一种清洁机构及干法刻蚀设备制造技术

技术编号:32372509 阅读:21 留言:0更新日期:2022-02-20 08:50
本实用新型专利技术公开了一种清洁机构及干法刻蚀设备,涉及半导体制作技术领域。该清洁机构包括水平驱动组件、竖直驱动组件及清洁组件。所述水平驱动组件包括两根沿第一水平方向设置的导轨,每根所述导轨均滑动设置有水平滑块;所述竖直驱动组件包括横梁,所述横梁的两端分别沿竖直方向滑动设置于两个所述水平滑块;所述清洁组件包括多个沿第二水平方向间隔设置于所述横梁的清洁头,所述清洁头包括本体及设置于所述本体的针头。该清洁机构能够在不打开设备的前提下对电极孔进行清理,提高了设备的稼动率,降低了成本。降低了成本。降低了成本。

【技术实现步骤摘要】
一种清洁机构及干法刻蚀设备


[0001]本技术涉及半导体制作
,尤其涉及一种清洁机构及干法刻蚀设备。

技术介绍

[0002]干法刻蚀是用等离子体进行薄膜刻蚀的技术,当气体以等离子体形式存在时,它具备两个特点:一方面等离子体中的气体活性较强,根据被刻蚀材料的不同,选择合适的气体,就可以更快地与材料进行反应,实现刻蚀剥离的目的;另一方面,还可以利用电场对等离子体进行引导和加速,使其轰击被刻蚀物的表面,将被刻蚀物材料的原子击出,从而达到刻蚀的目的。
[0003]然而无论是将气体电离成等离子体还是对等离子体进行加速,都需要在刻蚀设备上设置正对的上电极与下电极。而为了使气体进入上电极与下电极之间,上电极还需要设置多个电极孔。而随着工作时间的增加,电极孔会被灰尘等杂质堵塞,造成制程参数异常,使产品表面出现缺陷,影响产品良率。
[0004]根据上述情况,目前均是通过定时更换上电极来解决电极孔的堵塞问题。这也就导致需要停机并打开设备进行操作,既浪费人力,又影响设备的稼动率,极大地提高了成本。
[0005]针对上述问题,需要开发一种清洁机构及干法刻蚀设备,以解决打开设备更换电极导致的稼动率降低及成本上升的问题。

技术实现思路

[0006]本技术的目的在于提出一种清洁机构及干法刻蚀设备,能够在不打开设备的前提下对电极孔进行清理,提高了设备的稼动率,降低了成本。
[0007]为达此目的,本技术采用以下技术方案:
[0008]一种清洁机构,包括:
[0009]水平驱动组件,所述水平驱动组件包括两根沿第一水平方向设置的导轨,每根所述导轨均滑动设置有水平滑块;
[0010]竖直驱动组件,所述竖直驱动组件包括横梁,所述横梁的两端分别沿竖直方向滑动设置于两个所述水平滑块;
[0011]清洁组件,所述清洁组件包括多个沿第二水平方向间隔设置于所述横梁的清洁头,所述清洁头包括本体及设置于所述本体的针头,所述本体连接于所述横梁,所述第二水平方向垂直于所述第一水平方向。
[0012]优选地,所述清洁组件还包括高压气泵,所述针头包括吹气部,所述吹气部设置有吹气孔,所述吹气孔与所述高压气泵连通。
[0013]优选地,所述清洁组件还包括抽真空件,所述针头包括吸气部,所述吸气部设置有吸气孔,所述吸气孔与所述抽真空件连通。
[0014]优选地,所述清洁头还包括罩体,所述罩体的一端与所述本体连接,所述罩体的另
一端设置有开口,所述针头伸出所述开口。
[0015]优选地,所述针头沿竖直方向朝上设置,所述开口边缘所在高度不高于所述针头的顶端端面所在高度。
[0016]优选地,所述开口边缘设置有缓冲垫。
[0017]优选地,所述清洁头还包括弹性件,所述针头沿竖直方向滑动设置于所述本体,所述弹性件的两端分别抵接所述针头及所述本体。
[0018]优选地,所述本体能够在所述横梁上沿所述第二水平方向滑动。
[0019]优选地,所述清洁头还包括锁紧件,所述锁紧件连接于所述本体并能够抵靠所述横梁。
[0020]一种干法刻蚀设备,包括上电极及与所述上电极正对的下电极,所述上电极间隔设置有多个电极孔,还包括所述的清洁机构,两根所述导轨设置于所述上电极的两侧。
[0021]本技术的有益效果:
[0022]本技术提供了一种清洁机构及干法刻蚀设备。该清洁机构中,水平驱动机构能够带动清洁组件的清洁头移动到电极孔的位置,再通过竖直驱动组件带动清洁头的针头插入电极孔从而将电极孔中堵塞的灰尘等杂质清除,使电极孔恢复通畅。该清洁机构使得操作人员无需打开设备即可对电极孔进行清洁,节约人力,提高了设备的稼动率。
附图说明
[0023]图1是本技术提供的清洁机构的结构示意图;
[0024]图2是本技术提供的清洁头的结构示意图;
[0025]图3是本技术提供的清洁头的主视图;
[0026]图4是本技术图3中A

A处的剖视图;
[0027]图5是本技术提供的干法刻蚀设备的结构示意图。
[0028]图中:
[0029]X、第一水平方向;Y、第二水平方向;
[0030]1、水平驱动组件;2、竖直驱动组件;3、清洁组件;4、上电极;5、下电极;
[0031]11、导轨;12、水平滑块;21、横梁;31、清洁头;41、电极孔;
[0032]311、本体;312、针头;313、罩体;314、锁紧件;315、弹性件;
[0033]3121、吹气部;3122、吸气部。
具体实施方式
[0034]下面详细描述本技术的实施例,实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,旨在用于解释本技术,而不能理解为对本技术的限制。
[0035]在本技术的描述中,需要说明的是,术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本技术的限制。此外,术语“第
一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。其中,术语“第一位置”和“第二位置”为两个不同的位置。
[0036]除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0037]除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一特征和第二特征直接接触,也可以包括第一特征和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
[0038]下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本技术的技术方案。
[0039]本实施例提供了一种清洁机构。图1是清洁机构的结构示意图,图2是清洁头的结构示意图。如图1和图2所示,该清洁机构包括水平驱动组件1、竖直驱动组件2及清洁组件3。水平驱动组件1包括两根沿第一水平方向(图1所示X方向)设置的导轨11,每根导轨11均滑动设置有水平滑块12。竖直驱动组件2包括横梁21,横梁21的两端分别沿竖直方向滑动设置本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种清洁机构,其特征在于,包括:水平驱动组件(1),所述水平驱动组件(1)包括两根沿第一水平方向设置的导轨(11),每根所述导轨(11)均滑动设置有水平滑块(12);竖直驱动组件(2),所述竖直驱动组件(2)包括横梁(21),所述横梁(21)的两端分别沿竖直方向滑动设置于两个所述水平滑块(12);清洁组件(3),所述清洁组件(3)包括多个沿第二水平方向间隔设置于所述横梁(21)的清洁头(31),所述清洁头(31)包括本体(311)及设置于所述本体(311)的针头(312),所述本体(311)连接于所述横梁(21),所述第二水平方向垂直于所述第一水平方向。2.根据权利要求1所述的清洁机构,其特征在于,所述清洁组件(3)还包括高压气泵,所述针头(312)包括吹气部(3121),所述吹气部(3121)设置有吹气孔,所述吹气孔与所述高压气泵连通。3.根据权利要求1所述的清洁机构,其特征在于,所述清洁组件(3)还包括抽真空件,所述针头(312)包括吸气部(3122),所述吸气部(3122)设置有吸气孔,所述吸气孔与所述抽真空件连通。4.根据权利要求1所述的清洁机构,其特征在于,所述清洁头(31)还包括罩体(313),所述罩体(313)的一端与所述本体(31...

【专利技术属性】
技术研发人员:白昊升
申请(专利权)人:昆山龙腾光电股份有限公司
类型:新型
国别省市:

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