基板处理装置及基板处理方法制造方法及图纸

一种基板处理装置及基板处理方法，将收容盒工作站、具有涂布单元和显影单元的处理工作站、具有膜厚检查装置和缺陷检查装置的检查工作站配置成在与收容盒工作站的收容盒的排列方向大约垂直的方向上检查工作站设置在收容盒工作站与处理工作站之间。在这种结构中，由于是将检查工作站连接在处理工作站上，它们之间晶片的输送自动进行，因此能够简化从基板处理到检查的作业，缩短作业时间。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及例如对半导体晶片或液晶显示器用的玻璃基板等基板进行例如抗蚀液涂布处理和显影处理等的基板处理装置和基板处理方法。
技术介绍
在半导体装置的制造过程中，使用一种在半导体晶片等基板上涂布抗蚀液、使用光掩模对该抗蚀膜进行曝光、经显影在基板上制作出所希望的抗蚀图案的光蚀刻技术。这种光蚀刻是在将曝光装置连接在涂布显影装置的图案形成系统中进行的。作为涂布显影装置，例如以对半导体晶片(以下称作晶片)进行处理为例，是由输入输出晶片载体的载体工作台、从载置于该载体工作台上的载体中取出晶片的传递臂、处理组件、以及接口工作站等构成；并与曝光装置相连接。通过传递臂送入处理工作站中的晶片，经形成抗蚀膜、在曝光装置中曝光、之后返回处理工作站显影，最后通过传递臂被送回到载体上。当处理结束后的晶片被放置到载体中后，由操作人员或自动输送机器人将载体从载体工作台中送出，送入与涂布显影装置位于不同区域中的检查单元中。在该检查单元中，对晶片上所形成的抗蚀图案的线宽、抗蚀图案与基底图案的重合度、抗蚀膜涂布不均匀度、以及显影缺陷等进行检查。将判定为合格的晶片送入下一道工序，而判定为不合格的晶片送入清洗单元将抗蚀膜溶解清除，使之恢复到进行该涂布、显影之前的状态。之后，将该晶片再次送入图案形成系统中，再次进行同样的处理。但是，经图案形成系统处理后的晶片要送入设置在外部的检查单元进行图案检查之后才送入下一道工序，这是导致处理能力降低的原因之一。此外，当前述检查单元中正在对经其它图案形成系统处理的晶片进行检查时，必须等待，导致涂布显影装置的处理能力不能在整体处理中得到反映。再有，在该系统的操作人员需要了解图案检查结果时，必须到另外的场所取结果，因此，例如在需要根据检查结果研究处理方案等场合会感到不万便。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种能够在避免涂布显影装置等的处理能力降低的情况下进行基板的检查的基板处理装置和基板处理方法。本专利技术的另一个目的是提供一种基板的抽样检查能够简单地进行的基板处理装置和基板处理方法。为实现上述目的，本专利技术的主要观点所涉及的基板处理装置具备收容盒工作站，该收容盒工作站包含用来载置收容有多个晶片的基板收容盒的载置部、以及相对于载置于该载置部上的基板收容盒进行基板的传递的传递部；处理工作站，该处理工作站包含有在自前述收容盒工作站送来的基板上涂布处理液的基板处理部；与前述处理工作站相连接的检查工作站、该检查工作站包含有对前述基板进行前述基板处理部之处理状况检查的检查部；以及在前述处理工作站与检查工作站之间进行基板的传递的基板输送部。按照这样的构成，由于检查工作站与处理工作站二者相邻接地设置，在处理工作站与检查工作站之间自动输送基板，因此，操作人员不必进行输送作业，可缩短基板的输送时间。因而，可简化自基板处理到检查为止的整个作业，而且由于对处理状况能够进行实时检查，故能够进行高精度的检查，可缩短从处理到检查为止的整个时间。本专利技术的另一个观点所涉及的基板处理装置为一种向基板涂布抗蚀液并使曝光后的基板显影的、与曝光装置相连接的装置，具备载体工作站，该载体工作站包含供收容有多片基板的载体输入输出的载体输入输出部，以及相对于载置在该载体输入输出部上的载体进行基板的传递的传递部；处理工作站，该处理工作站与该载体工作站相邻接，包含有在基板上涂布抗蚀液的涂布部、使曝光后的基板显影的显影部、以及向涂布部和显影部输送基板并与前述传递部之间进行基板的传递的主输送部；检查工作站，该检查工作站与前述载体工作站相邻接，具有对处理后的基板进行检查的检查部；外部载体载置部，该外部载体载置部可供将收容有在外部进行处理后的基板的载体送入；模式选择部，该模式选择部能够在对经过前述处理工作站处理的基板以检查部进行检查的一般模式，以及对在外部进行处理后的基板以检查部进行检查的检查部专用模式之间进行模式选择。外部载体载置部例如设置在载体工作站中，例如是载体输入输出部的一部分。作为本专利技术的更具体的构成例，可列举出检查工作站具有与检查部之间进行基板的传递的辅助输送部，在载体工作站内或者检查工作站内或者横跨载体工作站与检查工作站的某一位置上设置用于临时载置基板的中间载置部，将经处理工作站进行显影处理后的基板以及载置于外部载体载置部上的载体内的基板通过载体工作站的传递部经中间载置部向前述辅助输送部传递。根据本专利技术，由于能够在涂布显影装置中进行图案检查等检查，因此，处理能力得到提高，而且，即使在进行涂布、显影的处理工作站等进行维修时以及涂布、显影处理休停时，检查单元仍可以单独使用，仍能够对从外部送入的基板进行检查。本专利技术的另一个观点所涉及的装置与上述专利技术的构成大体相同，但在外部载体载置部上所载置的载体与检查工作站之间进行基板的传递时，使用的是第2传递部，该第2传递部是相对于载体工作站内的传递部(第1传递部)另外设置的。本专利技术的另一个观点所涉及的装置与上述专利技术的构成大体相同，但在检查工作站内设有外部载体载置部和辅助输送部。本专利技术的又一个观点所涉及的基板处理装置具备收容盒工作站，该收容盒工作站包含有用来载置收容有多个基板的基板收容盒的载置部，以及相对于载置于该载置部的基板收容盒进行基板的传递的传递部；处理工作站，该处理工作站与前述收容盒工作站相邻接，包含有在基板上涂布处理液的基板处理部、以及相对于该基板处理部按照前述基板收容盒的排列顺序进行基板的传递并且与前述传递部之间按照前述基板收容盒的排列顺序进行基板的传递的主基板输送部；检查部，该检查部用来对前述基板的前述基板处理部的处理状况进行检查；检查基板载置部，该检查基板载置部用来载置经前述基板处理部处理的、要以前述检查部进行检查的检查用基板；基板载置部，该基板载置部用来载置在基板收容盒内的排列顺序排在前述检查用基板之后的基板；以及基板输送部，该基板输送部用来将经过基板处理部处理的基板向前述检查基板载置部和前述基板载置部进行输送。按照这样的构成，由于检查部组装在基板处理装置中，故与将检查部设置在外部相比，省去了基板输送操作，输送时间也缩短了，因此，处理能力得以提高。而对于上述装置，例如可以实施以包含有以下工序为特征的基板处理方法，即将收容有多个基板的基板收容盒中的基板按照基板收容盒的排列顺序向对基板进行处理液涂布的基板处理部输送，对该基板按照输送的顺序进行处理的工序；将经前述基板处理部处理后的基板从该基板处理部送出的工序；将前述基板处理部所送出的基板中的、基板收容盒的第n(n为1以上的整数)个检查用基板送向检查部，对基板处理部的处理状况进行检查的工序；在检查部的处理时间长于基板处理部的基板送出间隔的场合，直到检查部中检查用基板的检查结束之前，将在基板处理部中完成基板处理而自该基板处理部送出的、基板收容盒内的排列顺序排在前述检查用基板之后的基板按照在基板收容盒内的排列顺序依次向基板载置部输送，并按照该顺序进行载置的工序；将在前述检查部中完成了检查的检查用基板从检查部送出的工序；以及将前述检查用基板从检查部送出后，将载置于前述基板载置部上的基板按照基板收容盒内的排列顺序从基板载置部送出的工序。作为本专利技术，即使在对经过基板处理部处理的基板进行抽样检查，而检查部的处理时间长于向基板处理部输送基板的间隔的场合，也能够做到在检查用基本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置，其特征是，具备： 包含载置收容有多个基板的基板收容盒的载置部、以及相对于载置于所说载置部上的基板收容盒进行基板的传递的传递部的收容盒工作站， 包含在从所说收容盒工作站送来的基板上涂布处理液的基板处理部的处理工作站， 包含连接在所说处理工作站上、对所说基板进行所说基板处理部的处理状况检查的检查部的检查工作站， 在所说处理工作站与检查工作站之间进行基板的传递的基板输送部。

【技术特征摘要】
JP 2000-7-12 211532/00;JP 2000-7-18 217722/00;JP 21.一种基板处理装置，其特征是，具备包含载置收容有多个基板的基板收容盒的载置部、以及相对于载置于所说载置部上的基板收容盒进行基板的传递的传递部的收容盒工作站，包含在从所说收容盒工作站送来的基板上涂布处理液的基板处理部的处理工作站，包含连接在所说处理工作站上、对所说基板进行所说基板处理部的处理状况检查的检查部的检查工作站，在所说处理工作站与检查工作站之间进行基板的传递的基板输送部。2.如权利要求1所说的基板处理装置，其特征是，所说检查工作站与处理工作站二者并排排列，所说检查工作站在与排列方向大约垂直的方向上的宽度为所说处理工作站在与排列方向大约垂直的方向上的宽度以下。3.如权利要求1所说的基板处理装置，其特征是，所说检查工作站在与收容盒工作站的基板收容盒的排列方向大约垂直的方向上与所说处理工作站相连接。4.如权利要求1所说的基板处理装置，其特征是，所说检查工作站这样构成，即，能够与所说收容盒工作站和所说处理工作站中的至少一方自由连接和分离。5.如权利要求1所说的基板处理装置，其特征是，所说检查工作站包含有多个种类的检查部。6.如权利要求1所说的基板处理装置，其特征是，所说检查工作站包含有所说基板处理部中所使用的材料的收容部。7.如权利要求6所说的基板处理装置，其特征是，所说基板处理部是向基板供给预定的液体的处理部，所说收容部的材料是所说的液体。8.如权利要求6所说的基板处理装置，其特征是，所说检查工作站包含有用来与处理工作站之间进行基板的传递的基板输送部。9.如权利要求1所说的基板处理装置，其特征是，所说检查工作站包含有基板的传递部。10.如权利要求1所说的基板处理装置，其特征是，所说检查工作站包含有用来在与所说收容盒工作站的传递部之间进行基板的传递的基板的传递部。11.如权利要求1所说的基板处理装置，其特征是，所说检查工作站的所说检查部，以将该检查工作站在该检查工作站的排列方向上两等分的线为对称轴而对称地配置有多个。12.如权利要求1所说的基板处理装置，其特征是，所说检查工作站具有用来对该检查工作站内部的温度和湿度中的至少一方进行调整的调整部。13.如权利要求1所说的基板处理装置，其特征是，所说收容盒工作站、所说处理工作站和所说检查工作站在与所说收容盒工作站的基板收容盒的排列方向大约垂直的方向上排列，所说检查工作站设置在所说收容盒工作站与处理工作站之间。14.如权利要求1所说的基板处理装置，其特征是，所说收容盒工作站、所说处理工作站和所说检查工作站在与所说收容盒工作站的基板收容盒的排列方向大约垂直的方向上排列，所说处理工作站设置在所说收容盒工作站与所说检查工作站之间。15.如权利要求1所说的基板处理装置，其特征是，所说处理工作站具有多个基板处理部，所说基板处理部中的至少一个是用来在涂布抗蚀液并曝光后的基板上涂布显影液而进行显影的，所说检查工作站具有多个检查装置，所说检查装置中的至少一个是用来对基板进行显影处理之处理状况进行检查的，所说收容盒工作站、所说处理工作站和所说检查工作站在与所说收容盒工作站的基板收容盒的排列方向大约垂直的方向上排列，所说检查工作站设置在所说收容盒工作站与所说处理工作站之间。16.如权利要求1所说的基板处理装置，其特征是，所说处理工作站具有多个基板处理部，所说基板处理部中的至少一个是用来在基板上涂布抗蚀液的，所说检查工作站具有多个检查装置，所说检查装置中的至少一个是用来对基板进行抗蚀液涂布状况进行检查的，所说收容盒工作站、所说处理工作站和所说检查工作站在与所说收容盒工作站的基板收容盒的排列方向大约垂直的方向上排列，所说处理工作站设置在所说收容盒工作站与所说检查工作站之间。17.如权利要求1所说的基板处理装置，其特征是，所说检查部是用来测定形成于基板上的涂布膜的膜厚的。18.如权利要求1所说的基板处理装置，其特征是，所说检查部是用来检查形成于基板上的涂布膜的表面状态的。19.如权利要求1所说的基板处理装置，其特征是，所说基板处理装置是配置在净化间内的，当设所说处理工作站内的压力为第1压力、所说收容盒工作站内的压力为第2压力、所说检查工作站的压力为第3压力、所说净化间内的压力为第4压力时，具有如下关系，所说第1压力＞所说第2压力＞所说第3压力＞所说第4压力。20.一种基板处理装置，其特征是，具有包含载置收容有多个基板的基板收容盒的载置部、以及相对于载置于所说载置部上的基板收容盒进行基板的传递的传递部的收容盒工作站，包含在从所说收容盒工作站送来的基板上涂布第1处理液的第1基板处理部的第1处理工作站，包含在从所说收容盒工作站送来的基板上涂布第2处理液的第2基板处理部的第2处理工作站，设置在所说第1处理工作站与所说第2处理工作站之间的、包含对所说基板进行检查的第1检查部的第1检查工作站，在所说第1和第2处理工作站与所说第1检查工作站之间进行基板的传递的基板输送部；所说收容盒工作站、所说第1处理工作站、所说第2处理工作站和所说第1检站在与收容盒工作站的基板收容盒的排列方向大约垂直的方向上排列。21.如权利要求20所说的基板处理装置，其特征是，还具有设置在所说收容盒工作站与第1处理工作站之间的、包含对所说基板进行检查的第2检查部的第2检查工作站。22.如权利要求20所说的基板处理装置，其特征是，还具有用来与曝光装置之间进行基板的传递的接口工作站，设置在所说第2处理工作站与所说接口工作站之间的、包含对所说基板进行检查的第3检查部的第3检查工作站。23.一种基板处理装置，其特征是，具备包含载置收容有多个基板的基板收容盒的载置部、以及相对于载置于所说载置部上的基板收容盒进行基板的传递的传递部的收容盒工作站，包含在从所说收容盒工作站送来的基板上涂布处理液的基板处理部的处理工作站，用来与曝光装置之间进行基板的传递的接口工作站，设置在所说收容盒工作站与所说处理工作站之间的、包含对所说基板进行检查的第1检查部的第1检查工作站，设置在所说处理工作站与所说接口工作站之间的、包含对所说基板进行检查的第2检查部的第2检查工作站。24.一种基板处理装置，其特征是，具备包含供收容有多片基板的载体输入输出的载体输入输出部、以及相对于载置于该载体输入输出部上的载体进行基板的传递的传递部的载体工作站，与所说载体工作站相邻接地设置的、包含在基板上涂布抗蚀液的涂布部，对曝光后的基板进行显影的显影部，以及相对于涂布部及显影部进行基板的传递并与所说传递部之间进行基板的传递的主输送部的处理工作站，与所说载体工作站相邻接地设置的、具有对基板进行检查的检查部的检查工作站。25.如权利要求24所说的基板处理装置，其特征是，还具有供收容有在外部进行了处理的基板的载体进入的外部载体载置部，在对所说处理工作站处理的基板以所说检查部进行检查的一般模式以及对在外部处理的基板以所说检查部进行检查的检查部单独使用模式之间进行模式选择的模式选择部。26.如权利要求25所说的基板处理装置，其特征是，所说外部载体载置部设置在所说载体工作站中。27.如权利要求25所说的基板处理装置，其特征是，所说外部载体载置部，是所说载体工作站中的载体输入输出部的一部分。28.如权利要求25所说的基板处理装置，其特征是，所说检查工作站具有与所说检查部之间进行基板的传递的辅助输送部，还具有在所说载体工作站的内部、检查工作站的内部以及横跨载体工作站与检查工作站位置的任意一处上所设置的、用来临时载置基板的中间载置部，用来将经过所说处理工作站显影处理的基板及载置于所说外部载体载置部上的载体内的基板通过所说载体工作站的传递部经由所说中间载置部向所说辅助输送部传递。29.如权利要求25所说的基板处理装置，其特征是，为了将经过所说处理工作站显影处理的基板在向所说检查工作站进行输送之前临时予以载置，还具有可容纳多个基板的多级载置部。30.如权利要求25所说的基板处理装置，其特征是，所说多级载置部兼作在所说传递部与所说辅助输送部之间传递基板的中间载置部。31.如权利要求25所说的基板处理装置，其特征是，所说检查部是多个上下层叠配置的。32.一种基板处理装置，其特征是，具备包含供收容有多片基板的载体输入输出的载体输入输出部、以及相对于载置于该载体输入输...

【专利技术属性】
技术研发人员：佐藤纪胜，绪方久仁惠，木村义雄，富田浩，中岛清次，神谷英彦，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]