【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种压力传感器及其制备方法,特别是一种固态压阻式耐高温压力传感器及应用高能氧离子注入(SIMOX)技术制备硅隔离(SOI)固态压阻式硅杯结构耐高温压力传感器芯片的方法。
技术介绍
目前,国内外压力传感器一般采用充硅油、陶瓷隔离、溅射薄膜、半导体体硅技术等。其中充硅油、陶瓷隔离技术的压力传感器,由于硅油或陶瓷介质材料等因素的影响,其传感器的耐高温特性较差,一般工作温度在10~100℃范围内; 溅射薄膜技术方法制作的压力传感器,因为其弹性元件的影响,降低了传感器动态特性指标,同时在高温环境下,因弹性元件存在热膨胀从而产生附加的热应力,影响了溅射薄膜传感器的精度;半导体体硅技术压力传感器,虽具有体积小、灵敏度高等特点,但由于其测量电路与硅基底之间的PN在环境温度升高时存在漏电流的影响,当工作温度达到120℃以上时,传感器就无法工作,从而造成传感器不能在高温条件下工作的局限性。
技术实现思路
本专利技术的目的在于解决上述传感器存在的技术缺陷,提出一种,以提高压力传感器的耐高温性、稳定性以及测量的灵敏度。本专利技术的内容是改进压力传感器的组成结构及采用高能氧 ...
【技术保护点】
一种固态压阻式耐高温压力传感器,由基座[1]、压阻芯片[3]、压焊引线[5]、上盖[6]及连接电缆[7]组成,其特征在于还包括有玻璃环[2]、电路转接板[4]; 上述的压阻芯片[3]设计为倒硅杯状结构并装在传感器的玻璃环[2]上,玻璃环[2]与基座[1]连接,压焊引线[5]通过电路转接板[4]与连接电缆[7]连接。
【技术特征摘要】
1.一种固态压阻式耐高温压力传感器,由基座[1]、压阻芯片[3]、压焊引线[5]、上盖[6]及连接电缆[7]组成,其特征在于还包括有玻璃环[2]、电路转接板[4];上述的压阻芯片[3]设计为倒硅杯状结构并装在传感器的玻璃环[2]上,玻璃环[2]与基座[1]连接,压焊引线[5]通过电路转接板[4]与连接电缆[7]连接。2.一种固态压阻式耐高温压力传感器芯片的制作方法,其特征包括下述步骤a)、在(100)单晶硅上的表面下0.2μm深处用高能氧离子注入法形成0.35μm~0.45μm厚的绝缘SiO2层;b)、用气相淀积技术外延上层单晶硅厚度至1.5μm~2.5μm;c)、采用低压气相淀积外延应力Si3N4匹配层厚度0.12μm;d)、用掺杂和等离子体刻蚀方法制作凸出SiO2隔离层表面的桥式电路;e)、通过钛-铂-金梁引线法将凸出部分连接成惠...
【专利技术属性】
技术研发人员:蒋庄德,赵立波,赵玉龙,王立襄,
申请(专利权)人:西安交通大学,
类型:发明
国别省市:87[中国|西安]
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