【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种面向工艺移植的晶体管级的集成电路优化技术，更具体地说，本专利技术涉及将在一种集成电路工艺上设计好的晶体管级集成电路自动优化为适合另一种集成电路工艺的晶体管级的集成电路的
技术介绍
在对集成电路进行工艺更新时，需要在保证电路性能指标的前提下，将过去设计好的集成电路优化为新工艺条件下的集成电路，使面积最小。它包括晶体管级电路的移植和物理版图级的电路移植两步。直接面向工艺移植的物理版图优化技术根本就不可能实现，它必须经过晶体管级电路提取、晶体管级电路优化和物理版图的重新生成这三步，因此面向工艺移植的晶体管级集成电路技术特别重要。晶体管级电路移植时的面积最小化反映为电路的物理尺寸参数最小化，这种晶体管级电路重新设计自动化技术对数字电路而言已经比较成熟，对模拟或射频电路和混合信号电路的重新设计尚处于探索阶段，现在模拟或射频集成电路和混合信号集成电路的重新设计主要是依靠设计人员的手工完成，新电路的性能严重依赖于设计人员的经验，设计周期长，且容易出错。现在也有一些晶体管级的电路自动优化工具可以部分实现面向工艺移植的重新设计功能，但这类工具主要采用等...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.面向工艺移植的晶体管级集成电路物理尺寸优化方法，该方法包括以下步骤①电路划分；②电路单元优化；③电路整体优化；④电路的验证。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述的步骤①电路划分包括下述步骤(1)将电路划分为数字电路和模拟或射频电路，(2)将数字电路划分为基本门电路，(3)将模拟或射频电路划分为信号电路和偏置电路，(4)将信号电路进行信号流分析得出每一关键信号的路径，(5)将匹配信号路径例化为同一子电路，(6)将整个电路进行层次化重组，(7)将每一子电路划分为若干基本电路单元。3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述的步骤②电路单元优化包括下述步骤(1)基于晶体管级的门电路库或解析式对基本门电路进行优化，(2)基于解析式的基本单元电路的优化，(3)基于新工艺晶体管级电路单元库的复杂电路单元优化。4.根据权利要求1或2所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：张鹏飞，张锡盛，吴玉平，
申请(专利权)人：北京艾克赛利微电子技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。