一旦进入金属沉积用来倾斜基片的方法和相关设备技术

说明了一种电镀系统。该电镀系统实现一种把基片上形成的种层浸入到电解液中的方法。在一个方面，通过进入电解液时倾斜基片把基片浸入该电镀系统中从而限制电解液中在基片和基片支持器之间捕获或形成气泡。在另一个方面，提供一种用于电镀的设备，其包括一个槽、一个基片支持器和一个致动器。该致动器可在ｘ和ｚ方向上移动该基片支持器并且还可倾斜基片。在又一个方面，提供一种用于驱动电解液在基片表面上形成的弯液面的方法。该方法包括在把基片浸入电解液时加强电解液弯液面和该表面间的交互作用。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种用于把基片上形成的电镀表面浸入到电解液中的方法，该方法包括：在该电解液上方把该基片定位成和水平线成某一角度；以及在保持该基片相对于水平线成某一角度的同时垂直地移动该基片以把该电镀表面浸到电解液中。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：耶兹迪N多尔迪，约瑟夫J斯蒂文斯，迈克尔N苏加尔曼，
申请(专利权)人：应用材料有限公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]