改善接触孔图案化的方法技术

本发明专利技术提供一种改善接触孔图案化的方法，该方法中采用的液晶显示面板包含有一衬底，一导电层设于该衬底表面，以及一介电层设于该导电层表面。本发明专利技术首先于该介电层表面形成一光致抗蚀剂层，且该光致抗蚀剂层内包含有一孔洞通达至该介电层表面，接着进行一蚀刻工艺，沿着该孔洞去除部分的该介电层，以形成一通达至该导电层表面的接触孔，随后再进行一表面处理，于该接触孔底部的该导电层表面形成一保护层，以避免去除该光致抗蚀剂层时对下方的该导电层造成伤害。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术提供一种改善接触孔图案化(contact hole patterning)的方法，尤指一种包含有一表面处理工艺的接触孔制作方法。
技术介绍
液晶显示器具有外型轻薄、耗电量少以及无辐射污染等特性，已被广泛地应用在笔记型电脑(notebook)、个人数位助理(PDA)等便携式信息产品上，甚至已有逐渐取代传统台式电脑的显象管(cathode ray tube，CRT)监视器的趋势。在各式的液晶显示器中，薄膜晶体管(thin film transistor，TFT)型液晶显示器由于可用阵列方式主动驱动液晶显示面板上的各像素电极，因此格外受到各界的重视。在现今的薄膜晶体管(thin film transistor，TFT)工艺中，晶体管与其上的金属导线层间设有内层介电(inter-layer dielectric，ILD)层，用来隔离并保护液晶显示器面板上的电路元件，且ILD层内设有接触孔(contact hole)，使该金属导线层能填入该接触孔而电连接至下方的晶体管。因此，数据信号可藉由该金属导线层经由该接触孔内的金属导线层传送到晶体管的源/漏极，以进一步控制液晶显示器面板中各本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种改善一液晶显示面板中接触孔图案化的方法，该液晶显示器面板包含有一衬底，一导电层设于该衬底表面，以及一介电层设于该导电层表面，该方法包含有下列步骤：　　　　于该介电层表面形成一光致抗蚀剂层，且该光致抗蚀剂层内包含有一孔洞通达至该介电层表面；　　　　进行一蚀刻工艺，沿着该孔洞去除部分的该介电层，以形成一通达至该导电层表面的接触孔；　　　　进行一表面处理，以于该接触孔底部的该导电层表面形成一保护层；以及　　　　去除该光致抗蚀剂层。

【技术特征摘要】
1.一种改善一液晶显示面板中接触孔图案化的方法，该液晶显示器面板包含有一衬底，一导电层设于该衬底表面，以及一介电层设于该导电层表面，该方法包含有下列步骤于该介电层表面形成一光致抗蚀剂层，且该光致抗蚀剂层内包含有一孔洞通达至该介电层表面；进行一蚀刻工艺，沿着该孔洞去除部分的该介电层，以形成一通达至该导电层表面的接触孔；进行一表面处理，以于该接触孔底部的该导电层表面形成一保护层；以及去除该光致抗蚀剂层。2.如权利要求1所述的方法，其中该方法于去除该光致抗蚀剂层后另包含一去除该保护层的步骤。3.如权利要求1所述的方法，其中该方法于去除该光致抗蚀剂层后会再于该介电层表面形成一数据汇流线，且该数据汇流线部分填入该接触孔以电连接至该导电层。4.如权利要求1所述的方法，其中该方法于去除该光致抗蚀剂层后会再于该接触孔内形成一接触插塞。5.如权利要求4所述的方法，其中该接触插塞作为该液晶显示面板的一驱动晶体管以及一数据汇流线之间的电连接。6.如权利要求1所述的方法，其中该蚀刻工艺是一干蚀刻工艺。7.如权利要求1所述的方法，其中该蚀刻工艺是一湿蚀刻工艺。8.如权利要求1所述的方法，其中该表面处理利用一紫外光照射该导电层表面，以形成该保护层。9.如权利要求1所述的方法，其中该表面处理利用一含臭氧的水溶液清洗该导电层表面，以形成该保护层。10.如权利要求1所述的方法，其中该表面处理是一热氧化工艺。11.如权利要求1所述的方法，其中该表面处理是直接将该导电层暴露于外界环境中，静置约6至12小时以上，使该导电层表面发生氧化，以形成该保护层。12.如权利要求1所述的方法，其中该表面处理利用一含氧等离子体氧化该导电层表面，以形成该保护层。13.如权利要求1所述的方法，其中该导电层是一多晶硅层。14.如权利要求1所述的方法，其中该导电层是一非晶硅层。15.如权利要求1所述的方法，其中该保护层是一个硅氧层。16.如权利要求1所述的方法，其中该方法利用一碱性溶液去除该光致抗蚀剂层。17.如权利要求1所述的方法，其中该保护层用来避免该导电层于去除该光致抗蚀剂层时受到损害。18.如权利要求1所述的方法，其中该导电层作为该液晶显示器面板的一驱动晶体管的漏极或源...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡耀铭，
申请(专利权)人：统宝光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]