【技术实现步骤摘要】
一种退火炉
[0001]本技术涉及退火炉
,具体为一种退火炉。
技术介绍
[0002]退火炉是在半导体器件制造中使用的一种工艺,其包括加热多个半导体晶片以影响其电性能。热处理是针对不同的效果而设计的。可以加热晶片以激活掺杂剂,将薄膜转换成薄膜或将薄膜转换成晶片衬底界面,使致密沉积的薄膜,改变生长的薄膜的状态,修复注入的损伤,移动掺杂剂或将掺杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜进入晶圆衬底,退火炉可以集成到其他炉子处理步骤中,例如氧化,或者可以自己处理。退火炉是由专门为加热半导体晶片而设计的设备完成的。退火炉是节能型周期式作业炉,超节能结构,采用纤维结构,节电60%。
[0003]目前,退火炉在对钢管加工的时候,需要将钢管通入管道中,很多钢管管道的时候都是采用人工推入,由于钢管本身就较长,导致在推入的时候较为麻烦,部分可以采用机械输送的装置,在输送的时候大多选择辊轴,通过多个辊轴的旋转,带动钢管的输送,辊轴在旋转对钢管输送的时候,相当于通过辊轴与钢管之间接触的摩擦力对钢管输送,且钢管在进入管道后,钢管的表面也会 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种退火炉,包括支板(1),其特征在于:所述支板(1)上安装有加工台(2),所述加工台(2)上设置有处理机构和夹持机构;所述处理机构包括降温器(3),所述降温器(3)安装在所述加工台(2)上,所述降温器(3)上设置有管道(4)和加热器(5),所述加热器(5)套设在所述降温器(3)和所述管道(4)上。2.根据权利要求1所述的一种退火炉,其特征在于:所述加工台(2)上开设有安装槽,所述安装槽的内部安装有输送带(6),所述输送带(6)上设置有固定块(7),所述夹持机构设置在所述固定块(7)上。3.根据权利要求2所述的一种退火炉,其特征在于:所述夹持机构包括驱动组件和辅助组件,所述驱动组件包括横板(8),所述横板(8)安装在所述固定块(7)上,所述横板(8)上安装有电动伸缩杆(9),所述电动伸缩杆(9)...
【专利技术属性】
技术研发人员:雷胜,
申请(专利权)人:无锡圆诺电子科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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