一种高耐磨渗花瓷质抛光砖及其制备方法技术

本发明专利技术公开一种高耐磨渗花瓷质抛光砖及其制备方法。所述制备方法包括以下步骤：在坯体表面施高膨胀面釉；所述高膨胀面釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：60%～79%，Al2O3：23%～29%，碱土金属氧化物：0.2%～0.6%，碱金属氧化物：5.1%～7.1%；在施高膨胀面釉后的坯体表面施渗花面釉；在施渗花面釉后的坯体表面喷墨打印渗花墨水；将喷墨打印渗花墨水后的坯体烧成并抛光，得到所述高耐磨渗花瓷质抛光砖。得到所述高耐磨渗花瓷质抛光砖。得到所述高耐磨渗花瓷质抛光砖。

【技术实现步骤摘要】
一种高耐磨渗花瓷质抛光砖及其制备方法


[0001]本专利技术涉及建筑陶瓷
，特别涉及一种高耐磨渗花瓷质抛光砖及其制备方法。

技术介绍

[0002]喷墨渗花瓷砖因面釉层所含碱土金属含量低，促使釉面硬度明显优于普通抛釉类产品，几乎接近抛光砖。但在长期使用过程中，喷墨渗花瓷砖的表面仍会出现明显划痕和磨花缺陷。如何提高瓷质砖表面的硬度仍然是喷墨渗花瓷砖面临的难题。

技术实现思路

[0003]针对上述问题，本专利技术提供一种高耐磨渗花瓷质抛光砖及其制备方法，所述方法通过调整高膨胀面釉和渗透面釉的釉料配方和施釉工艺，在保证渗透性能的基础上实现提高釉层的耐磨性。
[0004]第一方面，本专利技术提供一种高耐磨渗花瓷质抛光砖的制备方法。所述制备方法包括以下步骤：在坯体表面施高膨胀面釉；所述高膨胀面釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：60％～79％，Al2O3：23％～29％，碱土金属氧化物：0.2％～0.6％，碱金属氧化物：5.1％～7.1％；在施高膨胀面釉后的坯体表面施渗花面釉；在施渗花面釉后的坯体表面喷墨打印渗花墨水；本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高耐磨渗花瓷质抛光砖的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：在坯体表面施高膨胀面釉；所述高膨胀面釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：60%～79%，Al2O3：23%～29%，碱土金属氧化物：0.2%～0.6%，碱金属氧化物：5.1%～7.1%；在施高膨胀面釉后的坯体表面施渗花面釉；在施渗花面釉后的坯体表面喷墨打印渗花墨水；将喷墨打印渗花墨水后的坯体烧成并抛光，得到所述高耐磨渗花瓷质抛光砖。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述高膨胀面釉烧成后的吸水率控制在2～6wt%。3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述高膨胀面釉的比重为1.32～1.38，施加量为160～250克/平方米。4.根据权利要求1至3中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述高膨胀面釉在25～600℃的平均膨胀系数为8.9～9.3
×
10
‑
6 ℃
‑1。5.根据权利要求1至4中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述渗花面釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：59%～69%，Al2O3：15%～25%，碱土金属氧化物：0.5%～4%，碱金属氧化物：4.7%～7.3%，ZrO2：3.5%～16%。6.根据权利要求1至5中任一项所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢志军，范周强，杨元东，黄秋立，曹国芹，
申请(专利权)人：蒙娜丽莎集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：