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本发明公开一种高耐磨渗花瓷质抛光砖及其制备方法。所述制备方法包括以下步骤：在坯体表面施高膨胀面釉；所述高膨胀面釉的化学组成包括：以质量百分比计，SiO2：60%～79%，Al2O3：23%～29%，碱土金属氧化物：0.2%～0.6%，碱金属...
该专利属于蒙娜丽莎集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过蒙娜丽莎集团股份有限公司授权不得商用。

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