数码浮雕陶瓷岩板及其制备方法技术

本发明专利技术公开数码浮雕陶瓷岩板及其制备方法。所述制备方法包括以下步骤：在陶瓷岩板坯体表面施底釉；在施底釉后的坯体表面喷墨打印图案；在喷墨打印图案后的坯体表面定位喷墨打印窑变釉形成具有晶花效果的浮雕纹理；在喷墨打印窑变釉后的坯体表面施保护釉；烧成。该方法通过数码浮雕工艺与窑变釉结合，开发出一系列数码浮雕陶瓷岩板，板面立体感强，装饰效果丰富。丰富。丰富。

【技术实现步骤摘要】
数码浮雕陶瓷岩板及其制备方法


[0001]本专利技术涉及数码浮雕陶瓷岩板及其制备方法，属于建筑陶瓷生产制造


技术介绍

[0002]随着全球陶瓷行业进入飞速发展的大时代以及家装行业全屋定制的盛行，全国兴起岩板热潮，由此国内岩板形成百家争鸣的局势。目前模具面陶瓷岩板主要通过以下工艺实现：1、在平面砖坯表面辊筒印刷凸釉。此方式装饰效果相对单一，精细程度局限。2、喷墨打印雕刻墨水并施加保护釉。虽然可以形成立体雕刻纹理，但是会导致保护釉剥开。通常保护釉的高温粘度较大，为形成立体感强的雕刻纹理需要较高的保护釉施加量，但是这容易导致保护釉的透感和发色差，而保护釉的施加量低会导致雕刻深度浅而影响立体效果。3、通过传统模具压制形成模具纹理，开模成本高，优等率低。4、剥开底釉然后喷普通釉料，雕刻装饰效果同样单一。5.先打印精雕墨水并剥开面釉以在固定位置形成立体浮雕效果，然后喷墨打印图案和喷保护釉。虽然能够产生立体浮雕效果，缺点在于喷墨打印图案需要和坯体纹理进行精准对位，否则容易产生蒙花错位，另外仅依赖喷墨图案实现的色域相对窄，没有窑变效果。

技术实现思路

[0003]针对上述问题，本专利技术提供一种数码浮雕陶瓷岩板及其制备方法，该方法通过数码浮雕工艺与窑变釉结合，开发出一系列数码浮雕陶瓷岩板，板面立体感强，装饰效果丰富。
[0004]第一方面，本专利技术提供一种数码浮雕陶瓷岩板的制备方法。所述制备方法包括：在陶瓷岩板坯体表面施底釉；在施底釉后的坯体表面喷墨打印图案；在喷墨打印图案后的坯体表面定位喷墨打印窑变釉形成具有晶花效果的浮雕纹理；在喷墨打印窑变釉后的坯体表面施保护釉；烧成。
[0005]本专利技术所述制备方法通过数码技术定位打印窑变釉，相较于喷墨打印精雕墨水剥开底釉形成浮雕纹理而言，在很大程度上节约了窑变釉用量，且可以在局部定位实现晶花效果。又因窑变釉相比普通釉的烧成范围相对窄，能够避免烧成制度波动引起砖面缺陷，且定位打印窑变釉也阻止大面积打印窑变釉引入的釉面缺陷。
[0006]较佳地，所述窑变釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：40～45％、Al2O3：14～18％、碱土金属氧化物：23～29％、碱金属氧化物：2.5～4.5％、ZrO2：5.0～7.0％、F：2.0～3.0％。将窑变釉的化学组成控制在上述范围能够确保釉料在现有烧成制度下具有适合的高温粘度，能够产生相互融合的类似窑变效果。
[0007]较佳地，所述窑变釉的比重为1.60～1.80g/cm3，施加量为100～400g/m2。
[0008]较佳地，所述底釉的化学组成包括，以质量百分比计：SiO2：55～60％、Al2O3：21～24％、碱土金属氧化物：0.2～1％、碱金属氧化物：6.0～8.0％、ZrO2：6.0～10.0％。
[0009]较佳地，所述底釉的比重为1.25～1.40g/cm3，施加量为300～650g/m2。
[0010]较佳地，所述保护釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：43～48％、Al2O3：21～23％、碱土金属氧化物：13～16％、碱金属氧化物：4.0～6.0％、ZnO：5.0～6.0％。
[0011]较佳地，所述保护釉的比重为1.20～1.30g/cm3，施加量为150～200g/m2。
[0012]较佳地，窑变釉的始融温度为1080～1130℃；保护釉的始融温度为1100～1150℃；优选地，窑变釉和保护釉的始融温度差值控制在20～50℃。
[0013]较佳地，最高烧成温度为1180～1220℃，烧成周期为60～180分钟。
[0014]第二方面，本专利技术提供上述任一项所述的制备方法获得的数码浮雕陶瓷岩板。所述数码浮雕陶瓷岩板的规格可为宽600～1800mm
×
长1200～9000mm
×
厚6～20mm。
附图说明
[0015]图1是数码浮雕陶瓷岩板的制备流程图；图2是数码浮雕陶瓷岩板的喷墨打印窑变釉的文件效果图；图3是数码浮雕陶瓷岩板的板面效果图。
具体实施方式
[0016]通过下述实施方式进一步说明本专利技术，应理解，下述实施方式仅用于说明本专利技术，而非限制本专利技术。在没有特殊说明的情况下，各百分含量指质量百分含量。
[0017]以下示例性说明本专利技术所述数码浮雕陶瓷岩板的制备方法。
[0018]制备陶瓷岩板坯体。可通过干压成型制备陶瓷岩板坯体。陶瓷岩板坯体的化学组成不受限制，采用本领域常用的陶瓷岩板坯体配方即可。一些实施方式中，所述陶瓷岩板坯体的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：62～67％、Al2O3：20～25％、碱土金属氧化物：0.2～2.0％、碱金属氧化物：4.0～7.0％。例如，所述陶瓷岩板坯体的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：62～67％、Al2O3：20～25％、Fe2O3：0.06～0.10％、TiO2：0.1～0.5％、CaO：0.1～0.5％、MgO：0.1～1.0％、K2O：2.0～3.0％、Na2O：2.5～3.5％、烧失：4.5～6.5％。
[0019]将陶瓷岩板坯体干燥。可采用干燥窑干燥。干燥时间可为1～1.5h，干燥后坯体的水分控制在0.3～0.5wt％以内。
[0020]在干燥后的坯体表面施底釉。作用是遮盖坯体底色和瑕疵，促进喷墨图案发色。
[0021]所述底釉的化学组成包括，以质量百分比计：SiO2：55～60％、Al2O3：21～24％、碱土金属氧化物：0.2～1％、碱金属氧化物：6.0～8.0％、ZrO2：6.0～10.0％。例如，所述底釉的化学组成可包括，以质量百分比计：SiO2：55～60％、Al2O3：21～24％、Fe2O3：0.16～0.46％、TiO2：0.15～0.25％、CaO：0.1～0.3％、MgO：0.1～0.3％、K2O：4.0～5.0％、Na2O：2.0～3.0％、ZrO2：6.0～10.0％、烧失：3.0～4.0％。
[0022]所述底釉的施加方式为喷釉。所述底釉的比重为1.25～1.40g/cm3，施加量为300～650g/m2。出干燥窑的坯体温度较高，底釉的施釉参数控制在上述范围可以使板面喷釉后更加平整，这利于突出后续实现的浮雕效果。若底釉的施加量低于300g/m2，加之砖坯喷釉前温度较高，釉料在板面干得过快，造成喷釉后雾化的液滴在砖面形成凹凸不平的粗糙效
果。而底釉的施加量高于650g/m2则釉料在板面干得过慢，釉线设备运行过程中产生的震动易引起局部流釉而造成釉面不平整。
[0023]在施底釉后的坯体表面喷墨打印图案。喷墨打印图案的颜色和图案依据设计效果作适应性变化。
[0024]在喷墨打印图案后的坯体表面定位喷墨打印窑变釉形成具有晶花效果的浮雕纹理。这为版面提供浮雕效果的同时还增加版面的艺术美感。定位指可以根据实际需求依据喷墨打印图案纹理适应性调整数码打印用窑变釉文件而实现相应的局部装饰效果。根据图案纹理选择数码打印用文件是本领域已知操作，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种数码浮雕陶瓷岩板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：在陶瓷岩板坯体表面施底釉；在施底釉后的坯体表面喷墨打印图案；在喷墨打印图案后的坯体表面定位喷墨打印窑变釉形成具有晶花效果的浮雕纹理；在喷墨打印窑变釉后的坯体表面施保护釉；烧成。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述窑变釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：40～45%、Al2O3：14～18%、碱土金属氧化物：23～29%、碱金属氧化物：2.5～4.5%、ZrO2：5.0～7.0%、F：2.0～3.0%。3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述窑变釉的比重为1.60～1.80 g/cm3，施加量为100～400 g/m2。4.根据权利要求1至3中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述底釉的化学组成包括，以质量百分比计：SiO2：55～60%、Al2O3：21～24%、碱土金属氧化物：0.2～1%、碱金属氧化物：6.0～8.0%、ZrO2：6.0～10.0%。5.根据权利要求1至4...

【专利技术属性】
技术研发人员：潘利敏，邓来福，汪庆刚，王贤超，庞伟科，黄玲艳，
申请(专利权)人：蒙娜丽莎集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：