【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种抗电蚀电极结构,其特征在于,包括有: 二信号电极,该二信号电极之间具有一电位差;以及 一遮蔽电极,设置于该二信号电极之间,用以构成一电弧遮蔽,以遮蔽该二信号电极的该电位差所产生的一电弧。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:陈景隆,徐金玲,
申请(专利权)人:胜华科技股份有限公司,
类型:实用新型
国别省市:71[中国|台湾]
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