掩模干燥装置制造方法及图纸

公开了一种掩模干燥装置。所述掩模干燥装置包括：腔室；等离子体产生部件，连接于腔室的一侧壁；第一干燥部件，布置在垂直于一侧壁的腔室的下部壁；掩模固定部件，固定掩模；以及旋转部件，连接于掩模固定部件，其中，掩模固定部件能够借由旋转部件而在等离子体产生部件与第一干燥部件之间旋转。第一干燥部件之间旋转。第一干燥部件之间旋转。

【技术实现步骤摘要】
掩模干燥装置


[0001]本专利技术涉及一种掩模干燥装置以及掩模清洗系统，更加详细地，涉及一种利用等离子体的掩模干燥装置以及掩模清洗系统。

技术介绍

[0002]在制造显示装置的过程中，可以使用掩模。可以通过所述掩模将沉积物质以期望的图案沉积在基板等。在沉积过程中，在掩模沾有异物的情形下，可能由于所述异物而无法将所述沉积物质以期望的图案沉积到所述基板。因此，有必要清洗所述掩模。在进行清洗之后，需要确保残留在所述掩模的清洗液、水分等完全干燥才能利用所述掩模顺利地进行所述沉积过程。
[0003]现有的干燥过程是在将挥发性化学物质涂覆在所述掩模后利用空气干燥器来进行的。在此情形下，存在所述挥发性化学物质爆炸的危险，并且存在管理所述挥发性化学物质的成本高等缺点。
[0004]因此，正在大量进行着关于通过新的方式进行所述干燥过程的研究。

技术实现思路

[0005]本专利技术的技术问题是基于这些问题而构思的，本专利技术的目的在于提供一种包括等离子体装置的掩模干燥装置。
[0006]本专利技术的目的在于提供一种包括等离子体装置的掩模清洗系统。
[0007]然而，本专利技术要解决的技术问题并不限于上述提及的技术问题，并且可以在不脱离本专利技术的构思和领域的范围内以各种方式扩展。
[0008]根据用于实现上述本专利技术的目的的实施例的掩模干燥装置可以包括：腔室；等离子体产生部件，连接于所述腔室的一侧壁；第一干燥部件，布置在垂直于所述一侧壁的所述腔室的下部壁；掩模固定部件，固定掩模；以及旋转部件，连接于所述掩模固定部件，其中，所述掩模固定部件能够借由所述旋转部件而在所述等离子体产生部件与所述第一干燥部件之间旋转。
[0009]在实施例中，所述第一干燥部件可以包括卤素灯。
[0010]在实施例中，所述第一干燥部件可以包括加热器。
[0011]在实施例中，所述加热器可以包括加热线圈。
[0012]在实施例中，所述第一干燥部件可以产生微波。
[0013]在实施例中，在所述等离子体产生部件和所述掩模固定部件平行地排列时，所述等离子体产生部件与所述掩模之间的距离可以为5mm至15mm。
[0014]在实施例中，在所述第一干燥部件和所述掩模固定部件平行地排列时，所述第一干燥部件与所述掩模之间的距离可以为5mm至15mm。
[0015]在实施例中，所述等离子体产生部件可以包括紫外线灯。
[0016]在实施例中，所述等离子体产生部件可以包括多个等离子体头。
[0017]在实施例中，所述腔室可以包括惰性气体。
[0018]在实施例中，所述等离子体产生部件可以产生氧自由基和氮自由基中的至少一种。
[0019]在实施例中，所述氧自由基和所述氮自由基中的至少一种与所述惰性气体的反应可以在常温和常压下进行。
[0020]在实施例中，所述等离子体产生部件和所述第一干燥部件可以彼此垂直地布置。
[0021]在实施例中，在所述第一干燥部件和所述掩模固定部件平行地排列时，所述掩模和所述第一干燥部件可以重叠。
[0022]在实施例中，还可以包括布置在与所述下部壁对向的所述腔室的上部壁的第二干燥部件。
[0023]在实施例中，所述第二干燥部件可以与所述第一干燥部件平行地布置。
[0024]在实施例中，在所述第二干燥部件和所述掩模固定部件平行地排列时，所述掩模与所述第二干燥部件可以重叠。
[0025]根据用于实现上述本专利技术的目的的实施例的掩模清洗系统可以包括：掩模传送部，传送掩模；掩模清洗装置，与所述掩模传送部连接；以及掩模干燥装置，与所述掩模传送部连接。所述掩模干燥装置可以包括：腔室；等离子体产生部件，连接于所述腔室的一侧壁；干燥部件，布置在垂直于所述一侧壁的所述腔室的下部壁；掩模固定部件，固定所述掩模；以及旋转部件，连接于所述掩模固定部件，其中，所述掩模固定部件能够借由所述旋转部件而在所述等离子体产生部件与所述干燥部件之间旋转。
[0026]在实施例中，可以相互垂直地布置所述等离子体产生部件以及所述干燥部件。
[0027]在实施例中，所述干燥部件可以是选自卤素灯、加热器以及微波产生装置中的一种。
[0028]根据本专利技术的实施例的掩模干燥装置可以包括：腔室；等离子体产生部件，连接于所述腔室的一侧壁；第一干燥部件，布置在垂直于所述一侧壁的所述腔室的下部壁；掩模固定部件，固定掩模；以及旋转部件，连接于所述掩模固定部件，其中，所述掩模固定部件可以借由所述旋转部件而在所述等离子体产生部件与所述第一干燥部件之间旋转。
[0029]据此，可以在同一腔室内同时进行等离子体处理和干燥处理。并且，通过利用所述等离子体处理和所述干燥处理，可以不进行利用化学物质的干燥，从而可以降低干燥所述掩模的成本。并且，由于不利用所述化学物质，因此可以提高干燥所述掩模时的安全性。
[0030]然而，本专利技术的效果并不限于上述效果，并且可以在不脱离本专利技术的构思和领域的范围内以各种方式扩展。
附图说明
[0031]图1是示出根据本专利技术的一实施例的掩模清洗系统的框图。
[0032]图2是示出图1的掩模清洗系统所包括的第二掩模干燥装置的一实施例的图。
[0033]图3是示出图2的第二掩模干燥装置所包括的旋转部件旋转的一实施例的图。
[0034]图4是示出布置在图1的第二掩模干燥装置的等离子体产生部件的一实施例的图。
[0035]图5a以及图5b是示出图4的等离子体产生部件移动的一实施例的图。
[0036]图6是示出布置在图1的第二掩模干燥装置的等离子体产生部件的另一实施例的
图。
[0037]图7a以及图7b是示出图6的等离子体产生部件移动的一实施例的图。
[0038]图8是示出图1的掩模清洗系统所包括的第二掩模干燥装置的另一实施例的图。
[0039]图9是示出图8的第二掩模干燥装置所包括的旋转部件旋转的一实施例的图。
[0040]图10是示出布置在图1的第二掩模干燥装置的等离子体产生部件的一实施例的图。
[0041]图11是示出布置在图1的第二掩模干燥装置的等离子体产生部件的另一实施例的图。
[0042]图12a和图12b是示出图1的掩模清洗系统所包括的第二掩模干燥装置的一实施例的图。
[0043]图13a和图13b是示出图1的掩模清洗系统所包括的第二掩模干燥装置的一实施例的图。
[0044]附图标记说明
[0045]100a：掩模装载部
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100b：掩模传送部
[0046]100c：掩模卸载部
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200：第一掩模清洗装置
[0047]300：第二掩模清洗装置
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400：第一掩模干燥装置
[0048]500：第二掩模干燥装置
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩模干燥装置，其特征在于，包括：腔室；等离子体产生部件，连接于所述腔室的一侧壁；第一干燥部件，布置在垂直于所述一侧壁的所述腔室的下部壁；掩模固定部件，固定掩模；以及旋转部件，连接于所述掩模固定部件，其中，所述掩模固定部件能够借由所述旋转部件而在所述等离子体产生部件与所述第一干燥部件之间旋转。2.如权利要求1所述的掩模干燥装置，其特征在于，所述第一干燥部件包括卤素灯。3.如权利要求1所述的掩模干燥装置，其特征在于，所述第一干燥部件包括加热器。4.如权利要求3所述的掩模干燥装置，其特征在于，所述加热器包括加热线圈。5.如权利要求1所述的掩模干燥装置，其特征在于，所述第一干燥部件产生...

【专利技术属性】
技术研发人员：姜爀，金栽豊，安昶昱，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：