晶片清洗和蒸汽干燥系统和方法技术方案

本发明专利技术为一种处理和干燥一物体、特别是一半导体晶片的方法和系统。按照所述方法，当一湿物体位于一容器中时，把异丙醇干燥蒸汽引入该容器中。干燥蒸汽凝结在该物体表面上减小该剩余处理流体的表面张力，使得剩余处理流体从该表面上脱落。在该容器中对该物体进行ＨＦ清洁和／或去离子水清洗之类湿处理、然后排出处理流体后引入干燥蒸汽。（*该技术在2019年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术一般涉及高洁净度物体的处理和清洗系统，特别涉及使用干燥蒸汽干燥这类物体的干燥系统和干燥过程。
技术介绍
在某些工业中必须使用各过程使物体达到极高的洁净度。例如，在半导体晶片制作中，一般需要使用多个清洗步骤除去晶片表面上的杂质才能作进一步处理。多年来，在进行称为表面制备的晶片清洗时，把多个晶片集中成一批后使该批晶片经受一系列化学和清洗步骤后最终进行干燥步骤。一种典型的表面制备顺序是把这些晶片浸没在HF和HCI酸洗溶液中除去表面氧化物和金属杂质。然后，这些晶片用高纯度去离子水(DI)彻底清洗，除去晶片上的酸洗化合物。经清洗的晶片然后使用各种公知干燥过程干燥。当前，在工业中使用各种工具和方法进行该表面制备过程。现有清洗中最流行的工具是浸入润湿清洗平台或“润湿台”。在润湿台处理中，一批晶片浸入一系列处理容器中，其中，一些容器中装有清洗或酸洗所需化合物，而另一些容器中装有清洗晶片表面上的这些化合物的去离子水(“DI”)。为更彻底清洗晶片表面，可使用与一个或多个容器连接的压电转换器把兆波能量赋予晶片。在最后一个处理容器中，使用异丙醇(IPA)之类溶剂除去晶片上的清洗流体。IPA是一种本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种处理和干燥一物体表面的方法，包括下列步骤：（ａ）提供一容器和至少一个有一表面的物体；（ｂ）把该物体浸没在该容器中的一处理流体中；（ｃ）排出该容器中的该处理流体，该物体表面上留下剩余处理流体；（ｄ）在排出该容器中的该处理流 体后，把一干燥蒸汽引入该容器中，该干燥蒸汽凝结在该物体表面上，减小该剩余处理流体的表面张力，使得剩余处理流体从该表面上脱落。

【技术特征摘要】
US 1999-1-8 09/227,637;US 1998-10-9 60/103,8021.一种处理和干燥一物体表面的方法，包括下列步骤(a)提供一容器和至少一个有一表面的物体；(b)把该物体浸没在该容器中的一处理流体中；(c)排出该容器中的该处理流体，该物体表面上留下剩余处理流体；(d)在排出该容器中的该处理流体后，把一干燥蒸汽引入该容器中，该干燥蒸汽凝结在该物体表面上，减小该剩余处理流体的表面张力，使得剩余处理流体从该表面上脱落。2.按权利要求1所述的方法，其特征在于，该处理流体为去离子水。3.按权利要求1所述的方法，其特征在于，该处理流体为氢氟酸。4.按权利要求1所述的方法，其特征在于，进一步包括下列步骤；在步骤(d)后在该容器中引入一热气体，使凝结在该表面上的干燥蒸汽挥发。5.按权利要求1所述的方法，其特征在于，该方法进一步包括下列步骤在步骤(b)前，在与该容器分开的一位置发生该干燥蒸汽；以及步骤(d)包括下列步骤使用一载气把该干燥蒸汽从该位置带入该容器中。6.按权利要求5所述的方法，其特征在于，步骤(a)进一步提供一与该容器连通的室，该室与该容器分开；该发生步骤包括下列步骤在该室中加热一干燥化合物生成该干燥蒸汽；以及步骤(d)包括使载气流过该室，使得载气把该干燥蒸汽带入该容器中。7.按权利要求1所述的方法，其特征在于，该方法进一步包括下列步骤回收该容器中的干燥蒸汽后把所回收的干燥蒸汽冷凝成液态。8.按权利要求1所述的方法，其特征在于，该干燥蒸汽由异丙醇生成。9.一种处理和干燥一物体表面的方法，包括下列步骤(a)提供一容器和至少一个有一表面的物体；(b)把该物体浸没在该容器中一液态化合物中处理该物体；(c)把一清洗流体引入该容器中，清洗该容器中和该物体表面上的化合物；(e)把清洗流体从该容器中排出，该物体表面上留下剩余清洗流体；(f)在清洗流体排出该容器后，把一干燥蒸汽引入该容器中，该干燥蒸汽凝结在该物体表面上，减小剩余清洗流体的表面张力，使得剩余清洗流体从该表面上脱落。10.按权利要求9所述的方法，其特征在于，进一步包括下列步骤在步骤(d)后在该容器中引入一热气体，使凝结在该表面上的干燥蒸汽挥发。11.按权利要求9所述的方法，其特征在于，该方法进一步包括下列步骤在步骤(b)前，在与该容器分开的一位置发生该干燥蒸汽；以及步骤(d)包括下列步骤使用一载气把该干燥蒸汽从该位置带入该容器中。12.按权利要求11所述的方法，其特征在于，步骤(a)进一步提供一与该容器连通的室，该室与该容器分开；该发生步骤包括下列步骤在该室中加热一干燥化合物生成该干燥蒸汽；以及步骤(d)包括使载气流过该室，使得载气把该干燥蒸汽带入该容器中。13.按权利要求9所述的方法，其特征在于，该方法进一步包括下列步骤回收该容器中的干燥蒸汽后把所回收的干燥蒸汽冷凝成液态。14.按权利要求9所述的方法，其特征在于，该干燥蒸汽由异丙醇生成。15.按权利要求9所述的方法，其特征在于，该清洗流体为去离子水。16.按权利要求9所述的方法，其特征在于，该方法包括下列步骤在臭氧化水中清洗物体。17.按权利要求16所述的方法，其特征在于，包括下列步骤在步骤(d)前用臭氧化清洗流体清洗该物体。18.一种处理和干燥一物体表面的方法，包括下列步骤(a)提供一容器、一与该容器连通但与该容器分开的室和至少一个有一表面的物体；(b)在该容器外部使用湿处理法处理该物体，生成其上有剩余处理流体的一湿物体；(c)把该湿物体放入该容器中；(d)在该室中发生一干燥蒸汽；以及(e)使一载气经该室流入该容器中，该载气把该干燥蒸汽从该室带入该容器中，该干燥蒸汽凝结在该物体表面上，减小该剩余处理流体的表面张力，使得剩余处理流体从该表面上脱落。19.按权利要求18所述的方法，其特征在于，步骤(d)包括在该室中加热一干燥化合物生成该干燥蒸汽。20.按权利要求19所述的方法，其特征在于，该干燥化合物加热到一低于其沸点的温度。21.按权利要求18所述的方法，其特征在于步骤(a)进一步提供该容器的一盖，该盖包括至少一个进口；该方法进一步包括使用该盖密封该容器；以及在步骤(e)中，载气和干燥蒸汽从该盖中的该至少一个进口流入该容器中。22.按权利要求19所述的方法，其特征在于，该干燥化合物为异丙醇。23.按权利要求18所述的方法，其特征在于，该方法进一步包括下列步骤回收该容器中的干燥蒸汽后把所回收的干燥蒸汽冷凝成液态。24.按权利要求18所述的方法，其特征在于，进一步包括下列步骤在步骤(e)后在该容器中引入一热气体，使凝结在该表面上的干燥蒸汽挥发。25.一种处理和干燥一物体表面的方法，包括下列步骤(a)提供一容器和至少一个有一表面的物体；(b)把该物体浸没在该容器中一处理流体中，该处理流体包括氢氟酸；(c)把该处理流体从该容器中排出；(d)在处理流体全部排出该容器后不首先清洗该物体，把一干燥蒸汽引入该容器中，该干燥蒸汽凝结在该物体表面上，减小剩余处理流体的表面张力，使得剩余处理流体从该表面上脱落。26.按权利要求25所述的方法，其特征在于，进一步包括下列步骤在步骤(d)后在该容器中引入一热气体，使凝结在该表面上的干燥蒸汽挥发。27.按权利要求25所述的方法，其特征在于，该方法进一步包括下列步骤在步骤(b)前，在与该容器分开的一位置发生该干燥蒸汽；以及步骤(...

【专利技术属性】
技术研发人员：E塔默，RM哈尔，J布特勒，
申请(专利权)人：SCP环球技术公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]