一种暗雕装饰干粒全抛陶瓷砖及制备方法技术

本发明专利技术公开一种暗雕装饰干粒全抛陶瓷砖及制备方法。所述制备方法包括以下步骤：在砖坯表面施作为颜色面釉的第一面釉；在施第一面釉后的砖坯表面喷墨打印油性墨水；在喷墨打印油性墨水后的砖坯表面施作为高白面釉的第二面釉；第二面釉被油性墨水拨开的位置露出第一面釉的暗色底色，第二面釉未被油性墨水拨开的位置由于第一面釉和第二面釉的叠加呈现高白效果，拨开结合暗色底色和高白效果的配色对此呈现立体的暗雕层次；在施第二面釉后的砖坯表面施透明釉促使透明釉覆盖在面釉层的剥开位置而具有亮面的仿真雕刻装饰；将施透明釉后的砖坯干燥，烧成，抛光，得到所述暗雕装饰干粒全抛陶瓷砖。抛陶瓷砖。抛陶瓷砖。

【技术实现步骤摘要】
一种暗雕装饰干粒全抛陶瓷砖及制备方法


[0001]本专利技术涉及一种暗雕装饰干粒全抛陶瓷砖及制备方法，属于陶瓷砖生产制造


技术介绍

[0002]目前市场上抛釉陶瓷产品种类繁多。为了提高产品竞争力，当前陶瓷厂家不仅提供较多的花色选择，而且在提高产品附加价值方面也开展许多工作。中国专利CN113183292A公开一种数控模具效果陶瓷砖的制备方法，通过电脑设计模具图案并由陶瓷喷墨花机在平面坯体上喷墨打印具有排开或拨开性能的功能墨水来形成自然起伏的装饰效果。当前以特殊效果墨水拨开形成的雕刻纹理陶瓷砖以仿古面陶瓷砖为主，在后期使用过程中，由于釉面存在凹凸槽而难以清扫，且容易藏污。

技术实现思路

[0003]针对上述问题，本专利技术提供一种暗雕装饰干粒全抛陶瓷砖及制备方法，利用面釉间呈现的凹凸起伏效果结合全抛釉工艺获得的暗雕装饰干粒全抛陶瓷砖既有仿真雕刻效果，又是亮面产品，后期便于清洗，使用范围更加广泛。
[0004]第一方面，本专利技术提供一种暗雕装饰干粒全抛陶瓷砖的制备方法。所述制备方法的包括以下步骤：在砖坯表面施作为颜色面釉的第一面釉；在施第一面釉后的砖坯表面喷墨打印油性墨水；在喷墨打印油性墨水后的砖坯表面施作为高白面釉的第二面釉；第二面釉被油性墨水拨开的位置露出第一面釉的暗色底色，第二面釉未被油性墨水拨开的位置由于第一面釉和第二面釉的叠加呈现高白效果，拨开结合暗色底色和高白效果的配色对此呈现立体的暗雕层次；在施第二面釉后的砖坯表面施透明釉促使透明釉覆盖在面釉层的剥开位置而具有亮面的仿真雕刻装饰；将施透明釉后的砖坯干燥，烧成，抛光，得到所述暗雕装饰干粒全抛陶瓷砖。
[0005]所述制备方法在第一面釉和第二面釉的两道面釉之间采用油性墨水形成具有凹槽的起伏纹理，在实现雕刻装饰的同时拉开颜色层次而呈现暗雕视觉效果。另外，还搭配厚的透明釉层使得透明釉填充至拨开位置，得以进一步提高立体感且同时避免砖面出现气泡等缺陷。
[0006]较佳地，所述第一面釉的基础釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：50～52％、Al2O3：29～32％、碱土金属氧化物：2.3～3.4％、碱金属氧化物：7.0～8.9％、ZrO2：2.9～3.5％；优选地，所述第一面釉还包括占基础釉的质量百分比3～8％的色料。
[0007]较佳地，所述第一面釉的始融温度为1190～1210℃。
[0008]较佳地，所述第一面釉的施加方式为喷釉，比重为1.28～1.33g/cm3，施釉量为300
～320g/m2。
[0009]较佳地，所述第二面釉的基础釉的化学组成和第一面釉相同；优选地，所述第二面釉还包括占基础面釉的质量百分比3～5％的硅酸锆。
[0010]较佳地，所述第二面釉的施加方式为喷釉，比重为1.45～1.50g/cm3，施釉量为700～750g/m2。
[0011]较佳地，所述透明釉包含的透明熔块的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：63％～66％、Al2O3：11％～14％、CaO：11％～13％、MgO：1％～2％、K2O：4.2％～5.1％、Na2O：0.2％～0.5％、ZnO：1.8％～2.3％。
[0012]较佳地，所述透明釉的施加方式为淋釉，施釉量为1000～1200g/m2。
[0013]较佳地，所述透明釉包含的透明熔块的粒径为80～250目。
[0014]第二方面，本专利技术还提供上述任一项所述的制备方法获得的暗雕装饰干粒全抛陶瓷砖。
附图说明
[0015]图1示出暗雕装饰干粒全抛陶瓷砖的砖面效果图。
具体实施方式
[0016]通过下述实施方式进一步说明本专利技术，应理解，下述实施方式仅用于说明本专利技术，而非限制本专利技术。在没有特殊说明的情况下，各百分含量指质量百分含量。
[0017]以下示例性说明本专利技术所述暗雕装饰干粒全抛陶瓷砖的制备方法。
[0018]将陶瓷基料压制为砖坯。陶瓷基料的化学组成不受限制，采用本领域常用的陶瓷基料配方即可。一些实施方式中，所述陶瓷基料的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：62.0～67.0％、Al2O3：20.0～25.0％、碱土金属氧化物：0.2～2％、碱金属氧化物：4～7％。例如，所述陶瓷基料的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：62.0～67.0％、Al2O3：20.0～25.0％、Fe2O3：0.06～0.10％、TiO2：0.10～0.50％、CaO：0.1～0.5％、MgO：0.1～1.0％、K2O：2.0～3.0％、Na2O：2.5～3.5％、烧失：4.5～6.5％。
[0019]可通过干压成型制备砖坯。砖坯可为平坯。
[0020]将砖坯干燥。可采用干燥窑干燥。干燥时间可为1～1.2h，干燥后坯体的水分控制在0.5wt％以内。
[0021]在干燥后的砖坯表面施作为颜色面釉的第一面釉。第一面釉的作用是遮盖坯体底色和瑕疵，促进喷墨发色，以及避免油性剥开墨水直接作用于砖坯导致砖面露底。而且由于砖坯出干燥窑后含水率较低，砖面平整度差，施第一道面釉利于提高平整度。另外，干燥后的砖坯温度较高，因此后续于第一面釉表面喷墨打印油性墨水时，第一面釉形成的面釉层已经基本被热干，所以第一面釉基本不会与油性墨水排斥形成拨开效果。
[0022]所述第一面釉的基础釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：50～52％、Al2O3：29～32％、碱土金属氧化物：2.3～3.4％、碱金属氧化物：7.0～8.9％、ZrO2：2.9～3.5％。在第一面釉中氧化锆的含量不宜过高，否则过量氧化锆导致第一面釉在高温状态下的粘度较大，造成砖坯排气存在阻力，使得气泡无法及时排出釉层而被包裹残留在釉层中，导致釉面抛光具有大量针孔缺陷。
[0023]作为示例，所述第一面釉的基础釉的化学组成包括：以质量百分比计，烧失：3.00～4.80％、SiO2：50.89～51.78％、Al2O3：29.87～31.04％、Fe2O3：0.21～0.41％、TiO2：0.06～0.08％、CaO：1.25～1.78％、MgO：1.18～1.59％、K2O：4.98～5.61％、Na2O：2.18～3.24％、ZrO2：2.93～3.25％、ZnO：0.07～0.10％。
[0024]所述第一面釉为颜色面釉，具体为暗色的颜色面釉。可以根据需求在第一面釉中加入相应颜色的色料实现面釉带色。作为示例，所述第一面釉还包括占基础釉的质量百分比3～8％例如3％的钴黑色料。钴黑色料的加入可以形成黑色底色。
[0025]所述第一面釉的施加方式为喷釉。一些实施方式中，第一面釉的比重为1.28～1.33g/cm3，施釉量为300～320g/m2。通过薄喷的方式施加第一面釉，具有较高平整度，同时起到润湿砖坯表面作用。如果第一面釉的施加量过多，会导致整体面釉层过厚不利于坯体气泡及时排出，釉层存在大量气泡。
[0026]在施第一面釉后的砖坯表面喷墨打印油性墨水。可根据版面利用设计矢量图形成效果网，并本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种暗雕装饰干粒全抛陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：在砖坯表面施作为颜色面釉的第一面釉；在施第一面釉后的砖坯表面喷墨打印油性墨水；在喷墨打印油性墨水后的砖坯表面施作为高白面釉的第二面釉；第二面釉被油性墨水拨开的位置露出第一面釉的暗色底色，第二面釉未被油性墨水拨开的位置由于第一面釉和第二面釉的叠加呈现高白效果，拨开结合暗色底色和高白效果的配色对此呈现立体的暗雕层次；在施第二面釉后的砖坯表面施透明釉促使透明釉覆盖在面釉层的剥开位置而具有亮面的仿真雕刻装饰；将施透明釉后的砖坯干燥，烧成，抛光，得到所述暗雕装饰干粒全抛陶瓷砖。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述第一面釉的基础釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：50～52%、Al2O3：29～32%、碱土金属氧化物：2.3～3.4%、碱金属氧化物：7.0～8.9%、ZrO2：2.9～3.5%；优选地，所述第一面釉还包括占基础釉的质量百分比3～8%的色料。3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述第一面釉的始融温度为1190～1210℃。4.根据权利要求1至3中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述第一面釉的施加...

【专利技术属性】
技术研发人员：潘利敏，覃增成，杨元东，范周强，张克林，黄秋立，
申请(专利权)人：蒙娜丽莎集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：