一种具有镜面浮雕装饰效果的陶瓷砖及制备方法技术

本发明专利技术公开一种具有镜面浮雕装饰效果的陶瓷砖及制备方法。所述制备方法包括：在砖坯表面施面釉；在施面釉后的砖坯表面施高折射率釉；在施高折射率釉后的砖坯表面喷墨打印图案；在喷墨打印图案后的砖坯表面施透明釉；烧成。所述制备方法通过透明釉层搭配高折射率物质促使釉面在不同角度下呈现浮雕成像装饰效果。果。果。

【技术实现步骤摘要】
一种具有镜面浮雕装饰效果的陶瓷砖及制备方法


[0001]本专利技术涉及一种具有镜面浮雕装饰效果的陶瓷砖及制备方法，属于陶瓷砖生产制造


技术介绍

[0002]建筑行业的陶瓷种类不乏奇多，随着消费水平的提高，市场上对于装饰效果陶瓷砖需求也随之增加。为了满足市场需求，陶瓷行业推出浮雕、立体、仿真质感面陶瓷产品，但是该类产品大多数以自然面为主，缺乏高贵感，易藏灰，后期不利清洁。
[0003]中国专利CN108727037A披露一种无光釉面的立体高仿真陶瓷砖及其制备方法，使用高压施少量的无光釉，结合喷墨打印撒上干粒，采用可控负压吸干粒熔块设备吸走多余干粒熔块，以获得高仿真的立体效果。该制备方法需要使用高精密的激光雕刻模具，装饰效果单一，生产成本高，且釉面易藏污不利于清洁。

技术实现思路

[0004]针对上述问题，本专利技术提供一种具有镜面浮雕装饰效果的陶瓷砖及制备方法，通过透明釉层搭配高折射率物质促使釉面在不同角度下呈现浮雕成像装饰效果。
[0005]第一方面，本专利技术提供一种具有镜面浮雕装饰效果的陶瓷砖的制备方法。所述制备方法包括：在砖坯表面施面釉；在施面釉后的砖坯表面施高折射率釉；在施高折射率釉后的砖坯表面喷墨打印图案；在喷墨打印图案后的砖坯表面施透明釉；烧成。
[0006]较佳地，所述面釉的始融温度为1100～1150℃，所述高折射率釉的始融温度为1180～1220℃。优选地，所述面釉和高折射率釉的始融温度差值为70～80℃。
[0007]较佳地，所述高折射率釉的折射率为1.87～1.92，所述透明釉的折射率为1.52～1.54。优选地，所述高折射釉和透明釉的折射率差值为0.35～0.38。
[0008]较佳地，所述高折射率釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：50～55％、Al2O3：6.9～7.7％、CaO：12～14％、MgO：0.1～0.3％、碱金属氧化物：3.3～5.1％、SnO2：0.8～1.0％、ZrO2：13～16％、Ce2O：3.3～3.8％。
[0009]较佳地，所述高折射率釉的比重为1.78～1.83g/cm3，施釉量为90～150g/m2。
[0010]较佳地，所述透明釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：46～52％、Al2O3：12～14％、CaO：6.9～7.8％、MgO：4.8～5.5％、碱金属氧化物：5.6～7.0％、BaO：6.7～7.4％、ZnO：2.5～3.5％。
[0011]较佳地，所述透明釉的比重为1.87～1.88g/cm3，施釉量为650～680g/m2。
[0012]较佳地，通过丝网印刷的方式施高折射率釉，所述丝网的目数为120～160目。
[0013]较佳地，最高烧成温度为1162～1167℃，烧成周期为93～98min。
[0014]第二方面，本专利技术提供上述任一项所述的制备方法获得的具有镜面浮雕装饰效果的陶瓷砖。所述具有镜面浮雕装饰效果的陶瓷砖的釉面光泽度为93～94度。
附图说明
[0015]图1为对比例1的陶瓷砖的砖面效果图。
具体实施方式
[0016]通过下述实施方式进一步说明本专利技术，应理解，下述实施方式仅用于说明本专利技术，而非限制本专利技术。在没有特殊说明的情况下，各百分含量指质量百分含量。
[0017]以下示例性说明本专利技术所述具有镜面浮雕装饰效果的陶瓷砖的制备方法。
[0018]利用陶瓷基料压制成砖坯。所述陶瓷基料的化学组成不受限制，采用普通陶瓷基料即可。一些实施方式中，所述陶瓷基料的化学组成可包括：以质量百分比计，烧失(IL)：4.9～5.3％、SiO2：64～67％、Al2O3：20～23％、Fe2O3：0.5～1.0％、TiO2：0.1～0.4％、CaO：0.3～0.4％、MgO：0.5～0.9％、K2O：2.2～2.5％、Na2O：2.9～3.2％、P2O5：0.03～0.09％。
[0019]将砖坯干燥。可采用干燥窑干燥。干燥时间可为1～1.2h。干燥后砖坯的水分控制在0.5wt％以内。
[0020]在干燥后的砖坯表面施面釉。面釉的作用是遮盖坯体底色和瑕疵以及促进喷墨图案发色。一些实施方式中，所述面釉的化学组成可包括：以质量百分比计，SiO2：49～51％、Al2O3：28～31％、K2O：4.8～5.7％、Na2O：2.5～3.4％、ZrO2：5.0～6.5％。
[0021]作为示例，所述面釉的化学组成可包括：以质量百分比计，IL(烧失)：4.0～5.0％、SiO2：49～51％、Al2O3：28～31％、Fe2O3：0.22～0.42％、TiO2：0.05～0.07％、CaO：0.5～0.9％、MgO：0.1～0.3％、K2O：4.8～5.7％、Na2O：2.5～3.4％、P2O5：0.2～0.5％、ZrO2：5.0～6.5％。
[0022]所述面釉的施加方式可为喷釉。面釉比重可为1.40～1.43g/cm3，施釉量可为500～600g/m2。
[0023]在施面釉后的砖坯表面施高折射率釉。所述高折射率釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：50～55％、Al2O3：6.9～7.7％、CaO：12～14％、MgO：0.1～0.3％、碱金属氧化物：3.3～5.1％、SnO2：0.8～1.0％、ZrO2：13～16％、Ce2O：3.3～3.8％。通过控制ZrO2和CeO2的含量以提高高折射釉浆的折射率，同时调控ZrO2的含量保证釉浆在高温状态下的稳定性。
[0024]所述高折射率釉通过ZrO2、SnO2、Ce2O等具有高折射率的物质来调节釉的折射率。这几种物质本身具有较高熔点。上述物质的含量过高会导致釉浆本身熔点温度过高，在最高烧成温度下无法达到熔融状态，导致高折射率釉装饰釉面的位置出现针孔、开口现象。这是因为坯体与面釉在高温状态下排出的气体通过高折射釉浆，釉浆本身没有达到熔融状态则无法填充因气体排出而出现的针孔、开口，会导致釉面存在针孔。加之喷墨层设计在高折射率釉的上方，被气体冲开会因为墨水覆盖而出现白点现象，造成产品釉面缺陷。一些实施方式中，所述高折射率釉的折射率为1.87～1.92。
[0025]所述面釉的始融温度为1100～1150℃，所述高折射率釉的始融温度为1180～1220
℃。优选地，所述面釉和高折射率釉的始融温度差值为70～80℃。控制面釉和高折射率釉的始融温度差值在上述范围，利于两者在同一温度范围内熔融，减少两者在高温状态下因熔融温度温差过大影响气体排放。
[0026]作为示例，上述高折射率釉的化学组成可包括：以质量百分比计，IL(烧失)：1.2～1.4％、SiO2：50～55％、Al2O3：6.9～7.7％、Fe2O3：0.15～0.22％、TiO2：0.80～0.97％、CaO：12～14％、MgO：0.13～0.28％、K2O：2.1～2.7％、Na2O：1.2～2.4％、SnO2：0.84～0.95％、ZrO2：13～16本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种具有镜面浮雕装饰效果的陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：在砖坯表面施面釉；在施面釉后的砖坯表面施高折射率釉；在施高折射率釉后的砖坯表面喷墨打印图案；在喷墨打印图案后的砖坯表面施透明釉；烧成。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述面釉的始融温度为1100～1150℃，所述高折射率釉的始融温度为1180～1220℃；优选地，所述面釉和高折射率釉的始融温度差值为70～80℃。3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述高折射率釉的折射率为1.87～1.92，所述透明釉的折射率为1.52～1.54；优选地，所述高折射釉和透明釉的折射率差值为0.35～0.38。4.根据权利要求1至3中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述高折射率釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：50～55%、Al2O3：6.9～7.7%、CaO：12～14%、MgO：0.1～0.3%、碱金属氧化物：3.3～5.1%、SnO2：0.8～1.0%、ZrO2：13～16%、Ce2O：3.3～3.8%。5.根据权利要求1至4中任一项...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢志军，覃增成，杨元东，曹国芹，黄秋立，郑贵友，
申请(专利权)人：蒙娜丽莎集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：