯基。
[0010]在其中一个实施例中，R
g
独立选自碳原子数为1
‑
3的烷基。
[0011]在其中一个实施例中，所述含氟硅烷偶联剂选自[全氟(聚丙氧基)]甲氧基丙基三甲氧基硅烷、三乙氧基[3
‑
(1,1,2,2
‑
四氟乙氧基)丙基]硅烷、三甲氧基[3
‑
(1,1,2,2
‑
四氟乙氧基)丙基]硅烷、3
‑
七氟异丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3
‑
(七氟异丙氧基)丙基三乙氧基硅烷、1
‑
[三甲氧基甲硅烷基]‑
4,5,5,5
‑
四氟
‑4‑
[2
‑
(七氟丙氧基)
‑
1,1,2,3,3,3
‑
六氟丙氧基]‑2‑
戊烯、1
‑
[三乙氧基甲硅烷基]‑
4,5,5,5
‑
四氟
‑4‑
(七氟丙氧基)
‑2‑
戊烯、1,1,1,2,7,8,8,8
‑
八氟
‑
3,5
‑
双(三甲氧基甲硅烷基)
‑
2,7
‑
双(七氟丙氧基)辛烷、1
‑
[三甲氧基甲硅烷基]‑
4,5,5,5
‑
四氟
‑4‑
(七氟丙氧基)
‑1‑
戊烯中的一种或多种。
[0012]在其中一个实施例中，所述低辐射膜层包括自所述玻璃基板的内表面向外依次层叠的透明导电氧化物层和介质层，所述透明导电氧化物层包括至少一层透明导电氧化物子
层，所述介质层包括至少一层介质子层。
[0013]在其中一个实施例中，所述介质层包括至少两层介质子层，与透明导电氧化物层直接接触的介质子层为高折射率子层，与所述易洁涂层直接接触的介质子层为低折射率子层，所述高折射率子层的折射率大于等于1.8，所述低折射率子层的折射率小于等于1.7。
[0014]在其中一个实施例中，所述介质层包括至少一介质子层，所述易洁涂层直接接触的介质子层为高折射率子层，所述高折射率子层的折射率大于等于1.8。
[0015]在其中一个实施例中，所述透明导电氧化物子层的材料选自氧化铟锡、掺氟氧化锡、掺锑氧化锡和掺铝氧化锌中的一种或多种。
[0016]在其中一个实施例中，所述介质子层的材料选自SiO2、TiO2、ZrN、Si3N4和AlN中的一种或多种。
[0017]在其中一个实施例中，所述玻璃基板的可见光透过率为5％
‑
90％，所述玻璃基板为单片钢化玻璃或夹层玻璃，所述夹层玻璃包括依次层叠的外玻璃板、中间层和内玻璃板，所述外玻璃板包括相背的第一表面和第二表面，所述内玻璃板包括相背的第三表面和第四表面，所述第二表面和所述第三表面相对，所述中间层设置在所述第二表面和所述第三表面之间，所述第四表面为所述玻璃基板的内表面。
[0018]在其中一个实施例中，所述玻璃基板包括依次层叠的外玻璃板、中间层和内玻璃板，所述外玻璃板包括相背的第一表面和第二表面，所述内玻璃板包括相背的第三表面和第四表面，所述第二表面和所述第三表面相对，所述中间层设置在所述第二表面和所述第三表面之间，所述第四表面上设置所述反射膜层；
[0019]在其中一个实施例中，在所述第二表面和所述第三表面之间还设置有调光元件，所述调光元件为PDLC调光膜、PNLC调光膜、SPD调光膜或EC调光膜。
[0020]在其中一个实施例中，所述单片钢化玻璃、所述外玻璃板和/或所述内玻璃板为着色玻璃，所述着色玻璃的总铁含量为0.5％
‑
2.0％。
[0021]在其中一个实施例中，所述涂料还包含分散液，所述分散液为含氟醚类有机溶剂，所述含氟硅烷偶联剂与所述分散液的质量比为2：1000
‑
20：1000。
[0022]与现有技术相比，本专利技术至少具有如下技术效果：
[0023]本专利技术提供的低辐射镀膜玻璃，膜面辐射率保持在0.25以下，能够满足对低辐射的需求，同时可以使其内表面水接触角提升至100
°
以上，油接触角提升至90
°
以上，具有优异的防污防指纹效果且易于清洁。
[0024]进一步地，本专利技术提供的低辐射镀膜玻璃还具有优异的耐久性，能够耐酸、耐碱本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于，包括玻璃基板、低辐射膜层和易洁涂层，所述低辐射膜层设置在所述玻璃基板的表面，所述易洁涂层设置在所述低辐射膜层的表面，所述易洁涂层和所述低辐射膜层的厚度比小于等于1:10；其中，所述低辐射镀膜玻璃的辐射率为0.01～0.25，所述易洁涂层通过包含有含氟硅烷偶联剂的涂料形成。2.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述含氟硅烷偶联剂的化学结构通式为R
‑
(R
f
)
m
‑
(Si(OR
g
)3)3‑
m
，其中，m为1或2，R
f
为烃基或氟代烃基，R
g
为烷基基团，R为氟醚基团。3.根据权利要求2所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，R选自C
a
H
b
F
(2a+1
‑
b)
O
‑
、(CF3(CF2)2O)
‑
(CF(CF3)CF2O)
‑
(CFCF3)
‑
或(CF3(CF2)2O)
‑
(CFCF3)
‑
，其中a、b分别独立选自1～20的整数。4.根据权利要求2所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，R
f
独立选自碳原子数为1～10的烷基或氟代烷基或碳原子数为2～9的烯基。5.根据权利要求2所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，R
g
独立选自碳原子数为1
‑
3的烷基。6.根据权利要求2所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述含氟硅烷偶联剂选自[全氟(聚丙氧基)]甲氧基丙基三甲氧基硅烷、三乙氧基[3
‑
(1,1,2,2
‑
四氟乙氧基)丙基]硅烷、三甲氧基[3
‑
(1,1,2,2
‑
四氟乙氧基)丙基]硅烷、3
‑
七氟异丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3
‑
(七氟异丙氧基)丙基三乙氧基硅烷、1
‑
[三甲氧基甲硅烷基]
‑
4,5,5,5
‑
四氟
‑4‑
[2
‑
(七氟丙氧基)
‑
1,1,2,3,3,3
‑
六氟丙氧基]
‑2‑
戊烯、1
‑
[三乙氧基甲硅烷基]
‑
4,5,5,5
‑
四氟
...

【专利技术属性】
技术研发人员：贾迎辉，齐美美，阳欢，康煌，柯城，
申请(专利权)人：福耀玻璃工业集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：