一种真空腔室在线清洗方法技术

本发明专利技术公开了一种真空腔室在线清洗方法，用于在线清洗镀膜工艺使用的真空腔室以及气体喷淋头表面堆积的聚合物，包括以下步骤：S1、向真空腔室中通入工艺气体，通过向真空腔室施加射频电源，保持一段时间，工艺气体电离产生高能量的无序等离子体；S2、等离子体与真空腔室内聚合物发生化学反应，或由等离子体提供载能离子对聚合物表面进行轰击，使原子从聚合物表面弹出；S3、抽出真空腔室中的脱落的聚合物。本发明专利技术采用物理或化学方法，产生等离子体进行在线清洗；等离子体清洗在真空环境下进行，可以实现不停机进行清洗，保证基板生产的连续性，降低设备停机维护频率和停机成本；自动化生产连续性高，有效避免聚合物对人员的危害，保护工作人员。保护工作人员。保护工作人员。

【技术实现步骤摘要】
一种真空腔室在线清洗方法


[0001]本专利技术涉及在线清洗
，尤其涉及一种真空腔室在线清洗方法。

技术介绍

[0002]真空镀膜是在真空环境下，利用物理或化学方法，把金属、合金或化合物进行蒸发、溅射或者化学反应，使其沉积在基板表面，形成期望膜层。
[0003]真空镀膜过程中，膜层不仅沉积在基板表面，也会沉积在反应腔室内部或者内壁上，随着镀膜的进行，反应腔室内部或内壁上的膜层会越来越厚，当膜层达到一定厚度以后，便会出现“爆膜”现象，并产生大量颗粒和污染物脱落在基板上，导致基片膜层出现缺陷，导致产能降低和不良率提高。
[0004]因此在生产一定数量基板后，便要打开镀膜反应腔室，进行清理腔室内部或内壁上的膜层，拆装、清洗、重新抽真空、调校等大量工作，费工费时，严重影响生产进度，会造成设备停机成本及清理维护成本问题。此外，膜层中可能会含有有毒有害物质，人工清理膜层可能会对人员造成危害。

技术实现思路

[0005]本专利技术克服了现有技术的不足，提供一种真空腔室在线清洗方法。本专利技术采用物理或化学方法，产生等离子本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空腔室在线清洗方法，用于在线清洗镀膜工艺使用的真空腔室以及气体喷淋头表面堆积的聚合物，其特征在于，包括以下步骤：S1、向真空腔室中通入工艺气体，通过向真空腔室施加射频电源，保持一段时间，工艺气体电离产生高能量的无序等离子体；S2、等离子体与真空腔室内壁的聚合物发生化学反应，或由等离子体提供载能离子对聚合物表面进行轰击，使原子从聚合物表面弹出；S3、抽出真空腔室中的脱落的聚合物。2.根据权利要求1所述的一种真空腔室在线清洗方法，其特征在于：所述工艺气体为与膜层物质发生反应的气体单质或化合物。3.根据权利要求1所述的一种真空腔室在线清洗方法，其特征在于：在所述S1中，在所述真空腔室内生产一定数量基板后，自动对腔室的内壁进行无差别、无死角且均匀化的等离子体喷射。4.根据权利要求1所述的一种真空腔室在线清洗方法，其特征在于：所述射频电源的功率为300W～800W，所述保持时间为10～30s。5.根据权利要求1所述的一种真空腔室在线清洗方法，其特征在于：对所述真空腔室内的聚合物厚度进行检测，以朝向聚合物的厚度方向选择离子喷射数量。6.根据权利要求1所述的一种真空腔室在线清洗方法，其特征在于：所述真空腔室的腔室压力为2～10mT，通过控制不同腔室压...

【专利技术属性】
技术研发人员：马世猛，代智杰，周广福，
申请(专利权)人：苏州昶明微电子科技合伙企业有限合伙，
类型：发明
国别省市：