【技术实现步骤摘要】
一种等离子刻蚀机的电极屏蔽装置
[0001]本技术涉及电极屏蔽
,尤其涉及一种等离子刻蚀机的电极屏蔽装置。
技术介绍
[0002]刻蚀是半导体加工、微电子制造、LED生产等领域中非常重要的一步工艺,常见的刻蚀手段主要有干法刻蚀和湿法刻蚀,与湿法刻蚀相比,干法刻蚀具有各向异性好、选择比高、工艺可控、重复性好、无化学废液污染等优点。
[0003]现有的电极屏蔽装置装卸过程太过复杂,不便于技术人员的检测和维修,导致工作效率低。因此,本技术提供了一种等离子刻蚀机的电极屏蔽装置用以解决上述问题。
技术实现思路
[0004]本技术提出的一种等离子刻蚀机的电极屏蔽装置,解决了现有的电极屏蔽装置装卸过程太过复杂,不便于技术人员的检测和维修,导致工作效率低的问题。
[0005]为了实现上述目的,本技术采用了如下技术方案:
[0006]一种等离子刻蚀机的电极屏蔽装置,包括电极柱本体、屏蔽护板和第一立柱,所述电极柱本体的圆周侧壁套设有两个结构相同的屏蔽护板,一个所述屏蔽护板的侧壁固定安装有两个结构相同的第 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种等离子刻蚀机的电极屏蔽装置,包括电极柱本体(1)、屏蔽护板(2)和第一立柱(3),其特征在于,所述电极柱本体(1)的圆周侧壁套设有两个结构相同的屏蔽护板(2),一个所述屏蔽护板(2)的侧壁固定安装有两个结构相同的第一立柱(3);另一个所述屏蔽护板(2)的侧壁固定安装有两个结构相同的第二立柱(6),两个所述屏蔽护板(2)相互远离的一侧滑动安装有两个结构相同的插销(14),所述插销(14)相互靠近的一端延伸至屏蔽护板(2)的内部固定安装有防护板(4),所述第二立柱(6)靠近第一立柱(3)的一侧固定安装有固定杆(7),所述第一立柱(3)远离第二立柱(6)的一侧固定安装有固定柱(8),所述固定柱(8)和固定杆(7)之间设置有固定机构。2.根据权利要求1所述的一种等离子刻蚀机的电极屏蔽装置,其特征在于,两个所述防护板(4)靠近电极柱本体(1)的一侧均设置有防护垫,且防护垫与电极柱本体(1)的侧壁相贴合。3.根据权利要求1所述的一种等离子刻蚀机的电极屏蔽装置,其特征在于,所述防护板(4)远离电极柱本体(1)的一侧固定安装有多个结构...
【专利技术属性】
技术研发人员:雷胜,
申请(专利权)人:无锡圆诺电子科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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